JPS595131B2 - 硬化性組成物 - Google Patents
硬化性組成物Info
- Publication number
- JPS595131B2 JPS595131B2 JP50133946A JP13394675A JPS595131B2 JP S595131 B2 JPS595131 B2 JP S595131B2 JP 50133946 A JP50133946 A JP 50133946A JP 13394675 A JP13394675 A JP 13394675A JP S595131 B2 JPS595131 B2 JP S595131B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaminodecane
- reaction
- formula
- cyclododecatriene
- unsubstituted
- Prior art date
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- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/50—Amines
- C08G59/5006—Amines aliphatic
- C08G59/5013—Amines aliphatic containing more than seven carbon atoms, e.g. fatty amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D245/00—Heterocyclic compounds containing rings of more than seven members having two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D245/02—Heterocyclic compounds containing rings of more than seven members having two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
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- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
10本発明は新規1・10−置換−1・ 10−ジアミ
ノデカンを硬化剤として含有する硬化性組成物に関する
。
ノデカンを硬化剤として含有する硬化性組成物に関する
。
本発明による硬化性組成物は成型品、含浸材料、コーテ
ィング、ラツカー及びシールの製造に適し15ており、
そして(a)ポリエポキシド及び(b順化剤として次式
I■ク0H2N−C−(CH2)8−C−NH2(I)
(式中、R1及びR3は互いに依存せずに各々装置25
換の又は置換しているアルキル、シクロアルキル、アラ
ルキル、フェニル又はナフチル基を表わし、R2及びR
4は互いに依存せずに水素原子、未置換の又は置換して
いるアルキル、シクロアルキル、アラルキル、フェニル
又はナフチル基を表わすか、30またはR1とR2及び
/又はR3とR4はそれらが結合している炭素原子と一
緒になつて未置換の又は置換している5ないし12員の
アルキレン環又はオキサアルキレン環を形成している)
で表わされる1・10−ジアミノデカン少なくと35も
1種を含有することを特徴としている。
ィング、ラツカー及びシールの製造に適し15ており、
そして(a)ポリエポキシド及び(b順化剤として次式
I■ク0H2N−C−(CH2)8−C−NH2(I)
(式中、R1及びR3は互いに依存せずに各々装置25
換の又は置換しているアルキル、シクロアルキル、アラ
ルキル、フェニル又はナフチル基を表わし、R2及びR
4は互いに依存せずに水素原子、未置換の又は置換して
いるアルキル、シクロアルキル、アラルキル、フェニル
又はナフチル基を表わすか、30またはR1とR2及び
/又はR3とR4はそれらが結合している炭素原子と一
緒になつて未置換の又は置換している5ないし12員の
アルキレン環又はオキサアルキレン環を形成している)
で表わされる1・10−ジアミノデカン少なくと35も
1種を含有することを特徴としている。
原則として、反応条件下に水素添加され得ないあらゆる
所望の基、例えばアルキル、アルコキシ、アルキルアミ
ノ、N−N−ジアルキルアミノ、環状エーテル及びシク
ロアルキル基はR1からR4で示したアルキル、シクロ
アルキル、アラルキル、フエニル及びナフチル基上の置
換基として可能である。R1からR4のアルキル基で可
能なものは、とりわけ炭素原子数1ないし18好ましく
は1ないし8の直鎖又は枝分れ基である。
所望の基、例えばアルキル、アルコキシ、アルキルアミ
ノ、N−N−ジアルキルアミノ、環状エーテル及びシク
ロアルキル基はR1からR4で示したアルキル、シクロ
アルキル、アラルキル、フエニル及びナフチル基上の置
換基として可能である。R1からR4のアルキル基で可
能なものは、とりわけ炭素原子数1ないし18好ましく
は1ないし8の直鎖又は枝分れ基である。
上記基が置換されるならば、それらは例えばそれぞれの
アルコキシ又はアルキル部分の炭素原子数1ないし4、
特に1又は2であるアルコキシ、アルキルアミノ又はN
・N−ジアルキルアミノ基、炭素原子数3又は4の環状
エーテル基又は環上炭素原子数5ないし8、好ましくは
5又は6のシクロアルキル基である。次に、この種のR
1からR4のアルキル基の例を記載する:メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−、第2級及び第
3級ブチル、n−ヘキシル、n−ヘブチル、n−オクチ
ル、n−デシル、n−ドデシル、n−オクタデシル、メ
トキシエチル、2−エトキシエチル、2−メチルアミノ
エチル、3−N−N−ジエチルアミノプロピル、2−シ
クロヘキシルエチル、2−フリル−(3)一エチル及び
3−ピラニル−(3)−プロピル基である。R1からR
4で示されたシクロアルキル、,アラルキル、フエニル
又はナフチル基が置換されるとき、可能な置換基として
とりわけアルキル、アルコキシ、アルキルアミノ及びN
−N−ジアルキルアミノ基で、それぞれの場合にアルキ
ル又はアルコキシ部分の炭素原子数が1ないし4特に1
又は2である。RェからR4で示されたシクロアルキル
基は1核又は2核で、環上炭素原子数は好ましくは5な
いし12特に5ないし10である。
アルコキシ又はアルキル部分の炭素原子数1ないし4、
特に1又は2であるアルコキシ、アルキルアミノ又はN
・N−ジアルキルアミノ基、炭素原子数3又は4の環状
エーテル基又は環上炭素原子数5ないし8、好ましくは
5又は6のシクロアルキル基である。次に、この種のR
1からR4のアルキル基の例を記載する:メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−、第2級及び第
3級ブチル、n−ヘキシル、n−ヘブチル、n−オクチ
ル、n−デシル、n−ドデシル、n−オクタデシル、メ
トキシエチル、2−エトキシエチル、2−メチルアミノ
エチル、3−N−N−ジエチルアミノプロピル、2−シ
クロヘキシルエチル、2−フリル−(3)一エチル及び
3−ピラニル−(3)−プロピル基である。R1からR
4で示されたシクロアルキル、,アラルキル、フエニル
又はナフチル基が置換されるとき、可能な置換基として
とりわけアルキル、アルコキシ、アルキルアミノ及びN
−N−ジアルキルアミノ基で、それぞれの場合にアルキ
ル又はアルコキシ部分の炭素原子数が1ないし4特に1
又は2である。RェからR4で示されたシクロアルキル
基は1核又は2核で、環上炭素原子数は好ましくは5な
いし12特に5ないし10である。
次に前記の例を挙げる:シクロペンチル、2−プロピル
シクロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシクロヘ
キシル、4−メトキシシクロヘキシル、4−N−N−ジ
エチルアミノシクロヘキシル、シス一又はトランス−デ
カヒドロナフチル、メチルシクロヘプチル、シクロオク
チル及びシクロドデシル基である。
シクロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシクロヘ
キシル、4−メトキシシクロヘキシル、4−N−N−ジ
エチルアミノシクロヘキシル、シス一又はトランス−デ
カヒドロナフチル、メチルシクロヘプチル、シクロオク
チル及びシクロドデシル基である。
R1からR4で示したアラルキル基は好ましくは環上炭
素原子6ないし10を有している。
素原子6ないし10を有している。
このような基として:ベンジル、2−フエニルエチル、
.1−メチルナフチル、4−メトキシ及び4−メチルベ
ンジル基である。次に記すものは定義に従つてR1から
R4のフエニル及びナフチル基の例である:フエニル、
1−ナフチル、2−ナフチル、4−エチルフエニル、3
−メトキシフエニル、4−n−プロピルアミノフエニル
、3・4−ジメトキシフエニル及び4−N−N−ジメチ
ルアミノフエニル基である。
.1−メチルナフチル、4−メトキシ及び4−メチルベ
ンジル基である。次に記すものは定義に従つてR1から
R4のフエニル及びナフチル基の例である:フエニル、
1−ナフチル、2−ナフチル、4−エチルフエニル、3
−メトキシフエニル、4−n−プロピルアミノフエニル
、3・4−ジメトキシフエニル及び4−N−N−ジメチ
ルアミノフエニル基である。
R1がR2ど一緒になつて及び/又はR3がR4と一緒
になつて形成しているアルキレン又はオキサアルキレン
環も置換され得、その置換置の例として炭素原子数1な
いし4特に1又は2のアルキル又はアルコキシ基である
。こうしてR1とR2又はR3とR4はそれらが結倉し
ている炭素原子と{になつて例えばシクロベンチル、シ
クロヘキシル、メチルシクロヘキシル、テトラヒドロフ
リル、4−メチルテトラヒドロフリル−3、テトラヒド
ロピラニル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロ
デシル又はシクロドデシル基を形成している。好ましい
1・10−ジアミノデカンは式1においてR1及びR3
が互いに依存せずに炭素原子数1ないし18特に1ない
し8の未置換アルキル基、それぞれの場合にアルコキシ
又はアルキル部分中の炭素原子数が1又は2のアルコキ
シ、アルキルアミノ又はN−N−ジアルキルアミノ基に
よつて置換され得る環上炭素原子数5ないし10の1核
又は2核シクロアルキル基、ベンジル基、2−フエニル
エチル基、未置換フエニル基、それぞれの場合にアルキ
ル又はアルコキシ部分の炭素原子数が1又は2であるア
ルキル、アルコキシ、アルキルアミノ又はN−N−ジア
ルキルアミノ基で置換されているフエニル基、未置換ナ
フチル基を表わし、そしてR2及びR4は互いに依存せ
ず水素原子又は上記R1及びR3で記載した基のうちの
1個を表わす式1で表わす化合物、並に式1において、
R1とR2及び/又はR3とR4でそれらが結合してい
る炭素原子と;緒になつて未置換5ないし12員アルキ
レン環又は未置換5ないし12員オキサアルキレン環を
表わす化合物である。更に好ましいものはR1とR3と
がR2とR4同様各々同じ基を表わしているものである
。
になつて形成しているアルキレン又はオキサアルキレン
環も置換され得、その置換置の例として炭素原子数1な
いし4特に1又は2のアルキル又はアルコキシ基である
。こうしてR1とR2又はR3とR4はそれらが結倉し
ている炭素原子と{になつて例えばシクロベンチル、シ
クロヘキシル、メチルシクロヘキシル、テトラヒドロフ
リル、4−メチルテトラヒドロフリル−3、テトラヒド
ロピラニル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロ
デシル又はシクロドデシル基を形成している。好ましい
1・10−ジアミノデカンは式1においてR1及びR3
が互いに依存せずに炭素原子数1ないし18特に1ない
し8の未置換アルキル基、それぞれの場合にアルコキシ
又はアルキル部分中の炭素原子数が1又は2のアルコキ
シ、アルキルアミノ又はN−N−ジアルキルアミノ基に
よつて置換され得る環上炭素原子数5ないし10の1核
又は2核シクロアルキル基、ベンジル基、2−フエニル
エチル基、未置換フエニル基、それぞれの場合にアルキ
ル又はアルコキシ部分の炭素原子数が1又は2であるア
ルキル、アルコキシ、アルキルアミノ又はN−N−ジア
ルキルアミノ基で置換されているフエニル基、未置換ナ
フチル基を表わし、そしてR2及びR4は互いに依存せ
ず水素原子又は上記R1及びR3で記載した基のうちの
1個を表わす式1で表わす化合物、並に式1において、
R1とR2及び/又はR3とR4でそれらが結合してい
る炭素原子と;緒になつて未置換5ないし12員アルキ
レン環又は未置換5ないし12員オキサアルキレン環を
表わす化合物である。更に好ましいものはR1とR3と
がR2とR4同様各々同じ基を表わしているものである
。
特に好ましい1・10−ジアミノデカンは式1において
R1とR3が同じであつて、各々炭素原子数1ないし8
の未置換アルキル基又は環上炭素原子数5ないし10の
1核又は2核シクロアルキル基で好ましくはシクロヘキ
シル、シクロペンチル、又はシクロオクチル基であり、
これらは未置換又は各アルコキシ又はアルキル部分の炭
素原子数が1又は2であるアルコキシ、アルキルアミノ
又はN−N−ジアルキルアミノ基で置換されているもの
を表わし、並びにR2とR4が異つていて各々水素原子
又は炭素原子数1ないし8の未置換アルキル基を表わす
ものである。
R1とR3が同じであつて、各々炭素原子数1ないし8
の未置換アルキル基又は環上炭素原子数5ないし10の
1核又は2核シクロアルキル基で好ましくはシクロヘキ
シル、シクロペンチル、又はシクロオクチル基であり、
これらは未置換又は各アルコキシ又はアルキル部分の炭
素原子数が1又は2であるアルコキシ、アルキルアミノ
又はN−N−ジアルキルアミノ基で置換されているもの
を表わし、並びにR2とR4が異つていて各々水素原子
又は炭素原子数1ないし8の未置換アルキル基を表わす
ものである。
本発明は更に次式1a:
(式中、R1は未置換又は各々置換しているアルキル、
シクロアルキル、アラルキル、フエニル又はナフチル基
を表わし、R1はR3に相当する未置換の又は各々置換
しているアルキル、シクロアルキル、アラルキル又はナ
フチル基、又は置換フエニル基を表わし、並びにR2と
R4は互いに依存せずに水素原子、未置換の又は各々置
換しているアルキル、シクロアルキル、アラルキル、フ
エニル又はナフチル基を表わし、もしくはR1とR2及
び/又はR3とR4はそれらが結合している炭素原子と
一緒になつて未置換の又は置換5ないし12員アルキレ
ン又はオキサアルキレン環を形成しているものを表わす
)で表わされる新規1・10−ジアミノデカンに関する
ものである。
シクロアルキル、アラルキル、フエニル又はナフチル基
を表わし、R1はR3に相当する未置換の又は各々置換
しているアルキル、シクロアルキル、アラルキル又はナ
フチル基、又は置換フエニル基を表わし、並びにR2と
R4は互いに依存せずに水素原子、未置換の又は各々置
換しているアルキル、シクロアルキル、アラルキル、フ
エニル又はナフチル基を表わし、もしくはR1とR2及
び/又はR3とR4はそれらが結合している炭素原子と
一緒になつて未置換の又は置換5ないし12員アルキレ
ン又はオキサアルキレン環を形成しているものを表わす
)で表わされる新規1・10−ジアミノデカンに関する
ものである。
上記式1aにおいてテキスト中先に記載したことはR1
、R2、R4及びR3に相当するアルキル、シクロアル
キル、アラルキル又は、ナフチル基においてR1にも及
びR1がR4と{になつて形成したアルキレン又はオキ
サアルキレン環にも適用する。
、R2、R4及びR3に相当するアルキル、シクロアル
キル、アラルキル又は、ナフチル基においてR1にも及
びR1がR4と{になつて形成したアルキレン又はオキ
サアルキレン環にも適用する。
Rfが置換フエニル基を表わす場合、可能な置換基は上
記のもので、特にアルキル又はアルコキシ部分の炭素原
子が1又は2であるアルキル、アルコキシ、アルキルア
ミノ及びN−N−ジアルキルアミノ基である。
記のもので、特にアルキル又はアルコキシ部分の炭素原
子が1又は2であるアルキル、アルコキシ、アルキルア
ミノ及びN−N−ジアルキルアミノ基である。
本発明による式1aで表わされる1・10−ジアミノデ
カンは、次式:(式中、R1、R2、R1及びR4は式
1aで記載したものと同じ意味を表わす)で表わされる
化合物に、不活性有機溶媒の存在下触媒方法によつて1
又は2段階で水素添加して、その際の反応温度を少なく
とも120℃まで上昇させることによつて得られる。
カンは、次式:(式中、R1、R2、R1及びR4は式
1aで記載したものと同じ意味を表わす)で表わされる
化合物に、不活性有機溶媒の存在下触媒方法によつて1
又は2段階で水素添加して、その際の反応温度を少なく
とも120℃まで上昇させることによつて得られる。
工程中において式で表わされる出発物質、触媒の性質及
び/又は反応条件に依存して、式で表わされる化合物に
おいてR1、R2、Rf及びR4で表わされるフエニル
又はナフチル基に水素添加することも可能である。
び/又は反応条件に依存して、式で表わされる化合物に
おいてR1、R2、Rf及びR4で表わされるフエニル
又はナフチル基に水素添加することも可能である。
二段階水素添加反応において、一段階めで式で表わされ
る化合物を150℃以下で水素添加し次式:(式中、R
1、R2、R1及びR4は式1aで記載したものと同じ
意味を表わす)で表わされる化合物を得、次段階で式で
表わされる化合物を上昇させた温度で水素添加し、好ま
しくはアンモニアを添加することによつて式1aで表わ
される化合物を得る。
る化合物を150℃以下で水素添加し次式:(式中、R
1、R2、R1及びR4は式1aで記載したものと同じ
意味を表わす)で表わされる化合物を得、次段階で式で
表わされる化合物を上昇させた温度で水素添加し、好ま
しくはアンモニアを添加することによつて式1aで表わ
される化合物を得る。
R2及びR4が各々水素原子である1・10−ジアミノ
デカンは、式で表わされる相当する出発化合物の少なく
とも120℃での一段階水素添加反応によつても得られ
る。
デカンは、式で表わされる相当する出発化合物の少なく
とも120℃での一段階水素添加反応によつても得られ
る。
それら自身で知られている水素添加触媒が触媒として使
用没必。
用没必。
これら触媒ゆ通常の形態例えば細かい粉末状、コロイド
形態、酸化物又は水酸化物の形で使用され、適当な支持
体例えば石綿、軽石、ケイソウ土、シリカゲル、活性炭
及び周期津表の第族ないし第族の金属特にマグネシウム
、カルシウム、バリウム、亜鉛、アルミニウム、鉄及び
クロムの硫酸塩、炭酸塩、又は酸化物等に適用される。
一段階水素添加反応及び二段階水素添加の最初の段階に
おいては、貴重な金属触媒例えば白金、ロジウム、パラ
ジウム、ルテニウム及びイリジウム触媒、好ましくはロ
ジウム、アルミニウムオキシド又は、パラジウム炭素触
媒を使用するのが適切である。
形態、酸化物又は水酸化物の形で使用され、適当な支持
体例えば石綿、軽石、ケイソウ土、シリカゲル、活性炭
及び周期津表の第族ないし第族の金属特にマグネシウム
、カルシウム、バリウム、亜鉛、アルミニウム、鉄及び
クロムの硫酸塩、炭酸塩、又は酸化物等に適用される。
一段階水素添加反応及び二段階水素添加の最初の段階に
おいては、貴重な金属触媒例えば白金、ロジウム、パラ
ジウム、ルテニウム及びイリジウム触媒、好ましくはロ
ジウム、アルミニウムオキシド又は、パラジウム炭素触
媒を使用するのが適切である。
2段階水素添加反応の二段階めにおいて、細粉したコバ
ルト及び特に細粉したニツケル(ラネーコバル斗又はラ
ネーニツケル)を使用するのが好ましい。
ルト及び特に細粉したニツケル(ラネーコバル斗又はラ
ネーニツケル)を使用するのが好ましい。
式で表わされる化合物を中間で単離する必要はない。
一方一段階めにおいて使用した触媒は、更に次の反応を
行う以前に例えば濾過、もし必要ならばシリカゲル等の
漏過器具を使用して除去するのが賢明である。第3級ブ
タノール、エチレングリコールモノメチルエーテル及び
モノエチルエーテル、n−ヘキサン及びシクロヘキサン
は本発明による水素添加反応を行うのに適した不活性有
機溶媒の例である。
行う以前に例えば濾過、もし必要ならばシリカゲル等の
漏過器具を使用して除去するのが賢明である。第3級ブ
タノール、エチレングリコールモノメチルエーテル及び
モノエチルエーテル、n−ヘキサン及びシクロヘキサン
は本発明による水素添加反応を行うのに適した不活性有
機溶媒の例である。
水素添加反応は一般に密閉系で行われ、一少なくとも最
終段階では一圧力下行なう。式で表わされる化合物及び
/又は使用する触媒の性質に依存して、反応温度は広い
範囲で変化する。
終段階では一圧力下行なう。式で表わされる化合物及び
/又は使用する触媒の性質に依存して、反応温度は広い
範囲で変化する。
一段階工程において一般に120〜220℃好ましくは
140ないし180℃である。2段階水素添加反応にお
いて、最初の段階の間の反応温度は約20〜130℃が
適切であり、次に約170〜220℃に上昇させる。
140ないし180℃である。2段階水素添加反応にお
いて、最初の段階の間の反応温度は約20〜130℃が
適切であり、次に約170〜220℃に上昇させる。
反応が完了した後触媒及び溶媒は通常の方法で除去する
。
。
本発明による置換1・10−ジアミノデカンは一般にジ
アステレオマ一の混合物として無色油状物質の形で得ら
れ、よく知られている方法で分離精製する。
アステレオマ一の混合物として無色油状物質の形で得ら
れ、よく知られている方法で分離精製する。
式で表わされる出発物質は公知で、1・3ブタジエンを
次式: (式中、R1、R2、R1及びR4は式1aで記載した
ものと同じ意味を表わす)で表わされるアジンと、10
0℃までの温度好ましくは70〜95℃で、一酸化炭素
−ニツケルの遊離化合物に電子供与体を作用させること
による還元条件下得られる触媒の存在下、反応させると
いう既知の方法で製造される。
次式: (式中、R1、R2、R1及びR4は式1aで記載した
ものと同じ意味を表わす)で表わされるアジンと、10
0℃までの温度好ましくは70〜95℃で、一酸化炭素
−ニツケルの遊離化合物に電子供与体を作用させること
による還元条件下得られる触媒の存在下、反応させると
いう既知の方法で製造される。
例えばトリフエニルホスフインの存在下エトキシ−ジエ
チル−アルミニウムによつてアセチルアセトンニツケル
を還元することで得られた触媒のように、電子供与体の
存在下ハロゲン一遊離アルキル金属又はアリール金属に
よつて一酸化炭素−ニツケルの遊離化合物を還元するこ
とで得られた触媒を使用するのがここでは好ましい。本
発明によるいくつかの1・10−ジアミノデカンの製造
を次の実施例に記載する。A.製造実施例 実施例 1 (a) 3・12−ジシクロヘキシル−1・2−ジアザ
−1・5・9−シクロドデカトリエンアセチルアセトン
ニツケル8.8f7(0.034モル)及びトリフエニ
ルホスフイン8.8y(0.033モル)を無水トルエ
ン500m1に溶かす。
チル−アルミニウムによつてアセチルアセトンニツケル
を還元することで得られた触媒のように、電子供与体の
存在下ハロゲン一遊離アルキル金属又はアリール金属に
よつて一酸化炭素−ニツケルの遊離化合物を還元するこ
とで得られた触媒を使用するのがここでは好ましい。本
発明によるいくつかの1・10−ジアミノデカンの製造
を次の実施例に記載する。A.製造実施例 実施例 1 (a) 3・12−ジシクロヘキシル−1・2−ジアザ
−1・5・9−シクロドデカトリエンアセチルアセトン
ニツケル8.8f7(0.034モル)及びトリフエニ
ルホスフイン8.8y(0.033モル)を無水トルエ
ン500m1に溶かす。
1・3−ブタジエン約207をこの澄明な緑色溶液に室
温(20〜25℃)で導入する。
温(20〜25℃)で導入する。
そして還元は室温下エトキシジエチル−アルミニウム1
4m1(0.09モル)によつて行ない、溶液の色は緑
から橙赤色に変化する。混合物を一方では1・3−ブタ
ジエンの一定の絶え間ない蒸気中に通しながら、可能な
限り速く80℃まで加温する。シクロヘキシルアルダジ
ン991t(4.5モル)を無水トルエン1.61に溶
かした溶液を、一方では開始した発熱反応が90〜95
℃以上に上昇しない(冷却)ようにし、他方では、ブタ
ジエンが絶えず反応溶液中に過剰に存在しているような
方法で滴加する。
4m1(0.09モル)によつて行ない、溶液の色は緑
から橙赤色に変化する。混合物を一方では1・3−ブタ
ジエンの一定の絶え間ない蒸気中に通しながら、可能な
限り速く80℃まで加温する。シクロヘキシルアルダジ
ン991t(4.5モル)を無水トルエン1.61に溶
かした溶液を、一方では開始した発熱反応が90〜95
℃以上に上昇しない(冷却)ようにし、他方では、ブタ
ジエンが絶えず反応溶液中に過剰に存在しているような
方法で滴加する。
滴加時間50分後、混合物を次に更に15分間撹拌し、
トルエンの一部分(約11)を水流ポンプによる僅かな
減圧下、下降冷却器を使用して留去する。20〜25℃
まで冷却した後、イソプロパノール31?を加え混合物
をO℃まで冷却する。
トルエンの一部分(約11)を水流ポンプによる僅かな
減圧下、下降冷却器を使用して留去する。20〜25℃
まで冷却した後、イソプロパノール31?を加え混合物
をO℃まで冷却する。
3・12−ジシクロヘキシル−1・2−ジアザ−1・5
・9−シクロドデカトリエンのジアステレオ lマ一混
合物が無色結晶形で沈澱する。
・9−シクロドデカトリエンのジアステレオ lマ一混
合物が無色結晶形で沈澱する。
これらを濾取し、少量の冷メタノールで洗浄した後、室
温下乾燥キヤビネツト中で五酸化リンで乾燥する。反応
生成物973.5fを得る。母液は溶媒留去し、残つた
緑色粘稠液に1.81のアセトン lを加える。更に3
・12−ジシクロヘキシル−1・2−ジアザ−1・5・
9−シクロドデカトリエン2607が沈澱する。総収量
1233.5f7は使用したシクロヘキシルアルダジン
に関して理論量の91.1%(ジアニステレオマ一混合
物):融点102〜3℃。
温下乾燥キヤビネツト中で五酸化リンで乾燥する。反応
生成物973.5fを得る。母液は溶媒留去し、残つた
緑色粘稠液に1.81のアセトン lを加える。更に3
・12−ジシクロヘキシル−1・2−ジアザ−1・5・
9−シクロドデカトリエン2607が沈澱する。総収量
1233.5f7は使用したシクロヘキシルアルダジン
に関して理論量の91.1%(ジアニステレオマ一混合
物):融点102〜3℃。
元素分析 C22H36N2(分子量328.5)(b
) 1・10−ジシクロヘキシル−1・10−ジアミノ
デカン3・12−ジシクロヘキシル−1・2−ジアザ−
1・5・9−シクロドデカトリエン328.5t(1モ
ル)を純粋第3級ブタノール2.6′に溶かし、混合物
を撹拌オートクレーブ中180〜200℃まで徐々に加
温する(温度は1時間に約30℃増加させる。
) 1・10−ジシクロヘキシル−1・10−ジアミノ
デカン3・12−ジシクロヘキシル−1・2−ジアザ−
1・5・9−シクロドデカトリエン328.5t(1モ
ル)を純粋第3級ブタノール2.6′に溶かし、混合物
を撹拌オートクレーブ中180〜200℃まで徐々に加
温する(温度は1時間に約30℃増加させる。
(ロジウムーアルミニウムオキシト鴫蛾(5重量%Rh
)33rをこの温度で添加し、混合物に8時間水素添加
する(開始圧120バール)。終了時にオートクレーブ
は室温まで冷却されている(20〜25℃)。触媒はケ
イソウ土で濾去し第3級ブタノール100r1L1で洗
浄する。溶媒は回転蒸発器で12mmHg下蒸発させる
。残留溶媒は浴温60℃で高度減圧下除去する。こうし
て無色油状残渣320yを得る。反応生成物は、残渣を
無水ジエチルエーテル1.81に溶かし、塩化水素ガス
をこのエーテル溶液に飽和になるまで通流した後、得ら
れた溶液を0〜5℃に冷却することによる相当する二塩
酸塩にすることで精製する。無色晶状沈澱が形成し、こ
れは濾取しジエチルエーテルで洗浄した後風乾する。こ
の沈澱は水に溶かし、溶液のPHを少なくとも14に濃
水酸化ナトリウム溶液によつて調製する。水相をジエチ
ルエーテルで抽出し、エーテル性溶液は水洗してMgS
O4で乾燥する。ジエチルエーテルは回転蒸発器で留去
し残渣は高度減圧下ビグロ一(VigreLlX)カラ
ムを通して蒸留する。こうして無色1・10−ジシクロ
ヘキシル−1・10−ジアミノデカン304y(0.9
04モル)を得る;沸点190〜193℃/0.05T
tmHg;収量は反応させた3・12−ジシクロヘキシ
ル−1・2−ジアザ−1・5・9−シクロジデカトリエ
ンに関して理論量の90.4%;n賀−1.4944。
ガスクロマトグラム:97.3%及び1.7%点でシグ
ナル(ジアステレオマ一の混合物)。
)33rをこの温度で添加し、混合物に8時間水素添加
する(開始圧120バール)。終了時にオートクレーブ
は室温まで冷却されている(20〜25℃)。触媒はケ
イソウ土で濾去し第3級ブタノール100r1L1で洗
浄する。溶媒は回転蒸発器で12mmHg下蒸発させる
。残留溶媒は浴温60℃で高度減圧下除去する。こうし
て無色油状残渣320yを得る。反応生成物は、残渣を
無水ジエチルエーテル1.81に溶かし、塩化水素ガス
をこのエーテル溶液に飽和になるまで通流した後、得ら
れた溶液を0〜5℃に冷却することによる相当する二塩
酸塩にすることで精製する。無色晶状沈澱が形成し、こ
れは濾取しジエチルエーテルで洗浄した後風乾する。こ
の沈澱は水に溶かし、溶液のPHを少なくとも14に濃
水酸化ナトリウム溶液によつて調製する。水相をジエチ
ルエーテルで抽出し、エーテル性溶液は水洗してMgS
O4で乾燥する。ジエチルエーテルは回転蒸発器で留去
し残渣は高度減圧下ビグロ一(VigreLlX)カラ
ムを通して蒸留する。こうして無色1・10−ジシクロ
ヘキシル−1・10−ジアミノデカン304y(0.9
04モル)を得る;沸点190〜193℃/0.05T
tmHg;収量は反応させた3・12−ジシクロヘキシ
ル−1・2−ジアザ−1・5・9−シクロジデカトリエ
ンに関して理論量の90.4%;n賀−1.4944。
ガスクロマトグラム:97.3%及び1.7%点でシグ
ナル(ジアステレオマ一の混合物)。
元素分析 C22H44N2(分子量336.58):
マススペクトログラム:分子ピーク 336、フラグメ
ントマス 253、236、154及び112。
マススペクトログラム:分子ピーク 336、フラグメ
ントマス 253、236、154及び112。
H1−NMRスペクトル:(100メガヘルツ〔MHz
]):δ〔Ppm〕−2.4(多重)、1.7(多重)
、1.3(多重)、1.1(多重)、1.0(一重)、
2:38:4比更に特色づけるため、1・10−ジシク
ロヘキシル−1・10−ジアミノデカンを無水酢酸4d
中で10分間煮沸する。
]):δ〔Ppm〕−2.4(多重)、1.7(多重)
、1.3(多重)、1.1(多重)、1.0(一重)、
2:38:4比更に特色づけるため、1・10−ジシク
ロヘキシル−1・10−ジアミノデカンを無水酢酸4d
中で10分間煮沸する。
反応混合物を20〜25℃に冷却した後、無色結晶が沈
澱しこれをエタノールで1回再結晶し高度減圧下100
℃で乾燥する。次式:で表わされる化合物0.85f7
を無色結晶形で得る;融点217〜219℃。
澱しこれをエタノールで1回再結晶し高度減圧下100
℃で乾燥する。次式:で表わされる化合物0.85f7
を無色結晶形で得る;融点217〜219℃。
元素分析 C26H48N2O2(分子量420.68
):マススペクトログラム:分子ピーク 420フラグ
メントマス 41、337、295、236及び154
。
):マススペクトログラム:分子ピーク 420フラグ
メントマス 41、337、295、236及び154
。
実施例 2
(a) 3・12−ジメチル−1・2−ジアザ−1・5
・9−シクロドデカトリエンアセチルアセトンニツケル
22y(85ミリモル)及びトリフエニルホスフイン2
2y(84ミリモル)を無水トルエン21に溶かす。
・9−シクロドデカトリエンアセチルアセトンニツケル
22y(85ミリモル)及びトリフエニルホスフイン2
2y(84ミリモル)を無水トルエン21に溶かす。
1・3−ブタジエン約40y(0.74モル)をこの緑
色澄明トルエン溶液に室温(20〜25℃)で導入する
。
色澄明トルエン溶液に室温(20〜25℃)で導入する
。
還元は室温でエトキシジエチルアルミニウム35a(2
20ミリモル)で行ない、この溶液の色は緑から橙赤色
に変化する。混合物を一方で一定の絶え間ない1・3−
ブタジエン蒸気中に通しながら、可能な限り速く80℃
まで加温する。次にジエチリデン−ヒドラジン(アセト
アルダジン)725t(8.63モル)を1・3−ブタ
ジエンがいつも少し過剰に存在するように滴加する。ジ
エチリデンヒドラジンの最初の添加後、反応溶液の色は
褐色に変化し、発熱反応が始まる。工程を通して温度が
95℃以上に上昇しないように冷却を行う。2時間の添
加時間の後混合物を1・3−ブタジエンの適量の蒸気中
に通し続けながら、更に1時間90〜92℃で撹拌する
。
20ミリモル)で行ない、この溶液の色は緑から橙赤色
に変化する。混合物を一方で一定の絶え間ない1・3−
ブタジエン蒸気中に通しながら、可能な限り速く80℃
まで加温する。次にジエチリデン−ヒドラジン(アセト
アルダジン)725t(8.63モル)を1・3−ブタ
ジエンがいつも少し過剰に存在するように滴加する。ジ
エチリデンヒドラジンの最初の添加後、反応溶液の色は
褐色に変化し、発熱反応が始まる。工程を通して温度が
95℃以上に上昇しないように冷却を行う。2時間の添
加時間の後混合物を1・3−ブタジエンの適量の蒸気中
に通し続けながら、更に1時間90〜92℃で撹拌する
。
これを冷却した後、溶媒をトリフエニルホスフイン10
0m1で不活性化する。トルエン及び形成したであろう
副生成物は水流ポンプによる弱い減圧下(20〜30m
mHg)留去する。残渣は水流ポンプ減圧下分別蒸留(
ビグローカラム40譚)する。
0m1で不活性化する。トルエン及び形成したであろう
副生成物は水流ポンプによる弱い減圧下(20〜30m
mHg)留去する。残渣は水流ポンプ減圧下分別蒸留(
ビグローカラム40譚)する。
こうして3・12−ジメチル−1・2−ジアザ−1・5
・9−シクロドデカトリエン1375f7を無色油状物
質として得る;収量は反応させたジエチリデンヒドラジ
ン(100%変換)に関して理論量の83%;沸点11
0℃/1011Hg;n賀=1.4861。マススペク
トログラム:分子ピーク 192、フラグメントマス
177、82、67及び54、H1一褐スペクトル:(
100MHz) δ〔Ppm〕−5(多重)、3.5−3.8(多重)、
1.5−2.8(多重)、1.2(二重)4:2:8:
6比。
・9−シクロドデカトリエン1375f7を無色油状物
質として得る;収量は反応させたジエチリデンヒドラジ
ン(100%変換)に関して理論量の83%;沸点11
0℃/1011Hg;n賀=1.4861。マススペク
トログラム:分子ピーク 192、フラグメントマス
177、82、67及び54、H1一褐スペクトル:(
100MHz) δ〔Ppm〕−5(多重)、3.5−3.8(多重)、
1.5−2.8(多重)、1.2(二重)4:2:8:
6比。
)) 1・10−ジメチル−1・10−ジアミノデカン
3・12−ジメチル〜1・2−ジアザ−1・5・9−シ
クロドデカトリエン290.87(1.52モノ(ハ)
を純粋第3級ブタノール1.81に溶かす。
3・12−ジメチル〜1・2−ジアザ−1・5・9−シ
クロドデカトリエン290.87(1.52モノ(ハ)
を純粋第3級ブタノール1.81に溶かす。
反応溶液を攪拌オートクレーブ中140〜150℃まで
徐々に加温して(温度は1時間に約30℃増加させる)
、ロジウム−アルミニウムオキシド触媒(5重量%Rh
)307を添加し、混合物に14時間この温度で水素添
加する(開始圧120バール)。オートクレーブを室温
まで冷却した後、触媒はシリカゲルで濾去し第3級ブタ
ノール90aで洗浄する。溶媒は最初回転蒸発器で12
1!LlLHg下蒸発させ、次に浴温60℃で高度減圧
下除去する。こうして無色油状残渣288tを得る。こ
の反応生成物は、それを特色づけ精製するために実施例
1.・(b)に記載した様に処理する。こうして無色の
1・10−ジメチル−1・10−ジアミノデカン252
r(1.255モル)を得る:沸点73℃/0.1mm
Hg;n貨−1.4549。ガスクロマトグラム:98
%点にシグナル。
徐々に加温して(温度は1時間に約30℃増加させる)
、ロジウム−アルミニウムオキシド触媒(5重量%Rh
)307を添加し、混合物に14時間この温度で水素添
加する(開始圧120バール)。オートクレーブを室温
まで冷却した後、触媒はシリカゲルで濾去し第3級ブタ
ノール90aで洗浄する。溶媒は最初回転蒸発器で12
1!LlLHg下蒸発させ、次に浴温60℃で高度減圧
下除去する。こうして無色油状残渣288tを得る。こ
の反応生成物は、それを特色づけ精製するために実施例
1.・(b)に記載した様に処理する。こうして無色の
1・10−ジメチル−1・10−ジアミノデカン252
r(1.255モル)を得る:沸点73℃/0.1mm
Hg;n貨−1.4549。ガスクロマトグラム:98
%点にシグナル。
元素分析 Cl2H28N2(分子量 200、344
):マススペクトログラム:分子ピーク200;フラグ
メントマス 199、185、168、157、142
及び4413C一亀スペクトル:(トリメチルシランの
Ppm中のシフト;溶媒CDCl3)更に特色づけるた
め、上記1・10−ジメチル−1・10−ジアミノデカ
ンを実施例1に記載した様に次式:で表わされるビス−
アセチル体に変換する;融点119℃。
):マススペクトログラム:分子ピーク200;フラグ
メントマス 199、185、168、157、142
及び4413C一亀スペクトル:(トリメチルシランの
Ppm中のシフト;溶媒CDCl3)更に特色づけるた
め、上記1・10−ジメチル−1・10−ジアミノデカ
ンを実施例1に記載した様に次式:で表わされるビス−
アセチル体に変換する;融点119℃。
元素分析 Cl6H32N2O2(分子量284、44
6)実施例 3 (4) 3・12−ジイソプロピル−1・2−ジアザ−
1・5・9−シクロドデカトリエン実施例2において、
ジエチリデンヒドラジン725y(8.63モル)の代
わりにビス一(2一メチルプロピリデン)−ヒドラジン
(イソブチルアルダジン)232?(2.4モル)を使
用する時、他は同様な工程によつて、0.03mmHg
下精製蒸留の後3・12−ジイソプロピル−1・2ジア
ザ−1・5・9−シクロドデカトリエン426fを無色
油状物質として得る;沸点89〜92℃/0.031!
1mHg;収量は反応させたビス一(2−メチループロ
ピリデン)−ヒドラジン(100%変換)に関して理論
量の72%。
6)実施例 3 (4) 3・12−ジイソプロピル−1・2−ジアザ−
1・5・9−シクロドデカトリエン実施例2において、
ジエチリデンヒドラジン725y(8.63モル)の代
わりにビス一(2一メチルプロピリデン)−ヒドラジン
(イソブチルアルダジン)232?(2.4モル)を使
用する時、他は同様な工程によつて、0.03mmHg
下精製蒸留の後3・12−ジイソプロピル−1・2ジア
ザ−1・5・9−シクロドデカトリエン426fを無色
油状物質として得る;沸点89〜92℃/0.031!
1mHg;収量は反応させたビス一(2−メチループロ
ピリデン)−ヒドラジン(100%変換)に関して理論
量の72%。
マススペクトログラム:分子ピーク 248、フラグメ
ントマス 205、110及び95元素分析 Cl6H
28N2(分子量248.41)b) 1・10−ジイ
ソプロピル−1・10−ジアミノデカン3・12−ジイ
ソプロピル−1・2−ジアザ−1・5・9−シクロドデ
カトリエン2507(1モル)を純粋第3級ブタノール
1.51に撹拌オートクレーブ中で溶かす。
ントマス 205、110及び95元素分析 Cl6H
28N2(分子量248.41)b) 1・10−ジイ
ソプロピル−1・10−ジアミノデカン3・12−ジイ
ソプロピル−1・2−ジアザ−1・5・9−シクロドデ
カトリエン2507(1モル)を純粋第3級ブタノール
1.51に撹拌オートクレーブ中で溶かす。
反応溶液を140〜150℃まで徐々に加温しミ.ロジ
ウム−アルミニウムオキシド触媒(5重量%Rh)25
yを添加し、混合物にこの温度で14時間水素添加する
(開始圧120バール)。
ウム−アルミニウムオキシド触媒(5重量%Rh)25
yを添加し、混合物にこの温度で14時間水素添加する
(開始圧120バール)。
オートクレーブを20〜25℃まで冷却した後、触媒は
ケイソウ土で濾去し第3級ブタノール130dで洗浄す
る。溶媒は最初回転蒸発器で12mmHg下、次に浴温
60℃で高度減圧下除去する。こうして無色油状残渣2
647を得る。この残渣を短いビグローカラムを通して
高度減圧蒸留を行うと、前ランニング8y続いて無色1
・10−ジイソプロピル−1・10−ジアミノ−デカン
238y(0.92モル)を得る;沸点106〜109
℃/0.01中Hg;n賃=1.4600。収量は反応
させた3・12−ジイソプロピル−1・2−ジアザ−1
・5・9−シクロドデカトリエンに関して理論量の92
0/00ガスクロマトグラム:96.8%及び2%点で
シグナル(ジアステレオマ一の混合物)元素分析 Cl
6H36N2(分子量256.47)マススペクトログ
ラム:分子ピーク 2567ラグメントマス 238、
213、196、3142、123、109、97、8
3、72、56及び44 H1NMRスペクトル:(100MHz)δ〔Ppm]
=0.84(二重)、0.88(二重)、0.99(=
重)、1.29(=重)、1.564(多重)及び2.
48(多重)6:6:4:16:2:2比。
ケイソウ土で濾去し第3級ブタノール130dで洗浄す
る。溶媒は最初回転蒸発器で12mmHg下、次に浴温
60℃で高度減圧下除去する。こうして無色油状残渣2
647を得る。この残渣を短いビグローカラムを通して
高度減圧蒸留を行うと、前ランニング8y続いて無色1
・10−ジイソプロピル−1・10−ジアミノ−デカン
238y(0.92モル)を得る;沸点106〜109
℃/0.01中Hg;n賃=1.4600。収量は反応
させた3・12−ジイソプロピル−1・2−ジアザ−1
・5・9−シクロドデカトリエンに関して理論量の92
0/00ガスクロマトグラム:96.8%及び2%点で
シグナル(ジアステレオマ一の混合物)元素分析 Cl
6H36N2(分子量256.47)マススペクトログ
ラム:分子ピーク 2567ラグメントマス 238、
213、196、3142、123、109、97、8
3、72、56及び44 H1NMRスペクトル:(100MHz)δ〔Ppm]
=0.84(二重)、0.88(二重)、0.99(=
重)、1.29(=重)、1.564(多重)及び2.
48(多重)6:6:4:16:2:2比。
実施例 4
(a) 3・3・12・12−テトラメチル−1・2−
ジアザ9−シクロドデカトリエン 実施例2(a)においてジエチリデンヒドラジン725
?(8.63モル)の代わりにアセトンアジン6027
(5.37モル)を使用する時、他は同様な工程によつ
て0.02mmHg下精製蒸留の後3・3・12・12
−テトラメチル−1・2−ジアザ−1・5・9−シクロ
ドデカトリエン(沸点63〜5℃/0.02mmHg)
1103yを無色油状物質で得る;収率は反応させたア
セトン−アジン(100%変換)に関して理論量の93
.2%。
ジアザ9−シクロドデカトリエン 実施例2(a)においてジエチリデンヒドラジン725
?(8.63モル)の代わりにアセトンアジン6027
(5.37モル)を使用する時、他は同様な工程によつ
て0.02mmHg下精製蒸留の後3・3・12・12
−テトラメチル−1・2−ジアザ−1・5・9−シクロ
ドデカトリエン(沸点63〜5℃/0.02mmHg)
1103yを無色油状物質で得る;収率は反応させたア
セトン−アジン(100%変換)に関して理論量の93
.2%。
マススペクトログラム:分子ピーク 220フラグメン
トマス 205、192、96及び81。
トマス 205、192、96及び81。
H!一曳−スベクトル:(100MHz)δ〔Ppm〕
−4.95(多重)、2.35−2.50(多重)、1
.90−2.10(多重)及び1.15(一重)4:4
:4:12比。
−4.95(多重)、2.35−2.50(多重)、1
.90−2.10(多重)及び1.15(一重)4:4
:4:12比。
)) 1・1・10・10−テトラメチル−1・10−
ジアミノデカン3・3・12・12−テトラメチル−1
・2−ジアザ−1・5・9−シクロドデカトリエン66
0y(3モル)を無水(純粋)エチレングリコールエー
テル41に撹拌オートクレーブ中で溶かし、パラジウム
炭素30t(5重量%Pd)の添加で最初20〜25℃
で30分間、次に110〜120℃で8時間水素添加を
行なう。
ジアミノデカン3・3・12・12−テトラメチル−1
・2−ジアザ−1・5・9−シクロドデカトリエン66
0y(3モル)を無水(純粋)エチレングリコールエー
テル41に撹拌オートクレーブ中で溶かし、パラジウム
炭素30t(5重量%Pd)の添加で最初20〜25℃
で30分間、次に110〜120℃で8時間水素添加を
行なう。
その後オートクレーブを室温まで冷却した後、触媒をシ
リカゲルに通して濾去しエチレングリコールモノメチル
エーテル100m1で洗浄する。得られた澄明反応溶液
に冷水200m1を加えると、次式:で表わされる3・
3・12・12−テトラメチル−1・2−ジアザシクロ
ドデカンが無色結晶の形で沈澱する。
リカゲルに通して濾去しエチレングリコールモノメチル
エーテル100m1で洗浄する。得られた澄明反応溶液
に冷水200m1を加えると、次式:で表わされる3・
3・12・12−テトラメチル−1・2−ジアザシクロ
ドデカンが無色結晶の形で沈澱する。
この生成物を濾取し、少量の冷メタノール2回洗浄した
後高度減圧下P2O5で6時間乾燥する;融点50〜5
4℃。収量617yは反応させた3・3・12・12−
テトラメチル−1・2−ジアザ−1・5・9−シクロド
デカトリエンに関して理論量の91%である。元素分析
Cl4H3ON2(分子量 226.4)CHN計算
値 74.24% 13.36% 12.38%実験値
74.10% 13.39% 12.50%マススペ
クトログラム:分子ピーク 226、フラグメントマス
211、113、73及び55。
後高度減圧下P2O5で6時間乾燥する;融点50〜5
4℃。収量617yは反応させた3・3・12・12−
テトラメチル−1・2−ジアザ−1・5・9−シクロド
デカトリエンに関して理論量の91%である。元素分析
Cl4H3ON2(分子量 226.4)CHN計算
値 74.24% 13.36% 12.38%実験値
74.10% 13.39% 12.50%マススペ
クトログラム:分子ピーク 226、フラグメントマス
211、113、73及び55。
上記3・3・12・12−テトラメチル−1・2−ジア
ザシクロドデカン5657(2.5モル)を純粋第3級
ブタノール2.81に溶かし、攪拌オートクレーブ中で
アンモニア3807及びラネーニツケル110yで処理
する。
ザシクロドデカン5657(2.5モル)を純粋第3級
ブタノール2.81に溶かし、攪拌オートクレーブ中で
アンモニア3807及びラネーニツケル110yで処理
する。
反応混合物は徐々に230℃まで加温し、この温度で1
6時間水素添加する(開始圧120バール)。オートク
レーブは20〜25℃に冷却し、触媒はシリカゲルに通
して濾去して第3級ブタノ※ール130m1で洗浄する
。溶媒はまず最初に回転蒸発器による12薦Hg下、次
に浴温60℃で高温減圧下除去する。こうして無色油状
残渣555tを得る。次にこの残渣を高度減圧蒸留する
と2・11−ジメチルドデカンから成る前ランニング7
87を得る;沸点76−80℃/0.01mmHg;マ
ススペクトル:分子ピーク 198、 フラグメントマス 183、155、57及び43。
6時間水素添加する(開始圧120バール)。オートク
レーブは20〜25℃に冷却し、触媒はシリカゲルに通
して濾去して第3級ブタノ※ール130m1で洗浄する
。溶媒はまず最初に回転蒸発器による12薦Hg下、次
に浴温60℃で高温減圧下除去する。こうして無色油状
残渣555tを得る。次にこの残渣を高度減圧蒸留する
と2・11−ジメチルドデカンから成る前ランニング7
87を得る;沸点76−80℃/0.01mmHg;マ
ススペクトル:分子ピーク 198、 フラグメントマス 183、155、57及び43。
主となる分画として1・1・10・10−テトラメチル
−1・10−ジアミノデカン4527を得る;沸点93
℃/0.01mmHg;n貨−1.435。
−1・10−ジアミノデカン4527を得る;沸点93
℃/0.01mmHg;n貨−1.435。
収率は反応させた3・3・12・12−テトラメチル−
1・2−ジアザシクロドデカンに関して理論量の81%
。ガスクロマトグラム:98.2%及び1.2%点でシ
グナル(ジアステレオマ一の混合物)。
1・2−ジアザシクロドデカンに関して理論量の81%
。ガスクロマトグラム:98.2%及び1.2%点でシ
グナル(ジアステレオマ一の混合物)。
最終生成物の精製を実施例1(b)で示した様に二塩酸
塩にすることで行なう時、生成物はガスクロマトグラフ
イ一によると99%純度で得られる。
塩にすることで行なう時、生成物はガスクロマトグラフ
イ一によると99%純度で得られる。
元素分析 Cl4H32N2(分子量 228.41)
:マススペクトログラム:分子ピーク (M+1)22
9、フラグメントマス 213、196及び58。
:マススペクトログラム:分子ピーク (M+1)22
9、フラグメントマス 213、196及び58。
H1一畠スペクトル:(100MHz)+D2。δ〔P
pm]=1.07(多重)及び1.29(一重) 12
:16比。更に特色づけるため、上記1・1・10・1
0−テトラメチル−1・10−ジアミノデカンを実施例
1に記載した様に、次式:元素分析 Cl8H36N2
O2(分子量312.478)H1一懇スペクトル:(
100MHz)δ〔Ppm〕−5.5(多重)、1.9
0(一重)、1.29({)及び1.6(多重) 2:
6:28:4比実施例 5 (a) 3・12−ジエチル−3・12−ジメチル−1
・2−ジアザ−1・5・9−シクロドデカトリエンアセ
チルアセトンニツケル2.56y(10ミリモル)及び
トリフエニルホスフイン2.6f7(10ミリモル)を
無水トルエン50aに溶かし、溶液は室温下プタジエン
で飽和する。
pm]=1.07(多重)及び1.29(一重) 12
:16比。更に特色づけるため、上記1・1・10・1
0−テトラメチル−1・10−ジアミノデカンを実施例
1に記載した様に、次式:元素分析 Cl8H36N2
O2(分子量312.478)H1一懇スペクトル:(
100MHz)δ〔Ppm〕−5.5(多重)、1.9
0(一重)、1.29({)及び1.6(多重) 2:
6:28:4比実施例 5 (a) 3・12−ジエチル−3・12−ジメチル−1
・2−ジアザ−1・5・9−シクロドデカトリエンアセ
チルアセトンニツケル2.56y(10ミリモル)及び
トリフエニルホスフイン2.6f7(10ミリモル)を
無水トルエン50aに溶かし、溶液は室温下プタジエン
で飽和する。
還元は室温下エトキシジエチル−アルミニウム3.9m
1(25ミリモル)を使用して行ない、得られた触媒溶
液は連続的にブタジエンに通しながら85〜95℃に加
温し、この温度で2−ブチリデンヒドラジン(2−ブタ
ノンーアジン)173r(1.24モル)をいつもブタ
ジエンが少し過剰に存在するようにしてこの溶液に滴加
する。30分の添加時間後、90℃で更に30分間撹拌
を続けた後反応溶液は冷却し、触媒をイオウ0.5〜1
7を加えて不活性化する。
1(25ミリモル)を使用して行ない、得られた触媒溶
液は連続的にブタジエンに通しながら85〜95℃に加
温し、この温度で2−ブチリデンヒドラジン(2−ブタ
ノンーアジン)173r(1.24モル)をいつもブタ
ジエンが少し過剰に存在するようにしてこの溶液に滴加
する。30分の添加時間後、90℃で更に30分間撹拌
を続けた後反応溶液は冷却し、触媒をイオウ0.5〜1
7を加えて不活性化する。
トルエン及び生成する揮発性副生成物は水流ポンプ減圧
下除去し、残渣は0.4m7!LHgで分留して来る。
下除去し、残渣は0.4m7!LHgで分留して来る。
こうして3・12−ジエチル−3・12−ジメチル−1
・2−ジアザ−1・5・9−シクロドデカトリエン(ジ
アステレオマ一の混合物)1677(55%)を無色油
状物質として得る;沸点103〜4℃/0.4mmHg
:n賃1.4895。元素分析 C,6H28N2(分
子量 248.41)H1−NMRスペクトル:(10
0MHz)溶媒CDCl3δ〔Ppm〕−0.8(f)
、1.0(一重)、1.1(一重)、1.4〜2.8(
多重)及び4.8〜5.1(多重) 6:3:3:12
:4比b) 1・10−ジエチル−1・10−ジメチル
−1・10−ジアミノデカン3・12−ジエチル−3・
12−ジメチル1・2−ジアザ−1・5・9−シクロド
デカトリエン1247(0.5モル)に、撹拌オートク
レーブ中のシクロヘキサン620m1中パラジウム炭素
触媒(5重量%Pd)12yを添加し最初室温で90分
間、次に100〜110℃で60分間水素添加する。
・2−ジアザ−1・5・9−シクロドデカトリエン(ジ
アステレオマ一の混合物)1677(55%)を無色油
状物質として得る;沸点103〜4℃/0.4mmHg
:n賃1.4895。元素分析 C,6H28N2(分
子量 248.41)H1−NMRスペクトル:(10
0MHz)溶媒CDCl3δ〔Ppm〕−0.8(f)
、1.0(一重)、1.1(一重)、1.4〜2.8(
多重)及び4.8〜5.1(多重) 6:3:3:12
:4比b) 1・10−ジエチル−1・10−ジメチル
−1・10−ジアミノデカン3・12−ジエチル−3・
12−ジメチル1・2−ジアザ−1・5・9−シクロド
デカトリエン1247(0.5モル)に、撹拌オートク
レーブ中のシクロヘキサン620m1中パラジウム炭素
触媒(5重量%Pd)12yを添加し最初室温で90分
間、次に100〜110℃で60分間水素添加する。
そして、触媒を濾去し溶媒を回転蒸発器で除去した後、
3・12−ジエチル−3・12−ジメチル−1・2−ジ
アザシクロドデカン(ジアステレオマ一の混合物)12
3y(97%)を黄色油状物質として生成してくる。上
記3・12−ジエチル−3・12−ジメチル1・2−ジ
アザシクロドデカン23y(90ミリモル)を、攪拌オ
ートクレーブ中のシクロヘキサン200m1中ロジウム
−アルミニウムオキシド触媒(5重量%Rh)37添加
して200〜210℃で17時間水素添加する。
3・12−ジエチル−3・12−ジメチル−1・2−ジ
アザシクロドデカン(ジアステレオマ一の混合物)12
3y(97%)を黄色油状物質として生成してくる。上
記3・12−ジエチル−3・12−ジメチル1・2−ジ
アザシクロドデカン23y(90ミリモル)を、攪拌オ
ートクレーブ中のシクロヘキサン200m1中ロジウム
−アルミニウムオキシド触媒(5重量%Rh)37添加
して200〜210℃で17時間水素添加する。
そして触媒を濾去し、回転蒸発器で溶媒を除去した後残
渣は0.27ftmHgで分留する。こうして1・10
−ジエチル−1・10−ジメチル−1・10−ジアミノ
デカン7.7f7(30%)を無色油状物質として得る
;沸点118〜22℃/0.2mmHg,.n智=1.
4597。元素分析 Cl6H36N2(分子量 25
6.48)H1一亀スペクトル:(100MHz)溶媒
C6O6δ〔Pp.m]=0.66(一重)、0.84
(f)、0.94(―重)及び1.1−1.5(多重)
4:6:6:20比こ施例 6 (a) 3・12−ジシクロオクチル−1・2−ジアザ
−1・5・9−シクロドデカトリエンアセチルアセトン
ニツケル1.25t(5ミリモル)及びトリフエニルホ
スフイン1.25y(5ミリモル)をアンプル中で無水
トルエン75m1に溶かしブタジエン20f7をコンデ
ンスする。
渣は0.27ftmHgで分留する。こうして1・10
−ジエチル−1・10−ジメチル−1・10−ジアミノ
デカン7.7f7(30%)を無色油状物質として得る
;沸点118〜22℃/0.2mmHg,.n智=1.
4597。元素分析 Cl6H36N2(分子量 25
6.48)H1一亀スペクトル:(100MHz)溶媒
C6O6δ〔Pp.m]=0.66(一重)、0.84
(f)、0.94(―重)及び1.1−1.5(多重)
4:6:6:20比こ施例 6 (a) 3・12−ジシクロオクチル−1・2−ジアザ
−1・5・9−シクロドデカトリエンアセチルアセトン
ニツケル1.25t(5ミリモル)及びトリフエニルホ
スフイン1.25y(5ミリモル)をアンプル中で無水
トルエン75m1に溶かしブタジエン20f7をコンデ
ンスする。
還元は室温下エトキシジエチル−アルミニウム1.8m
1(12ミリモル)を使用して行ない、このようにして
得られた触媒溶液にシクロオクチルカルボアルダジン1
3.8y(50ミリモル)を加えた後この混合物を室温
で62時間撹拌する。その後、触媒は不活性化し、反応
溶液をトルエン200rn1で希釈しシリカゲルで濾過
してから溶媒を回転蒸発器で除去する。残渣をエタノー
ルで結晶化すると、3・12−ジシクロオクチル−1・
2−ジアザ−1・5・9一シクロドデカトリエン6.3
t(33%)を得る;融点62−63℃。元素分析 C
26H44N2(分子量 384.65)H1−NMR
スペクトル:(100MHz)溶媒CDCl3δ〔Pp
m〕=1.1−2.9(多量)、3.03(二重)、3
.14(二重)及び4.8−5.1(多重) 38:1
:1:4比)) 1・10−ジシクロオクチル−1・1
0−ジアミノデカン3・12−ジシクロオクチル−1・
2−ジアザ−1・5・9−シクロドデカトリエン2.5
y(6.5ミリモル)を、撹拌オートクレーブ中のシク
ロヘキサン100m1中ロジウム−アルミニウムオキシ
ド(5重量%Rh)0.6fの添加で、最初室温で90
分間次に210−220℃で6時間水素添加する。
1(12ミリモル)を使用して行ない、このようにして
得られた触媒溶液にシクロオクチルカルボアルダジン1
3.8y(50ミリモル)を加えた後この混合物を室温
で62時間撹拌する。その後、触媒は不活性化し、反応
溶液をトルエン200rn1で希釈しシリカゲルで濾過
してから溶媒を回転蒸発器で除去する。残渣をエタノー
ルで結晶化すると、3・12−ジシクロオクチル−1・
2−ジアザ−1・5・9一シクロドデカトリエン6.3
t(33%)を得る;融点62−63℃。元素分析 C
26H44N2(分子量 384.65)H1−NMR
スペクトル:(100MHz)溶媒CDCl3δ〔Pp
m〕=1.1−2.9(多量)、3.03(二重)、3
.14(二重)及び4.8−5.1(多重) 38:1
:1:4比)) 1・10−ジシクロオクチル−1・1
0−ジアミノデカン3・12−ジシクロオクチル−1・
2−ジアザ−1・5・9−シクロドデカトリエン2.5
y(6.5ミリモル)を、撹拌オートクレーブ中のシク
ロヘキサン100m1中ロジウム−アルミニウムオキシ
ド(5重量%Rh)0.6fの添加で、最初室温で90
分間次に210−220℃で6時間水素添加する。
触媒を濾去し溶媒を回転蒸発器で除去した後、粗1・1
0−ジシクロオクチル−1・10−ジアミノデカン2.
4rを得る。単離及び特色づけるため、上記ジアミンを
相当するビス−アセチル体に変換し、これをエーテル/
アセトニトリルで再結晶する。こうしてN−マービスア
セチル一(1・10−ジシクロオクチル−1・10−ジ
アミノデカン)0.857(27%)を得る:融点14
4〜9℃。元素分析 C3OH,6N2O2(分子量
476.79)H1一畠スペクトル:(100MHz)
溶媒CDCl3δ〔Ppm〕=1.0−1.8(多重)
、1.98(一重)、3.76(多重)及び5.6(二
重)46:6:2:2比実施例 7 (a) 3・12−ジヘプチル−1・2−ジアザ−1・
5・9−シクロドデカトリエン実施例5{a)において
2−ブチリデンヒドラジン173t(1.24モル)の
代わりに、力フリルァルダジン37.9t(0.15モ
ル)を使用し、他は同様な反応条件下で行ない、実施例
6(Qの様に混合物を処理した時、3・12−ジヘプチ
ル−1・2−ジアザ−1・5・9−シクロドデカトリエ
ン8.9t(16%)を得る:融点60〜61℃。
0−ジシクロオクチル−1・10−ジアミノデカン2.
4rを得る。単離及び特色づけるため、上記ジアミンを
相当するビス−アセチル体に変換し、これをエーテル/
アセトニトリルで再結晶する。こうしてN−マービスア
セチル一(1・10−ジシクロオクチル−1・10−ジ
アミノデカン)0.857(27%)を得る:融点14
4〜9℃。元素分析 C3OH,6N2O2(分子量
476.79)H1一畠スペクトル:(100MHz)
溶媒CDCl3δ〔Ppm〕=1.0−1.8(多重)
、1.98(一重)、3.76(多重)及び5.6(二
重)46:6:2:2比実施例 7 (a) 3・12−ジヘプチル−1・2−ジアザ−1・
5・9−シクロドデカトリエン実施例5{a)において
2−ブチリデンヒドラジン173t(1.24モル)の
代わりに、力フリルァルダジン37.9t(0.15モ
ル)を使用し、他は同様な反応条件下で行ない、実施例
6(Qの様に混合物を処理した時、3・12−ジヘプチ
ル−1・2−ジアザ−1・5・9−シクロドデカトリエ
ン8.9t(16%)を得る:融点60〜61℃。
元素分析 C24H44N2(分子量 360.63)
H1一畠スペクトル:(100MHz)溶媒CDCl3
δ〔Ppm〕−0.84C三重)、1.23(多重)、
1.5−2.0(多重)、2.0−2.9(多重)、3
.28(多重)及び5.0(多重) 6:20:18:
4:2:4比(b) 2・10−ジヘプチル−2・10
−ジアミノデカン実施例6(b)において3・12−ジ
シクロオクチル−1・2−ベアザ一1・5・9−シクロ
ドデカトリエン2.5f(6.5ミリモル)の代わりに
3・12−ジヘプチル−1・2−ジアザ−1・5・9−
シクロドデカトリエン3.6?(10ミリモル)を使用
し、他は同様な反応条件下で行ない処理すると、粗2・
10−ジヘプチル−2・10−ジアミノデカン3.57
を無色油状物質として得る。
H1一畠スペクトル:(100MHz)溶媒CDCl3
δ〔Ppm〕−0.84C三重)、1.23(多重)、
1.5−2.0(多重)、2.0−2.9(多重)、3
.28(多重)及び5.0(多重) 6:20:18:
4:2:4比(b) 2・10−ジヘプチル−2・10
−ジアミノデカン実施例6(b)において3・12−ジ
シクロオクチル−1・2−ベアザ一1・5・9−シクロ
ドデカトリエン2.5f(6.5ミリモル)の代わりに
3・12−ジヘプチル−1・2−ジアザ−1・5・9−
シクロドデカトリエン3.6?(10ミリモル)を使用
し、他は同様な反応条件下で行ない処理すると、粗2・
10−ジヘプチル−2・10−ジアミノデカン3.57
を無色油状物質として得る。
単離及び特色づけるため上記ジアミンを相当するビス−
アセチル体に変換し、これをn−プロパノールで再結晶
する。
アセチル体に変換し、これをn−プロパノールで再結晶
する。
こうしてN−N′−ビスアセチル−(1・10−ジヘプ
チル−1・10−ジアミノデカン)1.47(31%)
を得る:融点158〜62℃。元素分析 C28H56
N2O2(分子量 452.77)式1で表わされる1
・10−ジアミノデカンはエポキシド樹脂に対して有用
な硬化剤である。
チル−1・10−ジアミノデカン)1.47(31%)
を得る:融点158〜62℃。元素分析 C28H56
N2O2(分子量 452.77)式1で表わされる1
・10−ジアミノデカンはエポキシド樹脂に対して有用
な硬化剤である。
それらで硬化される生成物及び物質は良好な熱的及び誘
導性特性で顕著であり、とりわけ改良された機械的特性
例えば良好な耐衝撃性、張力下の高い剪断強さ、同様に
良好な接着性できわだつている。ポリエポキシド及び硬
化剤として式1で表わされる化合物を少なくとも1個含
有している本発明による硬化性組成物は、特に成形品、
含浸材料、コーテイング、ラツカ一及びシーリングに適
している。
導性特性で顕著であり、とりわけ改良された機械的特性
例えば良好な耐衝撃性、張力下の高い剪断強さ、同様に
良好な接着性できわだつている。ポリエポキシド及び硬
化剤として式1で表わされる化合物を少なくとも1個含
有している本発明による硬化性組成物は、特に成形品、
含浸材料、コーテイング、ラツカ一及びシーリングに適
している。
ポリエポキシド(a)のエポキシド基1当量に対して、
式1で表わされる特別の1・10−ジアミノデカンの窒
素に結合している活性水素原子は0.5〜1.3当量、
好ましくは約1.0当量使用するのが適当である。
式1で表わされる特別の1・10−ジアミノデカンの窒
素に結合している活性水素原子は0.5〜1.3当量、
好ましくは約1.0当量使用するのが適当である。
使用され得るポリエポキシド(a)はとりわけ平均して
1つ以上のグリシジル基、β−メチル−グリシジル基又
は2・3−エポキシシクロペンチル基を有し、それらは
ヘテロ原子(例えばイオウ、好ましくぱ酸素、窒素)に
結合しているものである;特別な例を次に記載すんビス
一(2・3−エポキシ−シクロペンチル)エーテル、1
・4−ブタンジオール又はポリプロピレングリコールの
ようなポリアルキレングリコール等のポリヒトリック脂
肪族アルコールのジグリシジル又はポリグリシジルエー
テル、2・2−ビス−(4−ヒドロキシシクロヘキシル
)−プロパンのような脂環族ポリオールのジグリシジル
又はポリグリシジルエーテル、レゾルシノール、ビス一
(p−ヒドロキシフエニル)−メタン、2・2−ビス−
(p−ヒドロキシフエニル)−プロパン(ニジオメタン
)、2・2−ビス−(4/−ヒドロキシ−3′・5′−
ジプロモフエニル)−プロパン、1・1・2・2ーテト
ラキズ−(p−ヒドロキシフエニル)−エタン又はフエ
ノールノボラツク及びクレゾールノボラツクの様な酸性
条件下得られるフエノールとホルムアルデヒドの縮合生
成物等のポリヒトリックフェノールのジグリシジル又は
ポリグリシジルエーテル、上記ポリヒトリックアルコー
ル又はポリヒトリックフェノールのジ一又はポリ一(β
−メチルグリシジル)エーテル、フタル酸、テレフタル
酸、Δ4−テトラヒト !口フタル酸及びヘキサヒドロ
フタル酸の様な多塩基カルボン酸のポリグリシジルエス
テル、N・N−ジグリシジルアニリン、N−N−ジグリ
シジルトルイジン及びN−N−N′−N′−テトラグリ
シジル−ビス−(p−アミノフエニル)−メ lタンの
様なアミン、アミド及び複素環式窒素塩基のN−グリシ
ジル塩基、トリグリシジル イソシアヌレート、 N−マージグリシジル エチレン尿素、 N−Nしジグリシジル−5・5−ジメチルヒ lタント
ーン、N−N′−ジグリシジル−5−イソプロピルヒダ
ントイン及びN−N′−ジグリシジル−5・5−ジメチ
ル−6−イソプロピル−5・6−ジヒドロウラシル;所
望ならば、活性希釈剤、例えばスチレンオ 乏キシド、
ブチルグリシジルエーテル、イソオクチルグリシジルエ
ーテル、フエニルグリシジルエーテル、クレシルグリシ
ジルエーテル及び合成の高度に分枝された主として第3
級脂肪族モノカルボン酸のグリシジルエステルのような
活 5性希釈剤は粘度を低下するため上記硬化性混合物
に添加してもよい。
1つ以上のグリシジル基、β−メチル−グリシジル基又
は2・3−エポキシシクロペンチル基を有し、それらは
ヘテロ原子(例えばイオウ、好ましくぱ酸素、窒素)に
結合しているものである;特別な例を次に記載すんビス
一(2・3−エポキシ−シクロペンチル)エーテル、1
・4−ブタンジオール又はポリプロピレングリコールの
ようなポリアルキレングリコール等のポリヒトリック脂
肪族アルコールのジグリシジル又はポリグリシジルエー
テル、2・2−ビス−(4−ヒドロキシシクロヘキシル
)−プロパンのような脂環族ポリオールのジグリシジル
又はポリグリシジルエーテル、レゾルシノール、ビス一
(p−ヒドロキシフエニル)−メタン、2・2−ビス−
(p−ヒドロキシフエニル)−プロパン(ニジオメタン
)、2・2−ビス−(4/−ヒドロキシ−3′・5′−
ジプロモフエニル)−プロパン、1・1・2・2ーテト
ラキズ−(p−ヒドロキシフエニル)−エタン又はフエ
ノールノボラツク及びクレゾールノボラツクの様な酸性
条件下得られるフエノールとホルムアルデヒドの縮合生
成物等のポリヒトリックフェノールのジグリシジル又は
ポリグリシジルエーテル、上記ポリヒトリックアルコー
ル又はポリヒトリックフェノールのジ一又はポリ一(β
−メチルグリシジル)エーテル、フタル酸、テレフタル
酸、Δ4−テトラヒト !口フタル酸及びヘキサヒドロ
フタル酸の様な多塩基カルボン酸のポリグリシジルエス
テル、N・N−ジグリシジルアニリン、N−N−ジグリ
シジルトルイジン及びN−N−N′−N′−テトラグリ
シジル−ビス−(p−アミノフエニル)−メ lタンの
様なアミン、アミド及び複素環式窒素塩基のN−グリシ
ジル塩基、トリグリシジル イソシアヌレート、 N−マージグリシジル エチレン尿素、 N−Nしジグリシジル−5・5−ジメチルヒ lタント
ーン、N−N′−ジグリシジル−5−イソプロピルヒダ
ントイン及びN−N′−ジグリシジル−5・5−ジメチ
ル−6−イソプロピル−5・6−ジヒドロウラシル;所
望ならば、活性希釈剤、例えばスチレンオ 乏キシド、
ブチルグリシジルエーテル、イソオクチルグリシジルエ
ーテル、フエニルグリシジルエーテル、クレシルグリシ
ジルエーテル及び合成の高度に分枝された主として第3
級脂肪族モノカルボン酸のグリシジルエステルのような
活 5性希釈剤は粘度を低下するため上記硬化性混合物
に添加してもよい。
本発明による硬化性組成物を成形品及び同種品を製造す
るため、20〜160℃の温度範囲で硬化するのが適切
である。
るため、20〜160℃の温度範囲で硬化するのが適切
である。
上記硬化反応はまた公知の方法で2もしくはそれ以上の
段階でも実施され、その場合最初の硬化段階により低い
温度で行われ、そしで後硬化はより高い温度で行われる
。所望ならば、硬化はまた、該硬化反応を先ず.早期に
中止するか、または最初の段階は室温又は僅かに高い温
度で実施するように2つの段階で実施してもよく、それ
によりなお可融性及び/または可溶性である硬化性前一
縮合物(所謂B一段階)がエポキシド成分a及び硬化剤
aから得られる。
段階でも実施され、その場合最初の硬化段階により低い
温度で行われ、そしで後硬化はより高い温度で行われる
。所望ならば、硬化はまた、該硬化反応を先ず.早期に
中止するか、または最初の段階は室温又は僅かに高い温
度で実施するように2つの段階で実施してもよく、それ
によりなお可融性及び/または可溶性である硬化性前一
縮合物(所謂B一段階)がエポキシド成分a及び硬化剤
aから得られる。
このような前縮合物は、例えばプレプレグ、圧縮成形組
成物または特に焼結粉の製造に使用される。ゲル化又は
硬化時間の短縮のため、アミン硬化で知られている促進
剤、例えばフエノール又はジオメタンの様なモノフエノ
ール又はポリフエノール、サリチル酸、第3級アミン、
又はNH4SCNの様なチオシアン酸等を添加すること
も出米る。
成物または特に焼結粉の製造に使用される。ゲル化又は
硬化時間の短縮のため、アミン硬化で知られている促進
剤、例えばフエノール又はジオメタンの様なモノフエノ
ール又はポリフエノール、サリチル酸、第3級アミン、
又はNH4SCNの様なチオシアン酸等を添加すること
も出米る。
本明細書に使用される術語7硬化7は可溶性、液体かま
たは可融性ポリエポキシドが、固体の、不溶性及び不融
性の三次元的に交サ結合された生成物もしくば物質に転
換され、そして一般に同時に成形されて成形物品、例え
ば流し込み成形物、成形物及び積層物を形成するか、ま
たは含浸物、被覆加工物、ラツカーフイルムまたはシー
リングを与えることを示す。
たは可融性ポリエポキシドが、固体の、不溶性及び不融
性の三次元的に交サ結合された生成物もしくば物質に転
換され、そして一般に同時に成形されて成形物品、例え
ば流し込み成形物、成形物及び積層物を形成するか、ま
たは含浸物、被覆加工物、ラツカーフイルムまたはシー
リングを与えることを示す。
ポリエポキシド(a)及び硬化剤としての式1で表わさ
れる1・10−ジアミノデカンから成る本発明による硬
化性組成物は、硬化前のあらゆる段階で通常の改質剤例
えば増量剤、充填剤及び補強剤、顔料、染料、有機溶媒
、可塑剤、流動調節剤、チキリトロープ剤、難燃材料及
び離型剤で処理することができる。
れる1・10−ジアミノデカンから成る本発明による硬
化性組成物は、硬化前のあらゆる段階で通常の改質剤例
えば増量剤、充填剤及び補強剤、顔料、染料、有機溶媒
、可塑剤、流動調節剤、チキリトロープ剤、難燃材料及
び離型剤で処理することができる。
次に記すものは本発明による硬化性組成物に使用し得る
増量剤、補強剤、充填剤及び顔料の例である:コールタ
ール、ビチユーメン、織物繊維、ガラス繊維、石綿繊維
、ホウ素繊維、カーボン繊維、セルロース、ポリエチレ
ン粉末及びポリプロピレン粉末;石英粉、雲母のような
無機ケイ酸塩、粉末石英及び粉末ジュール;カオリン、
酸化アルミニウム三水和物、粉末チヨーク、石膏、三酸
化アンチモン、ベントナイト、ケイ酸エアロゲル、リト
ポン、重晶石、二酸化チタン、カーボンブラツク、黒鉛
、酸化物色素、例えば酸化鉄又はアルミニウム粉もしく
は鉄粉のような金属粉である。
増量剤、補強剤、充填剤及び顔料の例である:コールタ
ール、ビチユーメン、織物繊維、ガラス繊維、石綿繊維
、ホウ素繊維、カーボン繊維、セルロース、ポリエチレ
ン粉末及びポリプロピレン粉末;石英粉、雲母のような
無機ケイ酸塩、粉末石英及び粉末ジュール;カオリン、
酸化アルミニウム三水和物、粉末チヨーク、石膏、三酸
化アンチモン、ベントナイト、ケイ酸エアロゲル、リト
ポン、重晶石、二酸化チタン、カーボンブラツク、黒鉛
、酸化物色素、例えば酸化鉄又はアルミニウム粉もしく
は鉄粉のような金属粉である。
硬化性組成物を改質するための適当な有機溶媒の例は、
トルエン、キシレン、n−プロパノール、酢酸ブチル、
アセトン、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコール
及びエチレングリコールモノメチル一、モノエチル一、
並びにモノブチルエーテルである。
トルエン、キシレン、n−プロパノール、酢酸ブチル、
アセトン、メチルエチルケトン、ジアセトンアルコール
及びエチレングリコールモノメチル一、モノエチル一、
並びにモノブチルエーテルである。
硬化性組成物を改質するために使用され得る可塑剤の例
はフタル酸ジブチル、−ジオクチル及び−ジノニル、ト
リクレジルホスフエイト、トリキシレニルホスフエイト
及びポリプロピレングリコールである。
はフタル酸ジブチル、−ジオクチル及び−ジノニル、ト
リクレジルホスフエイト、トリキシレニルホスフエイト
及びポリプロピレングリコールである。
硬化性組成物を特に表面保護に使用する時に加え得る流
動調節剤の例はシリコーン、セルロースアセトブチレー
ト、ポリビニルブチラール、ワツクス、ステアレート及
び同種物(これは一部分は離型剤として使用出来る)で
ある。
動調節剤の例はシリコーン、セルロースアセトブチレー
ト、ポリビニルブチラール、ワツクス、ステアレート及
び同種物(これは一部分は離型剤として使用出来る)で
ある。
特に、ラツカ一の分野で使用する時、ポリエポキシドを
公知の方法でカルボン酸例えば特に高級不飽和脂肪酸で
部分的にエステル化することも可能である。
公知の方法でカルボン酸例えば特に高級不飽和脂肪酸で
部分的にエステル化することも可能である。
更に他の硬化性合成樹脂、例えばフエノプラスト又はア
ミノプラストをこのようなラツカ一樹脂調製物に添加し
得る。本発明による硬化性混合物は公知の混合装置(撹
拌器、コネマゼ機、ロールなど)を使用し普通に調製さ
れる。
ミノプラストをこのようなラツカ一樹脂調製物に添加し
得る。本発明による硬化性混合物は公知の混合装置(撹
拌器、コネマゼ機、ロールなど)を使用し普通に調製さ
れる。
本発明による硬化性エポキシド樹脂混合物は、なかんず
く表面保護、電気工業、積層操作及び建造物取引の分野
に使用される。
く表面保護、電気工業、積層操作及び建造物取引の分野
に使用される。
上記混合物はそれぞれの場合に特定の応用に適する調合
物で、非充てんもしくは充てんされた状態適切ならば溶
液又はエマルジヨンの形で、例えばペイント、ラツカ一
、焼結粉末、圧縮成形組成物、射出成形組成物、浸漬樹
脂、流し込み樹脂、含浸樹脂、結合剤及び接着剤、成形
樹脂、積層樹脂、シーリング組成物及び下塗剤、床被覆
組成物及び鉱物質骨材用結合剤の形で使用される。次の
エポキシド樹脂は用途例に記載の硬化性混合物の調製に
使用された:エポキシド樹脂A 2・2−ビス−(、p−オキシフエニル)プロパンとエ
ピクロロヒドリンの化学量論的過剰とアルカリの存在下
に縮合させて生成されるエポキシド樹脂(工業製品)は
、次式:で表わされるジオメタンジグリシジルエーテル
(DiOmethandiglyci(3y1ethe
r)が大部分を占め、室温で液体であり、次の特性を有
する。
物で、非充てんもしくは充てんされた状態適切ならば溶
液又はエマルジヨンの形で、例えばペイント、ラツカ一
、焼結粉末、圧縮成形組成物、射出成形組成物、浸漬樹
脂、流し込み樹脂、含浸樹脂、結合剤及び接着剤、成形
樹脂、積層樹脂、シーリング組成物及び下塗剤、床被覆
組成物及び鉱物質骨材用結合剤の形で使用される。次の
エポキシド樹脂は用途例に記載の硬化性混合物の調製に
使用された:エポキシド樹脂A 2・2−ビス−(、p−オキシフエニル)プロパンとエ
ピクロロヒドリンの化学量論的過剰とアルカリの存在下
に縮合させて生成されるエポキシド樹脂(工業製品)は
、次式:で表わされるジオメタンジグリシジルエーテル
(DiOmethandiglyci(3y1ethe
r)が大部分を占め、室温で液体であり、次の特性を有
する。
エポキシド含量:5.1〜5.5エポキシド当量/Kf
l粘度(ヘプラ一(HOeppler)):9000−
13000cP/25eCB.使用実施例 次の硬化性組成物を使用した。
l粘度(ヘプラ一(HOeppler)):9000−
13000cP/25eCB.使用実施例 次の硬化性組成物を使用した。
実施例1:エポキシド樹脂AlOO?及び実施例1に従
つて製造した1・10−ジシクロヘキシル−1・10−
ジアミノデカン44.5f7。
つて製造した1・10−ジシクロヘキシル−1・10−
ジアミノデカン44.5f7。
実施例:エポキシド樹脂AlOOr及び実施例2に従つ
て製造した1・10−ジメチル−1・10−ジアミノデ
カン26.5y0実施例:エポキシド樹脂AlOOf7
及び実施例4に従つて製造した1・1・10・10−テ
トラメチル−1・10−ジアミノデカン30.2t0比
較実施例実施例:エポキシド樹脂AlOO?及びトリエ
チレンテトラミン12.8y0実施例V:エポキシド樹
脂AlOOy及び4・4/−メチレン−ビス−(3−メ
チノレシクロヘキシルアミン)〔3・3′−ジメチル−
4・l−ジアミノージシクロヘキシルメタン〕31.5
t0実施例:エポキシド樹脂AlOOr及び3−アミノ
メチル−3−5・5−トリメチルシクロヘキシルアミン
22.5r0実施例:エポキシド樹脂AlOOr及びト
リメチルヘキサメチレンジアミン217。
て製造した1・10−ジメチル−1・10−ジアミノデ
カン26.5y0実施例:エポキシド樹脂AlOOf7
及び実施例4に従つて製造した1・1・10・10−テ
トラメチル−1・10−ジアミノデカン30.2t0比
較実施例実施例:エポキシド樹脂AlOO?及びトリエ
チレンテトラミン12.8y0実施例V:エポキシド樹
脂AlOOy及び4・4/−メチレン−ビス−(3−メ
チノレシクロヘキシルアミン)〔3・3′−ジメチル−
4・l−ジアミノージシクロヘキシルメタン〕31.5
t0実施例:エポキシド樹脂AlOOr及び3−アミノ
メチル−3−5・5−トリメチルシクロヘキシルアミン
22.5r0実施例:エポキシド樹脂AlOOr及びト
リメチルヘキサメチレンジアミン217。
試験片は室温(20〜25℃)でジアミンをエポキシド
樹脂と混合し、減圧で混合物を簡単に脱ガスした後下に
記すように注型し薄板又はフイルムをつくることによつ
て製造する。
樹脂と混合し、減圧で混合物を簡単に脱ガスした後下に
記すように注型し薄板又はフイルムをつくることによつ
て製造する。
硬化は40℃で24時間次いで100℃で6時間実施す
る。3m71Lの厚さの薄板を機械的性質すなわち、ダ
インスタツト〔ダブリユ・ホルツミユラ一(W.HOl
zmiller)及びケイ・アルテンブルグ(K.Al
tenburg)著、2フイジツク デア クンストス
トフエ(PhysikderlCLLnStStOff
e)ζアカデミーフエルラーク ベルリーン(Akad
emie−VerlagBerlln)、1961年刊
、第597−604頁参照〕による曲げ強さ、曲げ角度
及び衝撃曲げ強さ及び水中貯蔵後の重量増加を測定する
ため、アルミニウム成形型中で上記混合物から製造する
。
る。3m71Lの厚さの薄板を機械的性質すなわち、ダ
インスタツト〔ダブリユ・ホルツミユラ一(W.HOl
zmiller)及びケイ・アルテンブルグ(K.Al
tenburg)著、2フイジツク デア クンストス
トフエ(PhysikderlCLLnStStOff
e)ζアカデミーフエルラーク ベルリーン(Akad
emie−VerlagBerlln)、1961年刊
、第597−604頁参照〕による曲げ強さ、曲げ角度
及び衝撃曲げ強さ及び水中貯蔵後の重量増加を測定する
ため、アルミニウム成形型中で上記混合物から製造する
。
27!T7n厚さの薄板は、電気的性質すなわちDIN
第53483号(=ASTMDl5O)による誘電率T
anδ、DIN第53483号による誘電率ε及びDI
N第53482号による体積抵抗率を決定するため、ア
ルミニウム成形型中で上記混合物から製造する。
第53483号(=ASTMDl5O)による誘電率T
anδ、DIN第53483号による誘電率ε及びDI
N第53482号による体積抵抗率を決定するため、ア
ルミニウム成形型中で上記混合物から製造する。
1.5n厚さの小薄片は、示差熱分析装置〔TA2OO
Oタイグ;メトラ一(Mettler)社製、グラフエ
ンゼ一(Greifensee)、スイス国〕でガラス
転移点を決定するため、上記組成物より製遺搗。
Oタイグ;メトラ一(Mettler)社製、グラフエ
ンゼ一(Greifensee)、スイス国〕でガラス
転移点を決定するため、上記組成物より製遺搗。
50μ厚さのフイルムをトリクロロエチレンで脱脂した
銑板上で延伸三角架( Drawimgtriangl
e)によつて上記組成物から製造し、背後から・・ンマ
一で打つた後の、衝撃深絞り成形値、及びエリクセン深
絞り成形値(DIN第53156号による)をこれをフ
イルムに関して測定する。
銑板上で延伸三角架( Drawimgtriangl
e)によつて上記組成物から製造し、背後から・・ンマ
一で打つた後の、衝撃深絞り成形値、及びエリクセン深
絞り成形値(DIN第53156号による)をこれをフ
イルムに関して測定する。
アンチコロダル( AnticOrOdal)B〔マグ
ネシウム及びシリコンを含有するアルミニウム合金、シ
ユバイッア一 アルミニウム 社製(Schweize
rAluminiumAG);170×25×1.5m
m)試験片は表面をこすつてざらざらにし、アセトンで
洗浄することによつて清浄としてから、端部を上記組成
物で被覆する。
ネシウム及びシリコンを含有するアルミニウム合金、シ
ユバイッア一 アルミニウム 社製(Schweize
rAluminiumAG);170×25×1.5m
m)試験片は表面をこすつてざらざらにし、アセトンで
洗浄することによつて清浄としてから、端部を上記組成
物で被覆する。
2個の試験片の被覆端部は互いに10mmづつ重なるよ
うにし、この位置でクランプで固定し、そして硬化する
。シールの剪断張力はDIN第53283号によつて上
記のようにして得られた試験片に関して測定する。その
結果を次の表Iに挙げる。
うにし、この位置でクランプで固定し、そして硬化する
。シールの剪断張力はDIN第53283号によつて上
記のようにして得られた試験片に関して測定する。その
結果を次の表Iに挙げる。
エポキシド樹脂に対する本発明による1・10−ジアミ
ノデカンの硬化剤としての反応性は、それ自体における
脂肪族特性のため予想よりも驚ろく程低い。
ノデカンの硬化剤としての反応性は、それ自体における
脂肪族特性のため予想よりも驚ろく程低い。
それ故新規硬化剤は技術的進歩を示している。従来の脂
肪族アミンと比較した時の反応性における相違点は、ゲ
ル化時間、操作時間を測定すること及び示差熱分析によ
つて示される゜粘度測定も本発明によるアミンを含有し
ている硬化性組成物が低い粘度(すなわち好ましい)を
有していることをあられしている。示差熱分析 試験される樹脂一硬化剤組成物ω20Inf7を小さな
Alるつぼに秤取し、このるつぼを密閉し、示差分析計
(AT2OOOタイプ、メトラ一、グライフエンセ社製
、スイス国)のオーブン中の測定感知器上におく。
肪族アミンと比較した時の反応性における相違点は、ゲ
ル化時間、操作時間を測定すること及び示差熱分析によ
つて示される゜粘度測定も本発明によるアミンを含有し
ている硬化性組成物が低い粘度(すなわち好ましい)を
有していることをあられしている。示差熱分析 試験される樹脂一硬化剤組成物ω20Inf7を小さな
Alるつぼに秤取し、このるつぼを密閉し、示差分析計
(AT2OOOタイプ、メトラ一、グライフエンセ社製
、スイス国)のオーブン中の測定感知器上におく。
試料は加熱速度4℃/分で加温し、反応は入つているる
つぼとからのるつぼの温う度差を測定することによつて
追跡する。反応開始時、最大反応速度時及び反応終了時
の各温度は作製した曲線から読みとり、反応の間の遊離
された熱は曲線の下の部分の面積を測定することによつ
て決定する。操作時間の測定 粘度の時間変化は定温条件下ヘプラ一(HOepple
r)落球粘度計で25℃と40℃において、樹脂−硬化
剤組成物の他の1部分に関して測定し、1500cP.
3000cP及び10000cPに到達するまでの必要
時間を記録する。
つぼとからのるつぼの温う度差を測定することによつて
追跡する。反応開始時、最大反応速度時及び反応終了時
の各温度は作製した曲線から読みとり、反応の間の遊離
された熱は曲線の下の部分の面積を測定することによつ
て決定する。操作時間の測定 粘度の時間変化は定温条件下ヘプラ一(HOepple
r)落球粘度計で25℃と40℃において、樹脂−硬化
剤組成物の他の1部分に関して測定し、1500cP.
3000cP及び10000cPに到達するまでの必要
時間を記録する。
ゲル化時間の測定
最後に樹脂−硬化剤の他の試料に関して定温調節ホツト
プレート上で80℃、100℃及び120℃のゲル化時
間を測定する。
プレート上で80℃、100℃及び120℃のゲル化時
間を測定する。
得られた値は表1aに挙げる。50μ厚さのフイルムを
、硬化性組成物を使用.して脱脂した銑板上で上記のよ
うに製造し、次の硬化条件を使用する。
、硬化性組成物を使用.して脱脂した銑板上で上記のよ
うに製造し、次の硬化条件を使用する。
20℃で1日
20℃で1週間
20℃で1ケ月
20℃で2ケ月
60℃で2ケ月
ラツカー技術工学に関して次の調査を実施する。
。
テカム(Tecam)装置を使用したゲル化時間、Al
ガン中100crA)20℃。。
ガン中100crA)20℃。。
取扱可能程度に乾燥するまでの時間及びランドルト(L
andOlt)装置を使用した時の完全硬化時間。o流
動性、透明性、表面様相及び浸出性、視覚評価。
andOlt)装置を使用した時の完全硬化時間。o流
動性、透明性、表面様相及び浸出性、視覚評価。
価ペルゾツツ( PersOz)法による硬度、Δ20
0μ、20℃、相対湿度65%。
0μ、20℃、相対湿度65%。
。
エリクセン深絞り成形値、Δ200μm、20℃、相対
湿度65%。。
湿度65%。。
衝撃試験、Δ200μ尻、20℃、相対湿度65%、塗
膜面衝1。
膜面衝1。
マンドレル(Mandrel)折り曲げ試験、Δ200
μm、20℃、相対湿度65%。。
μm、20℃、相対湿度65%。。
沸騰水試験、サンドブラストした鋼板にハケ塗りする。
視覚評価、10日間室温で硬イL。
視覚評価、10日間室温で硬イL。
接着性、サンドブラストした鋼板にハケ塗りする、視覚
評価、10日間室温で硬イL結果は次の表に挙げる。
評価、10日間室温で硬イL結果は次の表に挙げる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a)ポリエポキシド及び(b)硬化剤として次式
I :▲数式、化学式、表等があります▼( I )(式中
、R_1及びR_3は互いに依存せずに各々未置換の又
は置換しているアルキル、シクロアルキル、アラルキル
、フェニル又はナフチル基を表わし、そしてR_2及び
R_4は互いに依存せずに各々水素原子、未置換の又は
置換しているアルキル、シクロアルキル、アラルキル、
フェニル又はナフチル基を表わすか、または、R_1と
R_2及び/又はR_3とR_4はそれらが結合してい
る炭素原子と一緒になつて未置換の又は置換している5
ないし12員のアルキレン環又は、オキサアルキレン環
を形成している。 )で表わされる1・10−ジアミノデカン少なくとも1
種を含有することを特徴とする硬化性組成物。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH1489174A CH599103A5 (ja) | 1974-11-07 | 1974-11-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51125500A JPS51125500A (en) | 1976-11-01 |
| JPS595131B2 true JPS595131B2 (ja) | 1984-02-02 |
Family
ID=4404612
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50133946A Expired JPS595131B2 (ja) | 1974-11-07 | 1975-11-07 | 硬化性組成物 |
| JP58135652A Pending JPS5998039A (ja) | 1974-11-07 | 1983-07-25 | 置換1,10−ジアミノデカンの製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58135652A Pending JPS5998039A (ja) | 1974-11-07 | 1983-07-25 | 置換1,10−ジアミノデカンの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4100111A (ja) |
| JP (2) | JPS595131B2 (ja) |
| CA (1) | CA1070709A (ja) |
| CH (1) | CH599103A5 (ja) |
| DE (1) | DE2549403A1 (ja) |
| FR (1) | FR2292698A1 (ja) |
| GB (1) | GB1498998A (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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