JPS5951255A - 陽極酸化アルミニウム又はアルミニウム合金表面の封孔処理 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 枝１１１分野 本発明＆：Ｌ　％　Ｎ’２極酸化アルミニウム又はアル
ミニウム８金（好ましくｋ」、アルミニウム）表面の封
孔を改碧する方法にＩＪｌ」ずる。

｛・を来技術 熱い脱イメン水又は蒸留水（約９８℃）に浸漬すること
により陽極酸化アルミニウム又はアルミニウム合金表面
を封孔するととＩｔＪ普通である。この」、１孔プロセ
ス後においてのみ、そのような表面は最適なＩＩＩｊｊ
Ｌも食性を保持し、また着色されている場合に番１、最
適な口元及び耐候堅牢度をイ：Ｉる。工Ｊ孔ＩｔＪ’．
　Ｉｎ化フィルムの利水、多分は化アルミニウム（Ａｔ
ｚｏｓ）のべ−一ン・イト（Ａμ）［０１１））への変
成、を自゛む。同時に、表面に暗色を生ずるので！１５
゛に望゛ましくないようム、１スマツｔ・Ｊ　（ｓｍｕ
ｔ）ノレ成として知らｔｌるｉル抜層を形成ずる傾向が
ある。このスマット形成は形成されたペーマイ１・を不
安定にし、表面の艶を消失さす易い。促って、通常はこ
のスマットにシの形成を妨けるための削を添加する。こ
れｔ，　ノ剤ｋｉアルミニウム又はアルミニウム台金表
面上に」１１４積しやずく、封孔表面の品質に悪影η？
４与えずに完全にスマットの無い封孔をイ［１ることけ
一般には不可能であった。たとえ最適にＩＪ孔された表
面がイ｛１られても、このようし（７処Ｊｌｌされたア
ルミニウム又はアルミニウム合金は層夕１）、（１、”
１・｛によシ表面の黄変が生じ易い。これは未着色のア
ルミニウム又はアルミニウム合金でｉｔ明Ｈ，（に１ｊ
められ、ヒ（９面が染料又はピグメントで着色されてい
る１７１５合には望ましくない変色を起すことがある。

史に　４Ｂ７られる結果は過剰のスマッＩ・防市剤に鋭
敏である。とれは、面全体に最適ｔ；サ度を保持−Ｊる
ことか必ずｌ７も可能でない．【う人、大きな処理浴に
おいて特に問題を生じ、］、１孔１ｊ′１が悪影７ｉ１
！を受ける（二．とと在る。

発明の棚．要 本発明は、！１ロ−に刺孔品質、面１食性、ｉＮｉｌ候
性及び低スマット形成に関する優れた表面’１ｌＩ１・
１，、用・びに：？−＋１収率及び処理浴の長寿命を与
える、１反良さ７１．７７月封孔ロセスを提供する。濃
Ｉリの変動に対ず７）感性が低下するｔ（めに、吸尽さ
れ表処理浴に新たに楯剤ｆ添加するときに十分な余裕の
安全性が１）られる。　　。

（・シって、本発明を１．１〜１）極ｒｊｉ：化アルミ
ニウム又を１アルミニウム合金表面を封孔処理する方法
を提供するものでちって、この方法はスマット層の形成
を１νＪ止するだめのスマット防止剤の存在下に前記表
面を４′、を孔するととを含み、前記スマット防止剤は
少たくとも３５０の分子ａを壱し、１）少なくとも１個
のスルホン酸基及び旧ともに芳香族環に結合しかつ同一
の芳香族用土において互いに他とメルノの位置にあるカ
ルがキシ基及びヒドロキシ基を含む、無色の、１ｌｉｉ
Ｉ光堅牢性の、重機化合物である。

発明の構成の具体的６（λ明 好ましいアルミニウム０・金は、少なくとも８０止れ１
俤、更に好ましく裔１．少なくとも９０亜■チのアをミ
ニラムをＴ’＋’　ｂ−０ 「耐光堅牢性」（もしくは日光堅牢性）なるｆｆ７ｉは
、化合物が、１０〃ｚ！７／ｌの化合物及び浴のＰｕを
５，５〜６にするための根跡１，１の酢酸を含む熱水の
封孔浴中において、陽極酸化未着色アルミニウム片に対
して、アルミニウム片の表面上の酸化物層μｔＩＩ当シ
ｌ〜３分の間、適用された場合に、処理表面が英国規準
（Ｂｒｉｔｉｓｂ　５ｔａｎｄａｒｄ）１６１５　：　
１９７２、Ａｐｐｅｎｄｉｘ　Ｎに従い、紫外アークラ
ンプに５１．’１ｌｉｉｌ暴露した彼に、何らの明瞭な
黄変も示さないということを意味する。

本発明の方法に用いるのに好ましい化合物し）、下記式
Ｉで示される化合物である。

上式中、Ｒは水素、−ＣＱＯＩｉ又は−８０５１３を表
わし、２は−ＮＩＩ−１−ＣＯ−１−ｓｏ　２−又ｔ’
Ｊ：　（ＣｌＩ２入＋ｌ　（ｔ　ｒ、　’１：、Ｉｌｌ
は１〜６の部数を表わす）を表わし、ＡをＪｎｎｌｌｉ
の有機橋架は基を表わし、ｎは分子ｂ１が少なくとも３
５０になるような、１〜８の整数をｉｌ、シわす。

１１〉１である場合、各Ｒ及び各２は、それそ“れ、２
同一のもしくは相異なる意味を有していてもよく、ベン
ゼン頂上の同一のもしくは相異外る位１行にあってもよ
い。

基２は基Ａの炭素原子に直接結合しているかヌは基Ａの
一部とともに基−ＮＨ−ＣＯ−１−ＣＯ−ＦＪｆｌ−１
−８Ｏ２−Ｎｌ（−又は−ＮＴ（−ＣＯ−ＮＨ二を形成
し、各場合にこの基の左側のｆ、１５分１１．基２に相
当し、との基の右側の部分は基Ａの一部に相当する。

Ｒは好ましく曇、１水素又は−８０，１１でおる。

２は好ましくをｊ、−ＮＨ−又は−８Ｏ２−１更に好゛
ましくは−Ｎｌｌ−である。−ＮＩＩ−と［７ての２は
好′ましくけ−ＯＩ（基に対してオルソ又は／４う位に
あシ、−ＳＯ□−としての２は好ましくは〕’ｌｌう位
にちる。−８０３１１としてのＲは好ましく壷１−〇Ｈ
基に対してノ４う位にあυ、この場合Ｚ　ｔ、ｌ：好ま
しくれオルソ位にある。

ｎは好ましぐは１〜４、更に好ましくは２又は３である
。

ｎ　）　１である場・８、大かっこ内の基Ｉ−Ｊ好ま１
．＜は１司−であ、乙。

好“ましい化合物ｔ１１、大かっこ内の基が下記の基ａ
）〜ｄ）から鳶ばれるものであシ、これらの基のうちで
は基ｌＤ％　Ｃ）及びｄ）が好ましい。

ＯＩＩ　　　　　　　　　　　　　０１１ｉｌ 適当ガ橋架は基Ａは、基ａ）、ｃ）及びｄ）が！Ｉ１１
ンに又曇：ｊニーＣ０−１−ｔｑｔｔｃｏ−又は−８０
２−基を介して結口していてもよい脂肪族鎖又杜複）：
（環もｔ、　＜　ｔ、Ｌ芳香族環、及び基ｂ）が−ＮＨ
−基を介［７て結合していてもよい芳香族アミン残基を
含′む基を含む。

適当な芳香族：＆素坂糸は・トリアジン、ソアジ／、ピ
リダジン、ピリミジン、フタラジン、キナゾリン及びギ
ノクサリンを含む。適当な炭素倶式芳香族猿はベンゼン
環、及びソフェニル及びす７タレン基をぼむ。

好ましい基Ａは下記式〇〜ｙ）で示さＪＩもノー：であ
ろ。

ＣＯ−９− ある）、Ｉｔ２（−ＮトＣＯ，）−、，１（Ｖ）　（ｊ
　ｊで１．％ｌ：２ヌ３であり、１尤２は、ｊ？リメチ
ｌ／ン基又ｔま一又ｏ１三価のベンゼン、メチルベンゼ
ン、ジフェニルメタン又４１ｊ　ｗ）、Ｘ）及びｙ）＆
、、、］、基ｅ）〜ｓ）と１１Ｉ合さノ１て−Ｆ　ｊｔ
１４、の如き基を形成してい℃もよく、そのような基に
おいて基ｗ）、ｘ）又はｙ）よ名末端に基ｅ）〜８）か
ら選ばれる１個の基をイｊし、それらは同一であっても
相異なっていてもよいが、同一であるのが好゛ましく、
その場合末端基を１基Ｚに結合している。このよう々基
のうちでｌ：ｔ、、　　ｚ）及びｚｌ）が好ましい。

基Ｃ）〜マ）からＥ）：１ｊ１１る髭Ａｔよぞの自由片
予価の全部よりも少在い数の（しかし、好ましくは１飼
より多く々い）自由原子価上に下記α）〜δ）から選ｉ
１’れる水ｉ■溶化ノ、１−を２１」シていてもよい。

Ｊ−４、下、？、白 Ｊ＋Ｉ′：ｅ’＞〜ｕ）、２）及びｚｌ）から選ばれる
基Ａ　＋：Ｊ：　ｌの自由月１子価の全部よりも少ない
数の（しかし、好ましくは１個より多くない）自由原子
価上にハロタ゛ン（即ち地素又ｔ−Ｌ臭素、好゛ましく
はＪ−１’ｌｌｔ素）！・Ｌびヒドロキシから、ｄげれ
る。ｌ＋’；を、イｊする。但し、−Ｃ□−又＆−ｊ−
、、−８Ｏ２−基に結８している自由１う１アゴ曲口ハ
ロ〉゛ン基を有していといものとする。

基ａ）、Ｃ）及びｄ）は、ｅン〜ｖ）、及び２）及びｚ
＋）の如き基、並ひに前述しｌ（ような１ｊＩ　１ｔＬ
山基α）・〜δ）及び／又はハロク゛ンもＬ　＜　ｌ：
、）ヒドロキシ（１；をイＪ゛）゛る、！古から選げＪ
する々了ましいＡ基といっしょになっていてもよい。ｌ
、かじながら、基ａ）及びｂχｔスルホン１；：゛ノ、
（、をｒ５’　Ｔｔ：ないので、これらは基ｃ″）ｙ、
けｄ）も存在する場合又は基Ａがスルホン酸基を含む場
１１例えしよ、基β）又はδ）を含む場合、にのみ存在
し得るＯ Ｑ＋”’　ｂ）はＷＣｌり及びｙ）から選ばれる好まし
いＡ基といっしょになっていてもよい。

史に好ましい基Ａは基ｅ）、ｌｃ）、ｌ）、ｎｌ）、１
１）、ｐ）、ｑ）、ｒ）、Ｂ）、ｔｌ）、ｔ２）、Ｕ）
、マ）、Ｘ）及びｙ）、特に基ｅ）、ｔｌ）、ｔ２）、
Ｕ）、Ｖ）、Ｘ）及びｙ）から選ばれる。特に好ましい
基をよ基りである。

本発明に用いるのに好ましい化合物は、式！において基
Ｃ）及びｄ）がＣ）、ｔｌ）、ｔ２）及びＵ）から選ば
れるＡ基といっしょになっている化付物及び基ｂ）がｘ
）Ｊびいから選ばれるＡ基といっしょになっている化合
物でろｚｌｏ 式Ｉの化合物を１、少りくとも３５０の分子祉を崩して
いなげればならない。好ま［７い化合物は５００〜１５
００、更に好ましくは６００〜９００の夕）・子量を有
する化合物でちる。

式Ｉにおいて大かっこ内の基が基ｂ）、ｃ）及びｄ）か
ら選ばれ、Ａが１個又はそれ以上の、Ｔ３］溶化基αト
δ）、ハロケ゛ン及びヒドロキシ基から選ばれる基を有
する基ｅ）〜ｚ１）のうちの１つである化合物番１新規
である。好ましい新規化合物ヲ：１、基Ａが基α）−（
又はハロゲンもしくはヒドロキシ基を４４してい々い化
合物、特に本発明の方法に対して好′ましいものとして
前述した化合物である。

式■において大かつこ内の基が７ｉｊ；　ｂ）であり、
ＡがＷ）、ｘ）及びｙ）から選ばｔする基である化合物
ヲ、１１、下記式■ ＩＩ で示される化合物を下１１シ式、 デ０６ＩＩ で示される化ａ物と反応させることにょシ製造すること
ができる。

式■において大かっこ内の基が基Ｃ）又はめであシ、Ａ
が。）〜ｕ）、ｚ）及びｚｌ）から選げれる基である化
０物は、下記式■、 （上式中、Ｘが−ＳＯ３Ｈテ、ＹカーＮＩＩ　２　’Ｃ
４ルか又ｔｊＸが・曲■２であり、Ｙが一８０５Ｈであ
るかのいずれかである） で示さｔする化合物を又ｔよ式ｍの化合物の両名に−い
っしょに又ｔま順次に、式Ａ−（ＩＩ　ａ　１　）ｎ　
（式中、Ａ？１前８１シリ（、定に同一のものを表わし
１．ＩＩａｌは塩素又は臭素を表わす）で示さノする化
合物又＆ｊその混＠、！ｌ勿と反応させることにより製
造することが−で・きる。

不完全な反応はＡが１個又Ｖ１それ以上のハロケ゛ン基
又は、加水分解後に目、ヒドロキシ基ノ！（を有する化
合物を与える。

基Ａが可溶化基αトのを含む場合、対応する式Ｉの７ヒ
金物は、式Ａ−（Ｉｌａｌ　）、１（式中、Ａ＆Ｊ：ｅ
）〜ｕ）、　　＊’）又は２１）から選ばれる）の化合
物を、同り＋ｉに又は、打−ましくけ、順次に、１種又
Ｕそ１１以上の式■の化合物及び１　ｓ又はそれ以上の
下ｒａ”、式■及び／又＆Ｊ：　ｖ　。

（土５（：中、ｒ＆月又をＪ２を表わし、９１１回−で
あっても相異なっていてもよく、それぞれ−（：’（１
０１ｊｙれ一８０３Ｈを表わす） で示さ１する化合物と反応さｔｊ−ろことに、ｒす９唱
４Ｉ＜するととができる。

これらの反応は、１１Ｃｔ又Ｉ１．’　ｌ１ｌｌｒの１
（１，去を１につて進行し　ｅ；ｊ準の方法により、例
えば、ハロク゛ン化水累を吸収さ−するだ、めの塩基の
存在下に、水性又け４Ｊ機溶媒中で、実施することがで
きる。

式■において人かっこ内の基が基Ｃ）又はｄ）でおり、
Ａが所望により可溶化基を有する基Ｖ）である化合物は
、式Ｒ２（Ｎ−Ｃ＝Ｏ）　ｎ、で示されるソー又はトリ
ーイソシアネー　トを式■の化合物一方又は両方及び、
所望によシ、１釉又はそれ以上の式■又は■の化合物と
反応させることによシ製造することができる。適当なイ
ソシアネートは１．４〜テトラメチレンジイソシアネー
ト、１，６−へキサメチレンジイソシアネート、ジフェ
ニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、トルエン−
２，・１もしくは２．６−ジイツシアネー１．１−メチ
ルベンピン−２、＝１　、　（ｉ−）ジイソシアネート
、ベンゼン−１＋　：Ｊ　ｔ　５−１リイソシア；ｉ、
−ト、ナフタレン−１，５−ソ・インシアネート及びフ
ェニレｉ１．４−ノ・ｒンシアイートをａむ。

式■の１１０の出自物番１公知でφ）るがノーは公知０
化合物と同様にして標準の方法で製造−ノーるととＬＪ
）できるものである。

スマッ！・防止剤を用いるアルミニウムの刺孔プロセス
はよく知られている。本発明に係るスマット防止剤を用
いる場合、このプロセスＶ１．２工程プロセスとして実
施することができ、これｔＪクロム酸塩又を、ｊニッケ
ル及びコバルトのＪＷ４　（好ま１〜＜＆１酢醒ニック
゛ル及び／又はコバルト）がイ■在するｔ１゛５Ｉの工
程と引続く、金用用の介在し７ない後接理工Ｉｌｌとを
含む。あるいは、そのような金Ａ・１１１１の存在下に
又はその介在なしに単一工程プロ七スを月１いると−と
もできる。好ましくは、本ジ［、明のスマット防止剤は
、重金属０式の不存在下に、即ち、金、Ｆｊｔ塩を１〜
まない１工程プロ七スで、又は金属ＪＭが第１の工４ν
に用いられるような２工程ノロ七スの第２の工程で、用
いらｉする本発明に係るスマット防止剤、好゛ましく番
１式■の化合物をま、好ましくは、１〜１００ｍ９／、
ｅ（０，０００１％〜旧）１チ）、更に好ましくｔ１２
〜５ｏ　ｍ（１，／ｌ　％　％に５〜２０１ＩａＩ／ｌ
の水中破瓜で用いら、／する。：ＬＪ孔け５０℃〜沸点
ｑ稿１１反、好ましく曇１，７０２℃〜沸点の温瓜で実
施することができ乙。−し１好寸しくけ４５〜８、更に
好ましくけ５〜７、特に５．５〜６５であり、酢酸アン
モニウム又は仙の適当なバッファー系を用いて通常の方
法でｆｉｌ！、Ｉ　にくすることができる。

下記の例を１、本発明を更に説明するだめのものである
。

ｌ二ｊ−旨白 実施例１ ２２６　ｇ）水、６００ｇの氷、ｏ、ｉｇの表向活１！
１剤及び３２．５ｇの倣粉状の加化シアヌル（２，４゜
６−ドリクロロー１．；う、５−トリアノン）の軒濁物
を、−２℃〜＋２℃に温度を維持して攪拌し、同時に１
２６ｇの３−アミノ−２−ヒドロキシ−５−スルホ安息
香臥を添加する。３０〜４５分間以上、１５％の苛性ソ
ーダを徐々に加えて、このＰＨを３．５まで上けたら、
この混合物をこの−ＩＴｊＯ〜３℃で２．５時間攪拌す
る。その抜、必散に応じて１５％の苛性ンーグを加えて
ＰＩＩを３．５に維持しながら、温度を１．５時間以上
かけて４５℃に−Ｆける。この混合物を３０分間４５℃
に保った後、４５分間以上をかけ−Ｃ８０〜８２℃に７
ＪＩ＋熱し、が終的にｐＨ３，５で４時間、８０〜８２
℃で撹拌を行なう。

この反応は、すｌ！、硝酸１１ｇ１定を行ない、未反応
のアミンが２〜４ｇのみ残っていることが示された１１
．’１点をもって終了とり、／ｌ：す。

反応終了ｆノもこのＩＡＩをｍｌ塩市て２５１で下げて
晶出した生成物を、室幅捷で煽動した直後、ろノ１１−
＾し、２Ｎの酢田パで洗浄し、乾燥させる。

わずかに灰白がかった白色の生成物（１３０，５ｇ）が
イ！ｔられ、この生成物は高圧液付クロマトグラフィー
によって決定ネれた２　＋　４　＋　ｂ　−トリス［２
−メキシー３−カルボキシ−５−スルホ−７エニルーｊ
ε）］−１，３，５〜トリアノンを１　（１７９バんで
いる。

実施例 ３５、８９の微粉状の塩化テレフタロ・イル治−含む攪
拌野濁物に対して、２２６ｍ／の水、６００１９の氷及
び０１１／の懺（２）活性剤を０℃まで冷却して４２、
Ｏｆ９の３−アミノ−２−ヒドロキシ−５−スルホ安態
杏敵に加え、この−１を１５チの背信ソーダ７テｉ液を
滴下して添加し３．５に調整する。この混合り勿を、１
（１１蛸酸簡定して残留するアミンの含有がが０８ｙを
示すまで、このｐｌ（で：３℃で１時間、３〜１゛８℃
で２１１＃ｌｔｌ＋、１８〜２６℃で２時ｊｌｉｌｑ拌
する。

この反応生成物をｐｔｌ　３〜８．５で、３時間２６〜
３３℃で、１時間７０〜７６℃で加水分）弄し、この溶
液をろｊ１φし、ハ塩酸でｐＨ２，５まで「Ｉ々性化す
る。

室温で晶出する生成物をろ過し、２Ｎの酢酸で洗浄し乾
燥させると、５４．４９の次式に示す４−（２−オキシ
−３−カルｓｆキシー５−スルホーフェニルアミノカル
ｒニル）安息香酸を官有するわずかに灰色がかった白色
の生成物５９．８ｇを得る。

０　ＳＨ 実施例３ ２６．５５９の塩化１．３．５−ベンゼントリカルｄζ
ン削、６９．９ｇの３−アミノ−２−ヒドロキシ−５−
スルホ安息香酸、１８０＃Ｉ／の水、４００ｇの氷及び
０．１°９の人血活性剤を含む懸濁物を、０〜５℃で３
時間以上をかけて１５％の苛性ソーブ供液を滴下して加
えることによりＰｔＪを３．５にｈ９整し、その後２時
間４〜１８℃で攪拌を行なう。

このｐ）１及び温度を徐々に上けていき、この混合物を
１時間ｐ）１５．０．４２℃で撹拌し、次いで−７，０
〜７．５、同を晶で撹拌する。最終的にこの反応生成４
、％、、＋をＩＩＣ／−で酸性化してＪｌ′Ｌ膚（１し
、ろ過し、２Ｎの酢酸で洗浄して乾燥させると６０３ｇ
の次式で示す１．３．５−）リス〔２−オキシ−３−カ
ルボキシ−５−スルポーフェニルアミノカル、１／ニル
〕ベンゼンを官有する７　０．４　ｇのわずかに灰白が
かった白色の生成物を得る。

実極し１１４ ａ）４６４ｍ／のクロロ硫酸に対Ｉ７て、十分な撹拌を
行ないながら１４６．８１１のザリチル酸を徐々に添加
し、その混合物を２時間４５℃で（Ｃ）拌する。次いで
この混合物を６．０　（１９以上の氷に？［いて１５分
間攪拌した後、とのル応生成物、これは前ｊＭＬのＢ式
のものであるが、これ丘ろ過Ｌ７．６　（１０ｍｌりの
冷水で洗浄する。

ｂ）　　ａ）の生成物を３０分以上をがけて３３．４　
Ｉｉの４．４′−ノアミノ−１，１′−ジフェニル−２
，２′−ジスルボンＭの水溶液に加え、これによりこの
、１１を３．７に落とす。４０チのギ酸ナトリウムを添
加した後に、サリチルスルボン酸を沈殿させ、ろ過で除
去する。このろ過（１００ｍｌ）ＩＩ次式 で示される５７ｇの軸合生成物を含４ｉ’Ｌ、１．４に
鞘泗することがしに適当な相釈でスマットｌ！７ノ、＋
Ｌ剤として用いることができる。

実施例５ ５０ｍ／アセトン中に５．５　ｒｎｇのへキサメチレン
ツインシアナートを含ｔ＋供液を、１５分以上ケかけて
、１００ｍ１の水の中に１１，７ＪＩの３−アミノ−２
゛−ヒドロキシ−５−スルホ安息香ｈＶをよむ溶液に詞
下して加え、Ｃう一苛任ソーダ浴液でｐｌＪ　ｌ　Ｏ〜
１１適用例Ａ ａ）陽極酪化及び着色 ５０　Ｘ　５０　Ｘ　（１，５＋ｎｍの寸法のアルミニ
ウム機（Ａｌｕａｕｉｓａｅ　　＋　　Ｐｅｒａｌｕｍ
ａｎ　　ＰＥ　　１１１１．２４　　）　　を、　１白
流／（ｊｉｆｆｉ　Ａｌｌグセスにより２（１’±０．
５℃において１２〜１３μｍの酸化層に陽極酸化し、ア
ルメカラープロセス（Ａｌｍｅｃａｌｏｒ　ｐｒｏｃｅ
ｓｓ　）に（ｉｌｉ　って、ｈＬ７４浴液中で直流を用
いで、中間的なブロンズ色に箪ルｊ・ｒＡ色した。

以下、こで白 ｂ）封孔 潤色された試験片を、１０　ｍＶ／　＃の実施例１の化
合物を含み、酢醒／アンモニアでｐ）１５．７〜５．８
に唐整した脱イオン水の封孔浴中で、節点において３０
分間（２，５分／μｍ）封孔【、た。浴の吸尽のために
、スマットが認められｔまじめたときに、府に史に１ｏ
−ｎｙ／ｉの実施例Ｊの化合央りを補給１〜たＯ 収率ｉ、１（１＃ダの化合物を用い−Ｃスマットを生Ｉ
Ｊｋすることなく封孔することのできたアルミニウム表
面のｄｍ”の単ｔ）で測定した。［（（れた結果が得ら
れた。

］・１孔品質を１８０３２１０に従って測定した。過剰
のスマットＩＳす！ヒ剤化合物（５（ＨＩＰ／Ａ〜びｔ
ｏｏｔ塾４）を用いた場合にも、優れた結果が倚られた
。

回置に艮好な結果が例２〜１４の化合物を用い−Ｃも得
られる。

以下７１了１ 手続補正書（自発） 昭和５８年　９月１９０ 特許庁長官　若杉　第１１　夫　殿 １、事件の表示 昭和５８年　特許願　　第１４２６６６　号２、発明の
名称 １１！　他ｔｆ化アルミニウム又はアルミニウム合金六
面の封孔処理 ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 名称　　ザンド　アクナエンゲゼルシャフト４、代理人 （外　４　名） ５、補止の対象 （１）明Ｉ１．ｉｌｌ書の「特許δｌ’ｌ求の郵１ノ１
１Ｊの他（２）明ｈｉｌｌ　Ｗの「発明の詳細な説明」
の（（９（６、補正の内容 （１）　　特ｉｆ″１；ｔ６求の範囲を別４Ｊ（の辿り
袖ＩＥする。

（２）明ＩＹ、ｌｌｌ　’＋’ｊ第２４Ｆ１、最十段、
左１１１１１の式をＦ記の辿りに補正する。

Ｓｏ、１（Ｊ ７、添附４類の目録 補止特Ｈ゛ト請求の範囲　　　　　　　　１通以上 ２、特許請求の範囲 １、下ｂピ式１で示される化合物 上式中、大かっこ内の基は下記の基ｂ）、ｃ）及びｄ）
、 から選ばれ、ｎは１〜４の整数を表わし、人（Ａは（１
）下記の基ｅ）〜２．）、 ０ （ｔｌ）、　　　　（ｔｔ）、　　　　　　（ｔｓ）。

−Ｌ；−（Ｌ；１１．）ｐ−ｔ；−（ｕ）　　Ｌ　ＣＣ
Ｔ、１）　＆−Ｉ　Ｏ又（・−１１〜６である）、Ｒｒ
−４ＮＨ−ＣＯｉ　　（Ｖ）　（ここで、ｎｌは２又ｉ
ｔ３であシ、Ｒ１はポリメチレン基又は二又は三価のベ
ンゼン、メチルベンゼン、ジフェニルメタン又はナフタ
レン残基を表わす）、ｓｏｓＨ（ｗ）、　　　　　　５
ＯｈＨ（ｘ）。

Ｓｏ、　ＩＴ ＳＯ３ＨＬｚｌ　）　ｒ （１１）それらの全部よりは少ない数の自由原子１ｉ１
１ｉ上に下記のα）〜δ）から選はれる水可溶化基を有
する基ｅ）〜Ｖ）、２）及び２＋）、 Ｎ［［（戸（ α）　　−ＯＨ）。

（川）それらの全部よりは少ない数の自由原子価上にハ
ロゲン及びヒドロキシから選ばれる基を有するＡ（ｅ）
〜ｕ）、２）及びｚｌ）（但し、−ＣＯ−又は−８Ｏ７
基に結合している自由原子価ｋｌ）ハロゲン基を＋ｉ　
していないものとする）、 から、パばれる。但し、１）大かっこ内の基が基ｈ）で
ある場合、Ａは基Ｗ）、Ｘ）及びｙ）から辺は７１．　
、ｊＪものとし、１１）大かっこ内の基が７１’ｊ　ｃ
　）又Ｉｒｅ、、　ｄ　）でちる場合、Ａはｗ）、ｘ）
又はｙ）以外のものであるものとする。

２、下記式で示される特許請求の範囲第１項記載の化合
物。

上式中、ｎは２であり、Ａは基Ｗ）、Ｘ）又けｙ）であ
る。

３、式夏において、大かっこ内の基が基Ｃ）又はｄ）で
あり、Ａが、所望により全部よりも少ない数の自由原子
価上にα）、β）、ｒ）、δ）、塩素、臭素及びヒドロ
キシから選ばれる基を有する、基ｅ）、１＋）、１１）
又はｕ）又は、所望により全１１１引よりも少ない数の
自由原子価上にα）、β）、ｒ）及びδ）から選ばれる
基を・ＦＪする、基Ｖ）である特〆「６．″請求の範囲
第１項１尼載の化合物。

４、大かっこ内の！ｌｉ、が基Ｃ）又はｄ）であり、Ａ
が追加ツノ、（、をイ１しない基ｅ）、１＋）、１１）
、Ｕ）又はＶ）である特許請求の範囲第３項記載の化ａ
物。

５０式■において、Ａが基ｅ）で、ｎが３であるか、又
はＡがα）、β）、γ）、δ）、塩素、臭素及びヒドロ
キシから選ばれる１個の基を有する基ｅ）で、ｎが２で
ある特許請求の範囲第３項記載の化合物。

６、　２，４．６−　）リス（２−オキシ−３−カルボ
キシ−５−スルホフェニルアミノ）　−１，３，５−）
リアジン。

７、例２〜１４のいずれかにＨＦ２　ｔｌｍした、’Ｉ
Ｇ　Ｎ’Ｉ’　ＨＦ２求の範囲第１項記載の式１の化合
物。

８、陽極１皮化されたアルミニ卆仏又はアルミニウム合
金表面を封孔処理するに当り、スマット層の形成を防止
するだめのスマット防止剤の存在下にＭＩＪ記表面表面
孔することを苫み、前ｌビスマット防１ト剤が少なくと
も３５０の分子足を崩し、ｌ）少なくとも１個のスルホ
ン酸基及び１１）ともに芳香族環に結εｒしかつ同一の
芳香族頂上において互いに他とオルソの位置にあるカル
ボキシ基及びヒドロキシ基をＳむ、無色の、制光堅牢性
の、４’！億化ｆ３物である封孔処理方法。

９、スマット防止剤が下記式１、 （上式中、Ｒは水素、−ＣＯＯＨ又は−８ｏ、Ｈを表わ
し、２は−ＮＨ−１−ｃｏ−１−８Ｏ２−又は（ＣＬ）
ｍ（ここで、ｍ１ｊ１〜６の整数を表わす）を表わし、
Ａはｎ価の有様橋架は基を表わし、ｎは分子ｈ１が少な
くとも３５０になるような、１へ８の軒数を表わす） で示される化合物でｄ）る將許ｍｌ求の範囲第８ＪＡ記
載の方法。

１０、スマット防止剤が、式■において、大かっこ内の
基が下記の基ａ）、ｂ）、Ｃ）及びｄ）、以下余白 から選ばれたものである、化合物である特＃’ＦｈＲ求
の範囲第９項１１４載の方法。

１１、スマット防止剤が特許請求の範囲第１〜７４１′
４のいずれかにｉ１載の化合物である１賀ｊｈ＋＋’を
末の軛ｌｔｌ　ｌ′υ１０　ＪＪＨｉ＋′、載の方法。

１２、スマット防止剤が１１（金りル塩の介在１：　Ｌ
、Ｋ　１工程プロセスに用いられる喝・許前求の）〉α
囲弔８〜１１項のいずれかにｔｉｔ２載の方法。

１３、スマット防止剤が、クロム酸塩又はコバルト及び
／又ｔよニック゛ルＶ塩が第１の工作で用いらｉするよ
りな、２１程プロセスのり）↓２の工Ｌｌ―に用いられ
る特許請求の範囲８８〜１１項のいずれかに記載の方法
。

１４、スマット防止剤が、７０℃から沸点までの温度及
び５．５〜６．５のｐＨにおいて、５〜２０ｔａｐ／ｌ
の水中濃度で用いられる特１１ｆ請求の範囲第８〜１３
項のいずれかに記載の方法。

１５、特許ムＩｌ！求のＩｉｘ囲第２項記載の化合物を
製造するに当り、下記式ＩＩ。

で示される化合物を下ｄ上式、 ５ＯｓＨＳＯ３Ｔｒ で示される化合物と反応させることを含む方法。

１６０式■において大かっこ内の基が基Ｃ）又はｄ）で
あり、Ａがｅ）〜ｕ）、２）及びｚｌ）から選ばれる基
であるか又は１個又はそれ以上のハロゲン又はヒドロキ
シ基を有する基ｅ）〜ｕ）、ｚ）又はｚｌ）である化合
物を製造するに当り、−’Ｆ’　ｔｊＬ：　”ｔ’（、
’　ｌｌ［、ＯＹ （上式中、Ｘが−８０，Ｈで、Ｙが−ＮＨ２であるか又
はＸが−ＮＨ，であり、Ｙが−８０，Ｉｆであるかのい
ずれかである） で示される化合物を又は式Ｉ１１の化ぼりし１の両者台
・いっしょに又は順次に、式Ａ−（Ｈａｌ　）、、（式
中、ＡはＭｉＪ記規定に同一のものを表わし、Ｈａｌは
塩素又は某索を衣わす）で示される化合物又はその混合
物と冗全にＫは部分的に反ｋ、・させ、所望によ）次い
で・・ロゲンをヒドロキシに加水分解することをｉ′む
方法。

１７、式■において大かっこ内の、１．１；が、１１（
、ｃ）又はｄ）であり、Ａが１個又はそれ以上の町浴化
基α）〜δ）を南する基ｅ）〜ｕ）、ｚ）又はｚｌ）で
ある化合物を製造するに当シ、式Ａ−（）（ａｌ）。（
式中、Ａはｅ）〜ｕ）、ｚ）又はｚｌ）から選ばれる）
の化合物を、同時に又は順次に、１種又はそれ以上の式
１１１の化合物及び１１す１又はそれ以」二の下記式■
及び／又はｖ１（上式中、ｒは１又は２を表わし、Ｑは
同一であっても相異なっていてもよく、それぞれ−〇〇
〇〇又は−８０，Ｈを表わす） で示される化イ１物と反応させることを含む方法。

１８、式■において大かっこ内の基が基Ｃ）又はｄ）で
あり、Ａが１９Ｔ望により１個又はそれ以上の可ｉ＃ｉ
化基α）〜δ）を・げする基Ｖ）である化合物をｆＡ−
ａするに当り、式１１２−←Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）ｎ、（式中、
Ｒ３及びｎｌは特。’ｆＢｆ→求の乾間第１項の）現定
に同一のものを衣わす）で刀くされるジー又＋Ｊ、トリ
ーイソ／アネートを式１１］の化ａ物の一方又ｔｔ両方
及びＰＪｒ”（：４　ｋ（、ヨリ１４１１１　Ｖ−ｋ：
Ｉ（−ｈ、　ＩＪ、上の式■及び／又＃：Ｊ：　Ｖ　］
化は物と反応させることをＪむ方１ノニ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記式Ｉで示される化合物 上式中、大かっこ内の基は下記の基ｂ）、Ｃ）及びｄ）
   、 から選゛ばれ、ｎは１〜４の整数を１プし、基Ａｔよ（
   ｉ）下記の基ｅ）〜ｚ１）、 （ｑ）　＊　　　　　　　　　　（ｒ）　、（→。 ０　　　　　　　　〇 −ｃ−（ｃｏ２）、−Ｃ−（ｕ）（ここで、ｐはＯ又は
   １〜６である）、Ｒ２云Ｎ）ｉ−ＣＯ＄　　（ｖ）　（
   ここで、ｎ、は２又は３であり、ＩＩ２は７１ヒリメチ
   レン基又は二又は三価のベンゼン、メチルベンゼン、ノ
   フェニルメタｏ３Ｈ （１１）それらの全部よりは少ない数の自由原子１１ｕ
   ｉ上に下記のα）〜δ）から選ばれる水可溶化基′をイ
   １する基ｅ）〜Ｖ）、２）及びｚｌ）、 ０ｉ［１それらの全部よりは少ない数の自由原子価上に
   ハロケ９ン及びヒドロキシから選ばれる基を肩する基ｅ
   ）〜ｕ）、２）及びｚｌ）（但し、−ｃｏ−又は−８０
   ２基に結合している自由原子価はハロケ゛ン基を有して
   いないものとする）、 から選ばれる。但し、１）大かっこ内の基が基ｂ）であ
   る場合、Ａは基Ｗ）、ｘ）及びｙ）から選ばれるものと
   し、１１）大かっこ内の基が基Ｃ）又はｄ）である場合
   、ＡはＷ）、ｘ）又はｙ）以外のものであるものとする
   。 ２　下記式で示される特許請求の範囲第１項記載の化合
   物。 上式中、ｎは２であり、Ａは基Ｗ）、Ｘ）又はｙ）であ
   る。 ３　式Ｉに、Ｆ−２いて、大かっこ内の基が基Ｃ）又は
   ｄ）であり、Ａが、所望により全部よりも少ない数の自
   由原子価上にα）、β）、γ）、δ）、塩素、臭素及び
   ヒドロキシから選ばれる基を有する、基ｅ）、ｔ、）、
   ｔ２）又はＵ）又は、所望によシ全部よりも少ない数の
   自由原子価上にα）、β）、γ）及びδ）から選ばれる
   基を有する、基りである特許請求の範囲第１項記載の化
   合物。 ４、大かっこ内の基が基Ｃ）又）：ｔｄ）であり、Ａが
   追加の基を有しない基ｅ）、１．）、ｔ２）、■）又は
   Ｖ）である特許請求の範囲第３項記載の化合物。 ５、式Ｉにおいて、Ａが基ｅ）で１．ｎが３でめるか、
   又はＡがα）、β）、ｒ）、δ）、１）１に素、臭素及
   びヒドロキシから選ばれる１個の基を有する基ｅ）で、
   ＩＩが２である特許請求の範囲？ｒ（３項記載の化合物
   。 ６．２．４．６−）リス（２−オキシ−３−カルー？キ
   シー５−スルホフェニルアミノ）−１，３゜５−トリア
   ジン。 ７、　例２〜１４のいずれかにａ己小νし／こ、特ｉｔ
   ’ｌＩ、ｆ’Ｊ求の！１ｉ１）、間第１項記載の式Ｉの
   化合物。 ８、ｌ’ｔＡ　！’Ｍ　ｌ・４化された°ｒルミニウム
   又はアルミニウム合金表面を封孔処理するに当り、スー
   マットｔ６の形成を防市するだめのスマット防止剤の存
   在下に前記表面を封孔することを含み、前記スマット防
   止剤が少なくとも３５０の分子批全有し、１）少なくと
   も１個のスルホン酸基及び１１）ともに芳香族環に結合
   しかつ同一の芳香族頂上において互いに他とオルソの位
   置にあるカルがキシ基及びヒドロキシ基金含む、無色の
   、耐光堅牢性の、４ｆ機化合物である封孔処理方法。 ９、スマット防止剤が下記式！、 （上式中、Ｒは水素、−ＣＯＯＨ又は−８ｏ、Ｈを六わ
   し、２け−Ｎ［（−１−Ｃ１’）−１−８Ｏ２−又は（
   ＣＨ２）ｎ。 （ここで、ｍけ１〜６の整数を表わす）を表わし、Ａは
   ｎ価の有機橋架け）Ｅ、を表わし、ｎは分子−が少なく
   とも３　！ｊＯに寿るような、１〜８の整数をとわす） で示嘔れる１し合物でおる特許請求の範囲第８川記載の
   方法。 １０、スマット防止剤が、式Ｉにおいて、大かっこ内の
   基が下記の基ａ）、ｂ）、Ｃ）及びｄ）、ｉｌ から選ばれたものである、化合物であるｑ”ｆ　＊Ｆ　
   ｉｉｉ’を求の範囲第９項記載の方法。 １１、　　スマット防止剤がｑ’−’ｊ　！？’を請求
   のｆｌｉｉ）門弟１〜７項のいずれかに記載の化合物で
   ある特８′１請求のｊｉｉｊｊ囲第１０項第１０項記載 】２．スマット防止剤が重金Ａ・創語の介在なしに１工
   程プロセスに用いられる１時計ｔｉ′１求の・１１ノ旧
   １３８〜１１頃のいずれかに記載の方法。 １３、スマット防［１−剤が、クロム酸塩又はコバルト
   及び／又はニッケルの塩が第１の工程で用いられるよう
   な、２工程プロセスの第２の工程に用いられる特許ｉ？
   ｉ求の範囲第８〜１１．項のいずれかに記載の方法龜 １４　　スマット防止剤が、７０℃から沸点までの温度
   及び５．５〜６．５の、ＩＩにおいて、５〜２０ＩＩＩ
   Ｖ１の水中濃度で用いられる特許請求の範囲第８〜１３
   項のいずれかに記載の方法。 １５、　　％許諸刃の範囲第２項記載の比倉物ｆ：＃造
   するに当り、下り己式■、 １１１） で示される化合物ＥＣ下記式、 で示される化合物と反応させることを含む方法。 １６、　　式Ｉにおいて大かっこ内の基が基Ｃ）又はｄ
   ）、であり、Ａがｅ）〜ｕ）、ｚ）及びｚ４）から選ば
   れる基であるか又は１個又はそれ以上のノ・ロダン又は
   ヒドロキシ基を有する基ｅ）〜ｕ）、ｚ）又はｚ、）で
   ある化合物を製造するに当り、下記式ｔｎ。 （上式中、Ｘが一８０３Ｈで、Ｙが−ＮｔＩ２であるか
   父はＸが−ＮｆＩ　２でおり、Ｙが一８Ｑ、、Ｈである
   かのいずれかである） 、で示される化合物を又は成用の化合物の両者をいっし
   ょに又は順次に、式Ａ−（ＩＩａ、４）ｎ（式「１１、
   Ａ　ｔｔ前記規定に同一のものを表わし、Ｈａｔけ塩素
   又は臭素を表わす）で示される化合物又はその混合物と
   完全に又は部分的に反応させ、所望により次いでハロゲ
   ノをヒドロキシに加水分解することを含む方法。 １７、式Ｉにおいて大かっこ内の基が基Ｃ）又はｄ）で
   あり、Ａが１個又はそれ以上の可消化基α）〜δ）を有
   する基ｅ）〜ｕ）、ｚ）又はｚｔ）である化合物を製造
   するに当り、式Ａ　−（［■ａ　ｔ）ｎ　°（式中、Ａ
   はｅ）〜ｕ）、ｚ）又はｚ＋）から選ばれる）の化合物
   を、同時に又は１１１１次に、１種又はそれ以上の式■
   の化合物及び１種又はそれ以上の下記式■及び／又はｖ
   ｌ・ （上式中、ｒけ１又は２を表わし、Ｑは同一であっても
   相異なっていてもよく、そ）１ぞわ−Ｃ００１１又は−
   ８ｏ３Ｈを表わす） で示される化合物と反応させることを含む方法。 １８、式■において大かっこ内の基が基Ｃ）又ｕｄ）で
   あシ、Ａが所望によ９１個又はそれ以上の可消化基α）
   〜δ）を有する基Ｖ）である化合物を４Φ造するに当り
   、弐Ｒ２−（Ｎ＝Ｃ＝Ｏ）ｎ、　（式中、ｌｔ２及びｎ
   ｌは特許請求の範囲第１項の規定に同一のものを宍わず
   ）で示されるジー又はトリーイソシアネートヲ式■の化
   合物の一方又は両方及び７９ｉ望により１種又はそれ以
   上の式■及び／又は■の化合物と反応させることを含む
   方法。 以下７ａ白