JPS5998039A - 置換1,10−ジアミノデカンの製造方法 - Google Patents
置換1,10−ジアミノデカンの製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/50—Amines
- C08G59/5006—Amines aliphatic
- C08G59/5013—Amines aliphatic containing more than seven carbon atoms, e.g. fatty amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D245/00—Heterocyclic compounds containing rings of more than seven members having two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D245/02—Heterocyclic compounds containing rings of more than seven members having two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規1,10−置換−1,1o−ジアミノデカ
ンの製法に関する。
ンの製法に関する。
本発明の方法で製造される1、10−ジアミノ−デカン
は次式Ia: R2R4 (式中、R1は未置換もしくは置換されたアルキル−、
シクロアルキル−、アラルキル−、フェニル−寸だけナ
フチル基を表わし、珂は未置換も[1,<は置換された
アルキル−、シクロアルキル−、アラルキル−またはナ
フチル基を表わすかまたは置換されたフェニル基を表わ
り、、R2およびR4は互いに独立して水素原子または
未置換もしくは置換されたアルキル−、シクロアルキル
−、アラルキル−、フェニル−1だはナフチル基を表わ
すか、または鳥と鳥および/またはR4とR4はそれら
が結合1.ている炭素原子と一緒になって未置換もしく
は置換されだ5ないし12員のアルキレン〜またはオキ
サアルキレン環を形成するが、但し・鵬およびR4が同
時に水素原子を表わす場合、鳥および珂が同時にメチル
基を表わすことはない。) で表わされる。
は次式Ia: R2R4 (式中、R1は未置換もしくは置換されたアルキル−、
シクロアルキル−、アラルキル−、フェニル−寸だけナ
フチル基を表わし、珂は未置換も[1,<は置換された
アルキル−、シクロアルキル−、アラルキル−またはナ
フチル基を表わすかまたは置換されたフェニル基を表わ
り、、R2およびR4は互いに独立して水素原子または
未置換もしくは置換されたアルキル−、シクロアルキル
−、アラルキル−、フェニル−1だはナフチル基を表わ
すか、または鳥と鳥および/またはR4とR4はそれら
が結合1.ている炭素原子と一緒になって未置換もしく
は置換されだ5ないし12員のアルキレン〜またはオキ
サアルキレン環を形成するが、但し・鵬およびR4が同
時に水素原子を表わす場合、鳥および珂が同時にメチル
基を表わすことはない。) で表わされる。
ルないしR4の各基土の置換基と(7ては、原則として
、反応条件下に水素添加され得ないあらゆる所望の基、
例えばアルキル、アルコキシ、アルキルアミノ、N、N
−ジアルキルアミノ、環状エーテル及びシクロアルキル
基が可能であるO R1ないしR4のアルキル基で可能なものは、とりわけ
炭素原子数1ない1〜18好ましくは1ないし8の直鎖
又は枝分れ基である。上記基が置換されるならば、それ
らは例えばそれぞれのアルコキシ又はアルキル部分の炭
素原子数1ないしル、特に1又は2であるアルコキシ、
アルキルアミノ又はN、N−ジアルキルアミノ基、炭素
原子数3又は4の環状エーテル基又は環上炭素原子数5
ないし8、好ましくは5又は乙のシクロアルキル基であ
る・次に、こあ種の■もないLj%のアルキル基の例を
記載する:メチル、エチル、n−プロピル、インプロピ
ル、n−+第2級及び第3級−ブチル、n−ヘキシル、
n −ヘプチル、n−オクチル、n−デシル、n−ドデ
シル、n−オクタデシル、メトキシエチル、2−エトキ
シエチル、2−メチルアミノエチル、3−N、N−ジエ
チルアミノプロピル、2−シクロヘキシルエチル、2−
71Jルー+31−エチル及び5−ピラニル−(3)−
プロピル基である。
、反応条件下に水素添加され得ないあらゆる所望の基、
例えばアルキル、アルコキシ、アルキルアミノ、N、N
−ジアルキルアミノ、環状エーテル及びシクロアルキル
基が可能であるO R1ないしR4のアルキル基で可能なものは、とりわけ
炭素原子数1ない1〜18好ましくは1ないし8の直鎖
又は枝分れ基である。上記基が置換されるならば、それ
らは例えばそれぞれのアルコキシ又はアルキル部分の炭
素原子数1ないしル、特に1又は2であるアルコキシ、
アルキルアミノ又はN、N−ジアルキルアミノ基、炭素
原子数3又は4の環状エーテル基又は環上炭素原子数5
ないし8、好ましくは5又は乙のシクロアルキル基であ
る・次に、こあ種の■もないLj%のアルキル基の例を
記載する:メチル、エチル、n−プロピル、インプロピ
ル、n−+第2級及び第3級−ブチル、n−ヘキシル、
n −ヘプチル、n−オクチル、n−デシル、n−ドデ
シル、n−オクタデシル、メトキシエチル、2−エトキ
シエチル、2−メチルアミノエチル、3−N、N−ジエ
チルアミノプロピル、2−シクロヘキシルエチル、2−
71Jルー+31−エチル及び5−ピラニル−(3)−
プロピル基である。
鴇ないl、 R4で示されたシクロアルキル、アラルキ
ル、フェニル又はナフチル基が置換すれるとへ、可能な
置換基としてとりわけアルキル、アルコキシ、アルキル
アミノ及びN、N−ジアルキルアミン基で、それぞれの
場合にアルキル又はアルコキシ部分の炭素原子数が1な
いシフ4特に1又は2である。
ル、フェニル又はナフチル基が置換すれるとへ、可能な
置換基としてとりわけアルキル、アルコキシ、アルキル
アミノ及びN、N−ジアルキルアミン基で、それぞれの
場合にアルキル又はアルコキシ部分の炭素原子数が1な
いシフ4特に1又は2である。
R1ないしR4で示されたシクロアルキル基は1核又は
2核で、環上炭素原子数は好ましくけ5ないし12特に
5ないし10である。
2核で、環上炭素原子数は好ましくけ5ないし12特に
5ないし10である。
次に前記の例を挙げるニジクロペンチル、2−プロピル
シクロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシクロヘ
キシル、4−メトキシシクロヘキシル、A−N、N−ジ
エチルアミノシクロヘキシル、シス−又はトランス−デ
カヒドロナフチル、メチルシクロヘプチル、シクロオク
チル及びシクロドデシル基である。
シクロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシクロヘ
キシル、4−メトキシシクロヘキシル、A−N、N−ジ
エチルアミノシクロヘキシル、シス−又はトランス−デ
カヒドロナフチル、メチルシクロヘプチル、シクロオク
チル及びシクロドデシル基である。
瓜ないし几、で示したアラルキル基は好ましくは環上炭
素原子6ないし1oを有している0このような基として
:ベンジル、2−フェニルエチル、1−メチルナフチル
、4−メトキシ及び4−メチルベンジル基である。
素原子6ないし1oを有している0このような基として
:ベンジル、2−フェニルエチル、1−メチルナフチル
、4−メトキシ及び4−メチルベンジル基である。
次に記すものは定義に従ってフェニル及びナフチル基の
例である:フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、4
−エチルフェニル、3−メ)キシフェニル、4−n−プ
ロピルアミノフェニル、3.4−ジメトキシフェニル及
び4−N、N−ジメチルアミノフェニル基である。
例である:フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、4
−エチルフェニル、3−メ)キシフェニル、4−n−プ
ロピルアミノフェニル、3.4−ジメトキシフェニル及
び4−N、N−ジメチルアミノフェニル基である。
R1が凡2と一緒になって及び/又は因がR4と一緒に
なって形成しているアルキレン又はオキサアルキレン環
も置換され得、その置換基の例として炭素原子数1ない
し4特に1又は2のアルキル又はアルコキシ基である。
なって形成しているアルキレン又はオキサアルキレン環
も置換され得、その置換基の例として炭素原子数1ない
し4特に1又は2のアルキル又はアルコキシ基である。
こうして1モlとル又は困とR4はそれらが結合してい
る炭素原子と一緒になって例工ばシクロペンチル、シク
ロヘキシル、メチルシクロヘキシル、テトラヒドロフリ
ル、4−メチルテトラヒドロフリル−6、テトラヒドロ
ピラニル、シクロへブチル、シクロオクチル、シクロデ
シル又はシクロドデシル基を形成[7ている。
る炭素原子と一緒になって例工ばシクロペンチル、シク
ロヘキシル、メチルシクロヘキシル、テトラヒドロフリ
ル、4−メチルテトラヒドロフリル−6、テトラヒドロ
ピラニル、シクロへブチル、シクロオクチル、シクロデ
シル又はシクロドデシル基を形成[7ている。
好ましい1,10−ジアミノデカンは式1aにおいてR
1及びRイが互いに独立して炭素原子数1ないし18特
に1ないし8の未置換アルキル基、それぞれの場合にア
ルコキシ又はアルキル部分中の炭素原子数が1又は2の
アルコキシ、アルキルアミノ又はN、N−ジアルキルア
ミノ基によって置換され得る環上炭素原子数5ないし1
0の1核又は2核シクロアルキル基、ベンジル基、2−
フェニルエチル基、それぞれの場合にアルキル又はアル
コキシ部分の炭素原子数が1又は2であるアルキル、ア
ルコキシ、アルキルアミノ又t/′iN、N−ジアルキ
ルアミノ基で置換されているフェニル基、未置換ナフチ
ル基を表わし・R1はさらに未置換アルキル基を表わす
ことができ、そしてR2及びR4は互いに独立して水素
原子又は上記山及び栃で記載した基のうちの1個を表わ
す式■で表わす化合物、並に式Iにおいて、鳥とR2及
び/又は現とfL4でそれらが結合17ている炭素原子
と一緒になって未置換5ないし12員アルキレン環又(
叶未置換5ないし12員オキサアルキレン環を表わす化
合物である。
1及びRイが互いに独立して炭素原子数1ないし18特
に1ないし8の未置換アルキル基、それぞれの場合にア
ルコキシ又はアルキル部分中の炭素原子数が1又は2の
アルコキシ、アルキルアミノ又はN、N−ジアルキルア
ミノ基によって置換され得る環上炭素原子数5ないし1
0の1核又は2核シクロアルキル基、ベンジル基、2−
フェニルエチル基、それぞれの場合にアルキル又はアル
コキシ部分の炭素原子数が1又は2であるアルキル、ア
ルコキシ、アルキルアミノ又t/′iN、N−ジアルキ
ルアミノ基で置換されているフェニル基、未置換ナフチ
ル基を表わし・R1はさらに未置換アルキル基を表わす
ことができ、そしてR2及びR4は互いに独立して水素
原子又は上記山及び栃で記載した基のうちの1個を表わ
す式■で表わす化合物、並に式Iにおいて、鳥とR2及
び/又は現とfL4でそれらが結合17ている炭素原子
と一緒になって未置換5ないし12員アルキレン環又(
叶未置換5ないし12員オキサアルキレン環を表わす化
合物である。
更に好ましいものはR,と珂とが馬とR4同様各々同じ
基を表わしているものである。
基を表わしているものである。
特に好ましい1,10−ジアミノデカンは式1aにおい
てR1と几イが同じであって、各々1文素原子数1ない
し8の未置換アルキル基又は環上炭素原子数5ないし1
0の1核又は2核シクロアルキル基で好マしくはシクロ
ヘキシル、シクロペンチル、又はシクロオクチル基であ
り・これらは未置換又は各アルコキシ又はアルキル部分
の炭素原子数が1又は2であるアルコキシ・アルキルア
ミノ又はN、N−ジアルキルアミノ基で置換されている
ものを表わし、並びにR2とR4が異っていて各々水素
原子又は炭素原子数1ないし8の未置換アルキル基を表
わすものである0本発明による式1aで表わされる1、
10−ジアミノデカンは、次式■: (式中、R’l 、R2、珂及びR4は式1aで記載し
たものと同じ意味を表わすンで表わされる化合物に、不
活性有機溶媒の存在下触媒方法によって1又は2段階で
水素添加し、て、その際の反応温度を少なくとも120
℃才で上昇させることによって得られる。
てR1と几イが同じであって、各々1文素原子数1ない
し8の未置換アルキル基又は環上炭素原子数5ないし1
0の1核又は2核シクロアルキル基で好マしくはシクロ
ヘキシル、シクロペンチル、又はシクロオクチル基であ
り・これらは未置換又は各アルコキシ又はアルキル部分
の炭素原子数が1又は2であるアルコキシ・アルキルア
ミノ又はN、N−ジアルキルアミノ基で置換されている
ものを表わし、並びにR2とR4が異っていて各々水素
原子又は炭素原子数1ないし8の未置換アルキル基を表
わすものである0本発明による式1aで表わされる1、
10−ジアミノデカンは、次式■: (式中、R’l 、R2、珂及びR4は式1aで記載し
たものと同じ意味を表わすンで表わされる化合物に、不
活性有機溶媒の存在下触媒方法によって1又は2段階で
水素添加し、て、その際の反応温度を少なくとも120
℃才で上昇させることによって得られる。
工程中において式■で表わされる出発物質、触媒の性質
及び/又は反応条件に依存して、式■で表わされる化合
物においてz、 R2,y及びR4で表わされるフェニ
ル又はナフチル基に水素添加することも可能である。
及び/又は反応条件に依存して、式■で表わされる化合
物においてz、 R2,y及びR4で表わされるフェニ
ル又はナフチル基に水素添加することも可能である。
二段階水素添加反応において、一段階めで式■で表わさ
れる化合物を150℃以下で水素添加し次式■: (式中、Rt 、 R2,R’l及びR4は式Iaで記
載したものと同じ意味を表わす)で表わされる化合物を
得、次段階で式■で表わされる化合物を上昇させた温度
で水素添加し、好ましくはアンモニアを添加することに
よって式1aで表わされる化合物を得る。
れる化合物を150℃以下で水素添加し次式■: (式中、Rt 、 R2,R’l及びR4は式Iaで記
載したものと同じ意味を表わす)で表わされる化合物を
得、次段階で式■で表わされる化合物を上昇させた温度
で水素添加し、好ましくはアンモニアを添加することに
よって式1aで表わされる化合物を得る。
へ及びR4が各々水素原子である1、10−ジアミノデ
カンは、式■で表わされる相当する出発化合物の少なく
とも120℃での一段階水素添加反応によっても得られ
る。
カンは、式■で表わされる相当する出発化合物の少なく
とも120℃での一段階水素添加反応によっても得られ
る。
それら自身で知られている水素添加触媒が触媒さして使
用される。これら触媒は通常の形態例えば細かい粉末状
、コロイド形態、酸化物又は水酸化物の形で使用され、
適当な支持体例えば石綿、軽石、ケイソウ土、シリカゲ
ル、活性炭及び同期律表の第一■族ないし第■族の金属
特にマグネシウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、アル
ミニウム、鉄及びクロムの硫酸塩、炭酸塩、又は酸化物
等に適用される。
用される。これら触媒は通常の形態例えば細かい粉末状
、コロイド形態、酸化物又は水酸化物の形で使用され、
適当な支持体例えば石綿、軽石、ケイソウ土、シリカゲ
ル、活性炭及び同期律表の第一■族ないし第■族の金属
特にマグネシウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、アル
ミニウム、鉄及びクロムの硫酸塩、炭酸塩、又は酸化物
等に適用される。
一段階水素添加反応及び二段階水素添加の最初の段階に
おいては、貴重な金属触媒例えば白金、ロジウム、パラ
ジウム、ルテニウム及びイリジウム触媒、好ましくはロ
ジウム/アルミニウムオキシド又は、パラジウム炭素触
媒を使用するのが適切である。
おいては、貴重な金属触媒例えば白金、ロジウム、パラ
ジウム、ルテニウム及びイリジウム触媒、好ましくはロ
ジウム/アルミニウムオキシド又は、パラジウム炭素触
媒を使用するのが適切である。
2段階水素添加反応の二段階めにおいて、細粉したコバ
ルト及び特に細粉したニッケル(ラネーコバルト又はラ
ネーニッケル)を使用するのが好ましい。
ルト及び特に細粉したニッケル(ラネーコバルト又はラ
ネーニッケル)を使用するのが好ましい。
式■で表わされる化合物を中間で単離する必要はない。
一方一段階めにおいて使用した触媒は、更に次の反応を
行う以前に例えば濾過・もし必要ならばシリカゲル等の
濾過剤を使用して除去するのが賢明である。
行う以前に例えば濾過・もし必要ならばシリカゲル等の
濾過剤を使用して除去するのが賢明である。
第3級ブタノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル及びモノエチルニーf A、 、n−ヘキサン及び
シクロヘキサンは本発明による水素添加反応を行うのに
適した不活性有機溶媒の例である。
テル及びモノエチルニーf A、 、n−ヘキサン及び
シクロヘキサンは本発明による水素添加反応を行うのに
適した不活性有機溶媒の例である。
水素添加反応は一般に密閉系で行われ、少なくとも最終
段階では圧力下に行なう。
段階では圧力下に行なう。
式■で表わされる化合物及び/又は使用する触媒の性質
に依存して、反応温度は広い範囲で変化する。一段階工
程において一般に120〜220℃好ましくは140な
いし180℃である02段階水素添加反応において、最
初の段階の間の反応温度は約20〜130℃が適切であ
り、次に約170〜220℃に上昇させる。
に依存して、反応温度は広い範囲で変化する。一段階工
程において一般に120〜220℃好ましくは140な
いし180℃である02段階水素添加反応において、最
初の段階の間の反応温度は約20〜130℃が適切であ
り、次に約170〜220℃に上昇させる。
反応が完了した後触媒及び溶媒は通常の方法で除去する
。
。
本発明による置換1.10−ジアミノデカンはHにジア
ステレオマーの混合物として無色油状物質の形で得られ
、よく知られてめる方法で分離精製する。
ステレオマーの混合物として無色油状物質の形で得られ
、よく知られてめる方法で分離精製する。
式■で表わされる出発物質は公知で、1,3−ブタジェ
ンを次式: (式中、鳥、鳥、現及びR4は式1aで記載したものと
同じ意味を表わす)で表わされるアジンと、100℃ま
での温度好ましくは70〜95℃で、−m化炭素−ニッ
ケルの遊離化合物に電子供与体を作用させることによる
還元条件下得られる触媒の存在下、反応させるという既
知の方法で製造される0例えばトリフェニルホスフィン
の存在下エトキシ−ジエチル−アルミニウムによってア
セチルアセトンニッケルを還元することで得られた触媒
のように、電1子供与体の存在下ハロゲン−遊離アルキ
ル金属又はアリール金属によって一酸化炭素−ニッケル
の遊離化合物を還元することで得られた触媒を使用する
のがここでは好ましい。
ンを次式: (式中、鳥、鳥、現及びR4は式1aで記載したものと
同じ意味を表わす)で表わされるアジンと、100℃ま
での温度好ましくは70〜95℃で、−m化炭素−ニッ
ケルの遊離化合物に電子供与体を作用させることによる
還元条件下得られる触媒の存在下、反応させるという既
知の方法で製造される0例えばトリフェニルホスフィン
の存在下エトキシ−ジエチル−アルミニウムによってア
セチルアセトンニッケルを還元することで得られた触媒
のように、電1子供与体の存在下ハロゲン−遊離アルキ
ル金属又はアリール金属によって一酸化炭素−ニッケル
の遊離化合物を還元することで得られた触媒を使用する
のがここでは好ましい。
本発明によるいくつかの1,1o−ジアミノデカンの製
造を次の実施例に記載する。
造を次の実施例に記載する。
A、製造実施例 ・
実施例1
a)3.12−ジシクロへキシル−1,2−シアf−1
,5,9−シクロドデカトリエンアセチルアセトンニッ
ケル8.8 f (0,054モルン及ヒドリフェニル
ホスフィン&87((1033モル)を無水トルエン5
00mtに溶かす01.6−ブタジェン約202をこの
澄〜明な緑色溶液に室温(20〜25℃)で導入する0
そして還元は室温下エトキシジエチルーアルミニウム1
4 mt (o、 o qモル)によって行ない、溶液
の色は緑から橙赤色に変化する。混合物を一方では1,
3−ブタジェンの一定の絶え間ない蒸気中に通しながら
、可能な限す速く80℃まで加温する。シクロヘキシル
アルダジン99’+?(4,5モル)を無水トルエン1
.6tに溶かした溶液を、一方では開始した発熱反応が
90〜95℃以上に上昇しない(冷却)ようにL、他方
では、ブタジェンが絶えず反応溶液中に過剰に存在]7
ているような方法で滴加する。
,5,9−シクロドデカトリエンアセチルアセトンニッ
ケル8.8 f (0,054モルン及ヒドリフェニル
ホスフィン&87((1033モル)を無水トルエン5
00mtに溶かす01.6−ブタジェン約202をこの
澄〜明な緑色溶液に室温(20〜25℃)で導入する0
そして還元は室温下エトキシジエチルーアルミニウム1
4 mt (o、 o qモル)によって行ない、溶液
の色は緑から橙赤色に変化する。混合物を一方では1,
3−ブタジェンの一定の絶え間ない蒸気中に通しながら
、可能な限す速く80℃まで加温する。シクロヘキシル
アルダジン99’+?(4,5モル)を無水トルエン1
.6tに溶かした溶液を、一方では開始した発熱反応が
90〜95℃以上に上昇しない(冷却)ようにL、他方
では、ブタジェンが絶えず反応溶液中に過剰に存在]7
ているような方法で滴加する。
滴加時間50分後、混合物を次に更に15分間攪拌し、
トルエンの一部分(約1t)を水流ポンプによる僅かな
減fE下、下降冷却器を使用(〜で留去する。
トルエンの一部分(約1t)を水流ポンプによる僅かな
減fE下、下降冷却器を使用(〜で留去する。
20〜b
ル3 tを加え混合物をO’[−jで冷却する。ろ。
12−ジノクロヘキシル−1,2−ジアザ−1,5゜9
−シクロドデカトリエンのジアステレオマー混合物が無
色結晶形で沈澱する。これらを濾取し、少量の冷メタノ
ールで洗浄した後、室温下乾燥キャビネット中で五酸化
リンで乾燥する。
−シクロドデカトリエンのジアステレオマー混合物が無
色結晶形で沈澱する。これらを濾取し、少量の冷メタノ
ールで洗浄した後、室温下乾燥キャビネット中で五酸化
リンで乾燥する。
反応生成物973.5 Fを得る。母液は溶媒留去し、
残った緑色粘稠液に1,8tのアセトンを加える。
残った緑色粘稠液に1,8tのアセトンを加える。
更に6,12−ジシクロへキシル−1,2−ジアザ−1
,5,9−シクロドデカトリエン2609が沈澱する。
,5,9−シクロドデカトリエン2609が沈澱する。
総収量1233.5fは使用したシクロヘキシルアルダ
ジンに関して理論量の91.1 % (ジアステレオマ
ー混合物);融点102〜3℃。
ジンに関して理論量の91.1 % (ジアステレオマ
ー混合物);融点102〜3℃。
元素分析 022836 N2 (分子量52 a 5
)C’ HN 計算値80.421%、11.0j% a53qI)実
験値80.44%10.96係8.53係b)1.10
−ジシクロへキシル−1,1o−ジアミノデカン 6.12−ジシクロへキシル−1,2−ジアザ−1,5
,9−シクロドデカトリエン328.59(1モル)を
純粋第3級ブタノール2.6 t ニiカt、、混合物
を攪拌オートクレーブ中180〜200℃−jで徐々に
力1温する(温度は1時間に約60℃増加させる)。ロ
ジウムーアルミニウムオギシド触媒(5重量係Rh )
35 ?をこの温度で添加17、混合物に8時間水素
冷加する(開始圧120バール)。終了時にオートクレ
ーブは室温まで冷却されている(20〜25℃)。触媒
はケインウ土で濾去し第3RブタノールjQDmtで洗
浄すル0溶媒は回転蒸発器で12mHg下蒸発させる。
)C’ HN 計算値80.421%、11.0j% a53qI)実
験値80.44%10.96係8.53係b)1.10
−ジシクロへキシル−1,1o−ジアミノデカン 6.12−ジシクロへキシル−1,2−ジアザ−1,5
,9−シクロドデカトリエン328.59(1モル)を
純粋第3級ブタノール2.6 t ニiカt、、混合物
を攪拌オートクレーブ中180〜200℃−jで徐々に
力1温する(温度は1時間に約60℃増加させる)。ロ
ジウムーアルミニウムオギシド触媒(5重量係Rh )
35 ?をこの温度で添加17、混合物に8時間水素
冷加する(開始圧120バール)。終了時にオートクレ
ーブは室温まで冷却されている(20〜25℃)。触媒
はケインウ土で濾去し第3RブタノールjQDmtで洗
浄すル0溶媒は回転蒸発器で12mHg下蒸発させる。
残留溶媒は浴温60℃で高度減圧下除去する。こうして
炉色油状残渣32Ofを得る。反応生成物(叶、残渣を
無水ジエチルエーテル1.8tに溶かし、塩化水素ガス
をこのエーテル溶液に飽和になる房で通流しだ後、得ら
れた溶液を0〜5℃に冷却することによる相当する二塩
酸塩にすることで¥1′I製する。無色晶状沈澱が形成
1−1これは濾取しジエチルエーテルで洗浄した後風乾
する。
炉色油状残渣32Ofを得る。反応生成物(叶、残渣を
無水ジエチルエーテル1.8tに溶かし、塩化水素ガス
をこのエーテル溶液に飽和になる房で通流しだ後、得ら
れた溶液を0〜5℃に冷却することによる相当する二塩
酸塩にすることで¥1′I製する。無色晶状沈澱が形成
1−1これは濾取しジエチルエーテルで洗浄した後風乾
する。
この沈澱は水に溶かし、溶液のpHを少なくとも14に
濃水酸化ナトリウム溶液によって調製する。水相をジエ
チルエーテルで抽出し、エーテル性溶液は水洗してMg
S 04で乾燥する。ジエチルエーテルは回転蒸発器
で留去し残渣は高度減圧下ビグロー(■igreux
)カラムを通して蒸留すル。コウシて無色1,10−ジ
シクロへキシル−1,10−ジアミノデカy 304
f (0,904モル)を得る;沸点190〜193℃
/ Q、 05 a+Hg :収量は反応すせだ6,1
2−ジシクロへキシル−1,2−ジアザ−1;5,9−
シクロジブ力トリエンに関して理論量の904係:n賃
に1.4944゜ガスクロマトグラム: 97.3 %
及び1.7係点でシグナル(ジアステレオマーの混合物
)。
濃水酸化ナトリウム溶液によって調製する。水相をジエ
チルエーテルで抽出し、エーテル性溶液は水洗してMg
S 04で乾燥する。ジエチルエーテルは回転蒸発器
で留去し残渣は高度減圧下ビグロー(■igreux
)カラムを通して蒸留すル。コウシて無色1,10−ジ
シクロへキシル−1,10−ジアミノデカy 304
f (0,904モル)を得る;沸点190〜193℃
/ Q、 05 a+Hg :収量は反応すせだ6,1
2−ジシクロへキシル−1,2−ジアザ−1;5,9−
シクロジブ力トリエンに関して理論量の904係:n賃
に1.4944゜ガスクロマトグラム: 97.3 %
及び1.7係点でシグナル(ジアステレオマーの混合物
)。
元素分析 C22H44N2 (分子量3)/、、
5B):CHN 計算値 7a45φ1′5.20係a35チ実験値 7
a8係13.4Q係a2係。
5B):CHN 計算値 7a45φ1′5.20係a35チ実験値 7
a8係13.4Q係a2係。
マススペクトログラム二 分子ビーク 336、フラ
グメントマス253.2561154及び112゜H’
N MRスヘク) k7 : ’(100メカヘルy
[MHz ] ) :δ〔ppIn〕−2,4(多重
)、1.7(多重〕、1.3(多重)1.1(多重)、
1.0(−重)、2:38キ4比更に特色づけるため、
1,1o−ジシクロヘキシル−1,10−ジアミノデカ
ンを無水酢酸4m4中で10分間煮沸する。反応混合物
を20〜25℃に冷却した後、無色結晶が沈澱しこれを
エタノールで1回再結晶し高度減圧下100℃で乾燥す
る。次式: で表わされる化合物0.85 fを無色結晶形で得る:
融点217〜219℃。
グメントマス253.2561154及び112゜H’
N MRスヘク) k7 : ’(100メカヘルy
[MHz ] ) :δ〔ppIn〕−2,4(多重
)、1.7(多重〕、1.3(多重)1.1(多重)、
1.0(−重)、2:38キ4比更に特色づけるため、
1,1o−ジシクロヘキシル−1,10−ジアミノデカ
ンを無水酢酸4m4中で10分間煮沸する。反応混合物
を20〜25℃に冷却した後、無色結晶が沈澱しこれを
エタノールで1回再結晶し高度減圧下100℃で乾燥す
る。次式: で表わされる化合物0.85 fを無色結晶形で得る:
融点217〜219℃。
元素分析 C2,l−148N20.、 (分子量、
120.68):CHN 計算値 74.2 A係 11.50係 666%実験
値 74.05ヂ 1f、 46壬 6.75 qbマ
ススペクトログラム二分子ピーク 420フラグメン
トマス 41.337,295,236及び154゜ 実施例2 a)3.12−ジメチル−1,2−ジアザ−1゜5.9
−シクロドデカトリエン H3 アセチルアセトンニッケル229(85ミリモル)及び
トリフェニルホスフィン22t(8aミリモル]を無水
トルエン24に溶かす。1,3−ブタジ三ン約AO9(
0,74モル)をこの緑色澄明トルエン溶液に室温(2
0〜25℃)で導入する。
120.68):CHN 計算値 74.2 A係 11.50係 666%実験
値 74.05ヂ 1f、 46壬 6.75 qbマ
ススペクトログラム二分子ピーク 420フラグメン
トマス 41.337,295,236及び154゜ 実施例2 a)3.12−ジメチル−1,2−ジアザ−1゜5.9
−シクロドデカトリエン H3 アセチルアセトンニッケル229(85ミリモル)及び
トリフェニルホスフィン22t(8aミリモル]を無水
トルエン24に溶かす。1,3−ブタジ三ン約AO9(
0,74モル)をこの緑色澄明トルエン溶液に室温(2
0〜25℃)で導入する。
還元は室温でエトキシジエチルアルミニウム35m1(
220ミリモル)で行ない、この溶液の色は緑から橙赤
色に変化する0混合物を一方で一定の絶え間ない1,6
−ブタジェン蒸気中に通しながら、可能な限シ速く80
℃まで加温する0次にジエチリデンーヒドラジン(アセ
トアルダジン)7252(863モル)を1,6−ブタ
ジェンがいつも少し過剰に存在するように滴加する。
220ミリモル)で行ない、この溶液の色は緑から橙赤
色に変化する0混合物を一方で一定の絶え間ない1,6
−ブタジェン蒸気中に通しながら、可能な限シ速く80
℃まで加温する0次にジエチリデンーヒドラジン(アセ
トアルダジン)7252(863モル)を1,6−ブタ
ジェンがいつも少し過剰に存在するように滴加する。
ジエチリデンヒドラジンの最初の添加後、反応溶液の色
は褐色に変化し、発熱反応が始まる0工程を通して温度
が95℃以上に上昇しないように冷却を行う02時間の
添加時間の後混合物を1,3−ブタジェンの適量の蒸気
中に通し続けなから、更に1時間90〜92℃で攪拌す
る。これを冷却I2だ後、触媒をトリフェニルホスフィ
ン10 、Omlで不活性化する。トルエン及び形成し
たであろう副生成物は水流ポンプ(でよる弱い減圧下(
20〜30 wHg )留去する。
は褐色に変化し、発熱反応が始まる0工程を通して温度
が95℃以上に上昇しないように冷却を行う02時間の
添加時間の後混合物を1,3−ブタジェンの適量の蒸気
中に通し続けなから、更に1時間90〜92℃で攪拌す
る。これを冷却I2だ後、触媒をトリフェニルホスフィ
ン10 、Omlで不活性化する。トルエン及び形成し
たであろう副生成物は水流ポンプ(でよる弱い減圧下(
20〜30 wHg )留去する。
残渣は水流ポンプ減圧下分別蒸留(ビグローカラム40
crn)する。こうしてろ、12−ジメチル−1,2−
ジアザ−1,5,9−シクロドデカトリ二ン1675グ
を無色油状物質として得る;収量は反応させたジエチリ
デンヒドラジン(100%変換)に関して理論量の83
チ;沸点11(]℃/lnmHg ; n” = 1.
4861゜マススペクトログラム:分子ビーク 19
2、フラグメントマス 177.82.67及び54、
H、NMRスペクトル: (100MHz )δ[pp
m〕=5(多重)、3.5−五8(多重)、1.5−2
.8 (多重)、1.2(二重)A:2:B:l、比。
crn)する。こうしてろ、12−ジメチル−1,2−
ジアザ−1,5,9−シクロドデカトリ二ン1675グ
を無色油状物質として得る;収量は反応させたジエチリ
デンヒドラジン(100%変換)に関して理論量の83
チ;沸点11(]℃/lnmHg ; n” = 1.
4861゜マススペクトログラム:分子ビーク 19
2、フラグメントマス 177.82.67及び54、
H、NMRスペクトル: (100MHz )δ[pp
m〕=5(多重)、3.5−五8(多重)、1.5−2
.8 (多重)、1.2(二重)A:2:B:l、比。
bJl、10−ジメチル−1,10−ジアミノデカン
5.12−ジメチル−1,2−ジアザ−1,5,9−シ
クロドデカトリエン2’90.8 F (1,52モル
)を純粋第3級ブタノール1.BtK溶かす。反応溶液
を攪拌オートクレーブ中140〜150℃まで徐々に加
温して(温度は1時間に約60℃増加させる)、ロジウ
ムーアルミニウムオギシド触媒(5重量嗟Rh)309
を添加し、混合物に14時間この温度で水素添加する(
開始圧120バール)。
クロドデカトリエン2’90.8 F (1,52モル
)を純粋第3級ブタノール1.BtK溶かす。反応溶液
を攪拌オートクレーブ中140〜150℃まで徐々に加
温して(温度は1時間に約60℃増加させる)、ロジウ
ムーアルミニウムオギシド触媒(5重量嗟Rh)309
を添加し、混合物に14時間この温度で水素添加する(
開始圧120バール)。
オートクレーブを室温まで冷却した後、触媒はシリカゲ
ルで濾去し第3級ブタノール90 mlで洗浄する。溶
媒は最初回転蒸発器で12箭Hg下蒸発させ、次に浴温
60℃で高度減圧下除去する。こうして無色油状残渣2
88tを得る。この反応生成物は、それを特色づけ精製
するだめに実施例1b)に記載した様に処理する。こう
して無色の1,10−ジメチル−1,10−ジアミノデ
カン2529(1,255モル)を得る:沸A73℃/
1 1 mgHg ; nBゝ =1.4549
。
ルで濾去し第3級ブタノール90 mlで洗浄する。溶
媒は最初回転蒸発器で12箭Hg下蒸発させ、次に浴温
60℃で高度減圧下除去する。こうして無色油状残渣2
88tを得る。この反応生成物は、それを特色づけ精製
するだめに実施例1b)に記載した様に処理する。こう
して無色の1,10−ジメチル−1,10−ジアミノデ
カン2529(1,255モル)を得る:沸A73℃/
1 1 mgHg ; nBゝ =1.4549
。
ガスクロマトグラム:98係点にシグナル。
元素分析 CI2 I28 N2 (分子量200.
5AA):CHN 計算値 71.83条 14.09係 13.9/)優
実験値 71.75係 14.32壬 1575チマス
スペクトログラム:分子ビーク 200;フラグメン
トマス 199,185,168,157゜142及び
44 13C−NMRスペクトル:(トリメチルシランのpp
m中のシフト;溶媒CDCl3 ) CH3 CH3 4ZO(二重)C−2 40,2C−3 26,5’C−4 24,1(四月E、) CI(CE(3)fi K
0色づけるため、上記1.1o−ジメチル−i、1o−
ジアミノデカンを実施例1に記載(−だ様に次式: で表わされるビス−アセチル体に変拗する;融点119
℃。
5AA):CHN 計算値 71.83条 14.09係 13.9/)優
実験値 71.75係 14.32壬 1575チマス
スペクトログラム:分子ビーク 200;フラグメン
トマス 199,185,168,157゜142及び
44 13C−NMRスペクトル:(トリメチルシランのpp
m中のシフト;溶媒CDCl3 ) CH3 CH3 4ZO(二重)C−2 40,2C−3 26,5’C−4 24,1(四月E、) CI(CE(3)fi K
0色づけるため、上記1.1o−ジメチル−i、1o−
ジアミノデカンを実施例1に記載(−だ様に次式: で表わされるビス−アセチル体に変拗する;融点119
℃。
元素分析 CI6 N32 N20z (分子量28
4・446)CHN 計算値 /) 7.55係 11.36% 984係実
験値 67.9係 11.5係 9.8q6実施例3 a)3.12−ジイソプロピル−1,2−ジアザ−1,
5,’9−シクロドデカトリエン実施例2において、ジ
エチリデンヒドラジン725 f (8,63モル)の
代わりにビス−(2−メチルグロビリデン)−ヒドラジ
ン(インブチルアルダジン)2529(2,4モル)を
使用する時、他は同様な工程によって、0.03om
Hg下精精製蒸留後ろ、12−ジイソプロピル−1,2
ジアザ−1,5゜9−シクロドデカトリエン4267を
無色油状物質として得る:沸点89〜92℃1005論
Hg:収量は反応させたビス−(2−メチル−プロピリ
デン)−ヒドラジン(100Lり変換)に関して理論量
の72係。
4・446)CHN 計算値 /) 7.55係 11.36% 984係実
験値 67.9係 11.5係 9.8q6実施例3 a)3.12−ジイソプロピル−1,2−ジアザ−1,
5,’9−シクロドデカトリエン実施例2において、ジ
エチリデンヒドラジン725 f (8,63モル)の
代わりにビス−(2−メチルグロビリデン)−ヒドラジ
ン(インブチルアルダジン)2529(2,4モル)を
使用する時、他は同様な工程によって、0.03om
Hg下精精製蒸留後ろ、12−ジイソプロピル−1,2
ジアザ−1,5゜9−シクロドデカトリエン4267を
無色油状物質として得る:沸点89〜92℃1005論
Hg:収量は反応させたビス−(2−メチル−プロピリ
デン)−ヒドラジン(100Lり変換)に関して理論量
の72係。
マススペクトログラム二分子ピーク 248、フラグ
メントマス 205.110及び95元素分析 C1
6I28 N2 (分子量248.A1)CHN 計算値 7Z36壬 11.36係 11.28係実験
値 7Z26係 11.57循 11−24係bJ1,
10−ジイソプロピル−1,10−・ジアミノデカン 6.12−ジインプロピル−1,2−ジアザ−115,
9−シクロドデカトリエン250p(1モール)を純粋
第3級ブタノール1.5tに攪拌オートクレーブ中で溶
かす。反応溶液を140〜150℃まで徐々に加温し、
ロジウム−アルミニウムオキシド触媒(5重量%f3.
h)259を添加17、混合物にこの温度で14時間水
素添加する(開始圧120バール)0オートクレーブを
20〜25℃まで冷却(〜だ後、触媒はケイソウ土で濾
去し第3級ブタノール130 mlで洗浄する。溶媒は
最初回転蒸発器で12 鰭Hg下、次に浴温60℃で高
度減圧蒸留去する。こうして無色油状残渣2647を得
る。
メントマス 205.110及び95元素分析 C1
6I28 N2 (分子量248.A1)CHN 計算値 7Z36壬 11.36係 11.28係実験
値 7Z26係 11.57循 11−24係bJ1,
10−ジイソプロピル−1,10−・ジアミノデカン 6.12−ジインプロピル−1,2−ジアザ−115,
9−シクロドデカトリエン250p(1モール)を純粋
第3級ブタノール1.5tに攪拌オートクレーブ中で溶
かす。反応溶液を140〜150℃まで徐々に加温し、
ロジウム−アルミニウムオキシド触媒(5重量%f3.
h)259を添加17、混合物にこの温度で14時間水
素添加する(開始圧120バール)0オートクレーブを
20〜25℃まで冷却(〜だ後、触媒はケイソウ土で濾
去し第3級ブタノール130 mlで洗浄する。溶媒は
最初回転蒸発器で12 鰭Hg下、次に浴温60℃で高
度減圧蒸留去する。こうして無色油状残渣2647を得
る。
この残渣を短いビグローカラムを通して高度減圧蒸留を
行うと、前ランニング82絖いて無色1,10−ジイソ
プロビル−1,10−ジアミノ−デカン25B9(α9
2モル)を得る:沸点106〜109℃10.01關H
g:帽=1.4600゜収量は反応させた6、12−ジ
インプロピル−1゜2−ジアザ−1,5,9−シクロド
デカトリエンに関して理論量の92係。
行うと、前ランニング82絖いて無色1,10−ジイソ
プロビル−1,10−ジアミノ−デカン25B9(α9
2モル)を得る:沸点106〜109℃10.01關H
g:帽=1.4600゜収量は反応させた6、12−ジ
インプロピル−1゜2−ジアザ−1,5,9−シクロド
デカトリエンに関して理論量の92係。
ガスクロマトグラム: q 6.Btll及び2%点で
シグナル(ジアステレオマーの混合物) 元素分析 C16H36N2(分子量256.A7)
CHN 計9値 74.92係 14.15係 1α92係実験
値 74.774 14.34% 10.71%フラ
グメントマス 238,213,196,142゜12
3、f09,97,83,72゜ 56及び44 δ[ppm〕=o、sl二重)、0.88(二重)、Q
、99(−重)、1.29+−重)、1.56(多重)
及び2.48(多重)6:6:4:16=2=2比。
シグナル(ジアステレオマーの混合物) 元素分析 C16H36N2(分子量256.A7)
CHN 計9値 74.92係 14.15係 1α92係実験
値 74.774 14.34% 10.71%フラ
グメントマス 238,213,196,142゜12
3、f09,97,83,72゜ 56及び44 δ[ppm〕=o、sl二重)、0.88(二重)、Q
、99(−重)、1.29+−重)、1.56(多重)
及び2.48(多重)6:6:4:16=2=2比。
実施例4
a)3,3,12,12−テトラメチル−1,2−ジア
ザ−1,5,9−シクロドデカトリエン実施例2a)に
おいてジエチリデンヒドラジン725 f (8,63
モル)の代わりにアセトン−アジン602f’(5,3
7モル)を使用する時、他は同様な工程によって0.0
2 vtm Hg下精製蒸留の後3゜5.12.12−
テトラメチル−1,2−ジアザ−1゜5.9−シクロド
デカトリエン(?lIi点63〜5℃10.02訪](
g ) 1105 fを無色油状物質で得る:収率は反
応させたアセトン−アジン(100φ変換〕に関1.て
理論量の952チ。
ザ−1,5,9−シクロドデカトリエン実施例2a)に
おいてジエチリデンヒドラジン725 f (8,63
モル)の代わりにアセトン−アジン602f’(5,3
7モル)を使用する時、他は同様な工程によって0.0
2 vtm Hg下精製蒸留の後3゜5.12.12−
テトラメチル−1,2−ジアザ−1゜5.9−シクロド
デカトリエン(?lIi点63〜5℃10.02訪](
g ) 1105 fを無色油状物質で得る:収率は反
応させたアセトン−アジン(100φ変換〕に関1.て
理論量の952チ。
フラグメントマス 205,192,96及び81゜δ
(ppm〕=4.95 (多重)、2.35−2.50
(多重21.90−2.10(多重〕及び1.15(−
重)A:4:A:12比。
(ppm〕=4.95 (多重)、2.35−2.50
(多重21.90−2.10(多重〕及び1.15(−
重)A:4:A:12比。
b) 1,1,10.1O−7−)ラメチル−1,1
゜−ジアミノデカン 3.3,12.12−テトラメチル−1,2−ジアザ−
1,5,9−シクロドデカトリエン6609(5モル、
) ヲ無水(純粋)エチレングリコールモノメチルエー
テル4tに攪拌オートクレーブ中で溶かし、パラジウ台
炭素5ay(5重量%Pd)の添加で最初20〜25℃
で60分間、次に110〜120℃で8時間水素添加を
行なう。その後オートクレーブを室温まで冷却した後、
触媒をシリカゲルに通して濾去しエチレングリコールモ
ノメチルエーテルI Q Omtで洗浄する。得られた
澄明反応溶液に冷水200 mlを加えると、次式:で
表わされる5、3,12.12−テトラメチル−1,2
−ジアザシクロドデカンが無色結晶の形で沈澱する。こ
の生成物を濾取し、少量の冷メタノールで2回洗浄[−
だ後高度減圧下P2O5で6時間乾燥する:融点50〜
54℃。収量6172は反応させた3、3,12.12
−テトラメチル−1,2−ジアザ−1,,5,9−シク
ロドデカトリエンに関して理論量の91係である。
゜−ジアミノデカン 3.3,12.12−テトラメチル−1,2−ジアザ−
1,5,9−シクロドデカトリエン6609(5モル、
) ヲ無水(純粋)エチレングリコールモノメチルエー
テル4tに攪拌オートクレーブ中で溶かし、パラジウ台
炭素5ay(5重量%Pd)の添加で最初20〜25℃
で60分間、次に110〜120℃で8時間水素添加を
行なう。その後オートクレーブを室温まで冷却した後、
触媒をシリカゲルに通して濾去しエチレングリコールモ
ノメチルエーテルI Q Omtで洗浄する。得られた
澄明反応溶液に冷水200 mlを加えると、次式:で
表わされる5、3,12.12−テトラメチル−1,2
−ジアザシクロドデカンが無色結晶の形で沈澱する。こ
の生成物を濾取し、少量の冷メタノールで2回洗浄[−
だ後高度減圧下P2O5で6時間乾燥する:融点50〜
54℃。収量6172は反応させた3、3,12.12
−テトラメチル−1,2−ジアザ−1,,5,9−シク
ロドデカトリエンに関して理論量の91係である。
元素分析 C14H3oNz(分子量226.1)C
HN 計算値 74.24弧 1五66係 12j8係実験値
74.10係 1339チ 1250係マススベクト
ログラム二分子ピーク 226、フラグメントマス
211,113,73及び55゜上記3,3,12,1
2−テトラメチル−1,2−ジアザシクロドデカン56
59(2,5モル]ヲ純粋第3級ブタノール2.8tに
溶かし、攪拌オートクレーブ中でアンモニア380?及
びラネーニッケル1102で処理する。反応混合物は徐
々に260℃まで加温し、この温度で16時間水素添加
する(開始圧120バール)。
HN 計算値 74.24弧 1五66係 12j8係実験値
74.10係 1339チ 1250係マススベクト
ログラム二分子ピーク 226、フラグメントマス
211,113,73及び55゜上記3,3,12,1
2−テトラメチル−1,2−ジアザシクロドデカン56
59(2,5モル]ヲ純粋第3級ブタノール2.8tに
溶かし、攪拌オートクレーブ中でアンモニア380?及
びラネーニッケル1102で処理する。反応混合物は徐
々に260℃まで加温し、この温度で16時間水素添加
する(開始圧120バール)。
オートクレーブは20〜25℃に冷却し、触媒idシリ
カゲルに通して濾去して第3級ブタノール130 ml
で洗浄する。溶媒はまず最初に回転蒸発器による。12
mmHg下、次に浴温60℃で高度減圧蒸留去する。こ
うして無色油状残渣5557を得る。次にこの残渣を高
度減圧蒸留すると2.11−ジメチルドデカンから成る
前ランニング7B?″&−得る;沸点76−80℃10
01門Hg;ジス勿トル:分子ピーク 198、 フラグメントマス 183 、155 、57及び46
゜主となる分画として1,1,10.10−テトラメチ
ル−1,10−ジアミノデカンA52?f得る:沸点9
3℃10.o 1削Hg : n20= i、 A35
0収率は反応させた3、3,12.12−テトラメチル
−1,2−ジアザシクロドデカンに関して理論量の81
%。
カゲルに通して濾去して第3級ブタノール130 ml
で洗浄する。溶媒はまず最初に回転蒸発器による。12
mmHg下、次に浴温60℃で高度減圧蒸留去する。こ
うして無色油状残渣5557を得る。次にこの残渣を高
度減圧蒸留すると2.11−ジメチルドデカンから成る
前ランニング7B?″&−得る;沸点76−80℃10
01門Hg;ジス勿トル:分子ピーク 198、 フラグメントマス 183 、155 、57及び46
゜主となる分画として1,1,10.10−テトラメチ
ル−1,10−ジアミノデカンA52?f得る:沸点9
3℃10.o 1削Hg : n20= i、 A35
0収率は反応させた3、3,12.12−テトラメチル
−1,2−ジアザシクロドデカンに関して理論量の81
%。
ガスクロマトグラム:9&2%及び1.2係点でシグナ
ル(ジアステレオマーの混合物ン。
ル(ジアステレオマーの混合物ン。
最終生成物の精製を実施例1b)で示した様に二塩酸塩
にすることで行なう時、生成物はガスクロマトグラフィ
ーによると99%純度で得られる。
にすることで行なう時、生成物はガスクロマトグラフィ
ーによると99%純度で得られる。
元素分析 C14N32 N2 (分子量 22B、
d1ン:CHN 計算値 75.58係 14.12係 12.25係実
験値 75.2 A鳴 14.28q612.06係。
d1ン:CHN 計算値 75.58係 14.12係 12.25係実
験値 75.2 A鳴 14.28q612.06係。
マススペクトロゲス拾−二分子ピーク(M+1)229
、フラグメントマス 213,196及び58゜I(”
−NMRスペクト# : (100MHz ) 十’D
20δ[ppm〕= t O7(多N)及び1.29
(−%j )12:1/)比。
、フラグメントマス 213,196及び58゜I(”
−NMRスペクト# : (100MHz ) 十’D
20δ[ppm〕= t O7(多N)及び1.29
(−%j )12:1/)比。
更に特色づけるため、上記1.1.10.10−テトラ
メチル−1,10−ジアミノデカンを実施例1に記載し
7だ様に、次式: %式% で表わされる相当するビス−アセチル体に変換する;融
点147〜148℃。
メチル−1,10−ジアミノデカンを実施例1に記載し
7だ様に、次式: %式% で表わされる相当するビス−アセチル体に変換する;融
点147〜148℃。
元単分析 C10N36 N202 (分子量31
2.478)CB、 N 計詩値 69.2δ% 11.61% a96%実
験値 、!i9.30Ll)11.67% &92%
H’ −NMRスペクトに: (100MHz)δ(1
)pm)=5.5(多重2.1.90(−重へ1.29
(−重ン及び16(多角’) 2:6:28:a比実
施例5 a)5.12−ジエチル−3,12−ジメチル〜1.2
−ジアザ−1,5,9−シクロドデカトリアセチルアセ
トンニッケル2.569(10ミリモルノ及ヒドリフェ
ニルホスフィン2.6y(10ミリモル)を無水トルエ
ン50m4に溶かし、溶液−は室温下ブタジェンで飽和
する。還元は室温下エトキシジエチルーアルミニウムX
9m/−(25ミIJモル)f:使用して行ない、得ら
れた触媒溶液は連続的にブタジェンに通しながら85〜
95℃に加温し、この温度で2−ブチリデンヒドラジン
(2−ブタノン−アジン)1739(1,24モル)を
いつもブタジェンが少し過剰に存在するようにしてとの
溶液に滴加する。30分の添加時間後、90℃で更に3
0分間攪拌を続けだ後反応溶液は冷却し、触媒をイオウ
05〜12を加えて不活性化する。
2.478)CB、 N 計詩値 69.2δ% 11.61% a96%実
験値 、!i9.30Ll)11.67% &92%
H’ −NMRスペクトに: (100MHz)δ(1
)pm)=5.5(多重2.1.90(−重へ1.29
(−重ン及び16(多角’) 2:6:28:a比実
施例5 a)5.12−ジエチル−3,12−ジメチル〜1.2
−ジアザ−1,5,9−シクロドデカトリアセチルアセ
トンニッケル2.569(10ミリモルノ及ヒドリフェ
ニルホスフィン2.6y(10ミリモル)を無水トルエ
ン50m4に溶かし、溶液−は室温下ブタジェンで飽和
する。還元は室温下エトキシジエチルーアルミニウムX
9m/−(25ミIJモル)f:使用して行ない、得ら
れた触媒溶液は連続的にブタジェンに通しながら85〜
95℃に加温し、この温度で2−ブチリデンヒドラジン
(2−ブタノン−アジン)1739(1,24モル)を
いつもブタジェンが少し過剰に存在するようにしてとの
溶液に滴加する。30分の添加時間後、90℃で更に3
0分間攪拌を続けだ後反応溶液は冷却し、触媒をイオウ
05〜12を加えて不活性化する。
トルエン及び生成する揮発性副生成物は水流ポンプ減圧
下除去し、残渣は0.4 m+nHgで分留して来る0
こうして3.12−ジエチル−3,12−ジメチル−1
,2−ジアザ−1,5,9−シクロドデカトリ二ン(ジ
アステレオマーの混合物)167?(55%)を無色油
状物質として得る;沸点103〜4℃/ Q、 4 t
mHg : n” 1.4895゜元素分析 Crs
H28N2 (分量 248.41 )CHN 計算値 7Z36チ 11,36チ 11.28係実験
値 77−65係 11.54係 11.1/)%H’
−NMRスペクトル=(100MHz)溶媒CDCl
3δ[ppm]−〇、8 (f )、1,0(−重)、
1.1(−重)、1.4〜2.8(多重)及び4.8〜
5.1(多重〕/):3:3:12:4比 b)1.10−ジエチル−1,10−ジメチル−1,1
0−ジアミノデカン 3.12−ジエチル−3,12−ジメチル−1,2−ジ
アザ−1,5,9−シクロドデカトリエン124t (
0,5モル)に、攪拌オートクレーブ中のシクロヘキサ
ン620 ml中パラジウム炭素触媒(5重量%pd)
12fを添加し最初室温で90分間、次に100〜11
0℃で60分間水素添加する。そして、触媒を濾去し溶
媒を回転蒸発器で除去12だ後、3,12−ジエチル−
3,12−ジメチル−1,2−ジアザシクロドデカン(
ジアステレオマーの混合物〕125グ(97qy)を黄
色油状物質として生成してくる。
下除去し、残渣は0.4 m+nHgで分留して来る0
こうして3.12−ジエチル−3,12−ジメチル−1
,2−ジアザ−1,5,9−シクロドデカトリ二ン(ジ
アステレオマーの混合物)167?(55%)を無色油
状物質として得る;沸点103〜4℃/ Q、 4 t
mHg : n” 1.4895゜元素分析 Crs
H28N2 (分量 248.41 )CHN 計算値 7Z36チ 11,36チ 11.28係実験
値 77−65係 11.54係 11.1/)%H’
−NMRスペクトル=(100MHz)溶媒CDCl
3δ[ppm]−〇、8 (f )、1,0(−重)、
1.1(−重)、1.4〜2.8(多重)及び4.8〜
5.1(多重〕/):3:3:12:4比 b)1.10−ジエチル−1,10−ジメチル−1,1
0−ジアミノデカン 3.12−ジエチル−3,12−ジメチル−1,2−ジ
アザ−1,5,9−シクロドデカトリエン124t (
0,5モル)に、攪拌オートクレーブ中のシクロヘキサ
ン620 ml中パラジウム炭素触媒(5重量%pd)
12fを添加し最初室温で90分間、次に100〜11
0℃で60分間水素添加する。そして、触媒を濾去し溶
媒を回転蒸発器で除去12だ後、3,12−ジエチル−
3,12−ジメチル−1,2−ジアザシクロドデカン(
ジアステレオマーの混合物〕125グ(97qy)を黄
色油状物質として生成してくる。
上記6,12−ジエチル−3,12−ジメチル1゜2−
ジアザシクロドデカン2st(qoミリモル)を、攪拌
オートクレーブ中のシクロヘキサン200 ml、中ロ
ジウムーアルミニウムオキシド触媒(5重量係Rhン6
2添加して200〜210℃で17時間水素添加する。
ジアザシクロドデカン2st(qoミリモル)を、攪拌
オートクレーブ中のシクロヘキサン200 ml、中ロ
ジウムーアルミニウムオキシド触媒(5重量係Rhン6
2添加して200〜210℃で17時間水素添加する。
そして触媒を濾去し、回転蒸発器で溶媒を除去した後残
渣はo、 2 mw Hgで分留する。こうして1,1
0−ジエチル−1゜10−ジメチル−1,10−ジアミ
ノデカン7.7f(60係)を煙色油状物質として得る
:沸点118〜22℃/ 0.2 、g Hg% 咋=
1.4597゜元素分析 C16H36N2(分子
量256.AB)CHN 計算値 74.93係 14.15係 10.92係実
験値 75゜08係 14.18係 11.00壬H1
−NMRスペ トル: (100MHz)溶媒C606
δ〔ppm〕=0.66(−重)、O,B4(f)、0
.94(−重)及び1.1−1.s(多重)4:6:6
:20比実施例6 a)3.12−ジシクロオクチル−1,2−ジアザ−1
,5,9−シクロドデカトリエンアセチルアセトンニッ
ケル1.25f(5ミリモルλ及ヒドリフェニルホスフ
ィン1.251i’r5ミリモル)をアンプル中で□無
水トルエン75rrLLに溶かしブタジェン20グをコ
ンデンスする。還元は室温下エトキシジエチルーアルミ
ニウム1.8m、l (12ミリモルンを使用して行な
い、このようにして得られた触媒溶液にシクロオクチル
カルボアルダジン1s、8.y(soミリモル)を加え
た後この混合物を室温で62時間攪拌する。その後、触
媒は不活性化し、反応溶液をトルエン200mAで希釈
しシリカゲルでR,過してから溶媒を回転蒸発器で除去
する0残渣をエタノールで結晶化すると、6,12−ジ
シクロオクチル−1,2−ジアサー1.5.9−シクロ
ドデカトリエン6.5t(s3係)を得る;融点62−
43℃。
渣はo、 2 mw Hgで分留する。こうして1,1
0−ジエチル−1゜10−ジメチル−1,10−ジアミ
ノデカン7.7f(60係)を煙色油状物質として得る
:沸点118〜22℃/ 0.2 、g Hg% 咋=
1.4597゜元素分析 C16H36N2(分子
量256.AB)CHN 計算値 74.93係 14.15係 10.92係実
験値 75゜08係 14.18係 11.00壬H1
−NMRスペ トル: (100MHz)溶媒C606
δ〔ppm〕=0.66(−重)、O,B4(f)、0
.94(−重)及び1.1−1.s(多重)4:6:6
:20比実施例6 a)3.12−ジシクロオクチル−1,2−ジアザ−1
,5,9−シクロドデカトリエンアセチルアセトンニッ
ケル1.25f(5ミリモルλ及ヒドリフェニルホスフ
ィン1.251i’r5ミリモル)をアンプル中で□無
水トルエン75rrLLに溶かしブタジェン20グをコ
ンデンスする。還元は室温下エトキシジエチルーアルミ
ニウム1.8m、l (12ミリモルンを使用して行な
い、このようにして得られた触媒溶液にシクロオクチル
カルボアルダジン1s、8.y(soミリモル)を加え
た後この混合物を室温で62時間攪拌する。その後、触
媒は不活性化し、反応溶液をトルエン200mAで希釈
しシリカゲルでR,過してから溶媒を回転蒸発器で除去
する0残渣をエタノールで結晶化すると、6,12−ジ
シクロオクチル−1,2−ジアサー1.5.9−シクロ
ドデカトリエン6.5t(s3係)を得る;融点62−
43℃。
元素分析 C26H44N2 (分子量 3B4.
65ンCHN 計算値 81.19係 11.53係 7.28 Ll
b実験値 81.30係 Ll、59係 Z48係H1
−N、M凡スペクトに: (100MHz ) 溶媒
CDC43δCppm〕=t1−2.q (多量)、&
06(二重]、3.14(二重)及び4.8−5.1(
多重)38:1 :1 :4比 b)1.10−ジシクロオクチル−1,1o−ジアミノ
デカン 3.12−ジシクロオクチル−1,2−ジアザ−1,5
,9−シクロドデカトリエン2.5y(b、5ミ’)%
ル)’k、Ml、拌オートクレーブ中のシクロへ* サ
ン100 rntn口中ウム−アルミニウムオキシド(
5重量toRh)0.69の添加で、最初室温で90分
間次に210−220℃で6時間水素添加する。触媒を
濾去し溶媒を回転蒸発器で除去した後〜粗1,10−ジ
シクロオクチル−1,10−ジアミノデカン2−41を
得る。
65ンCHN 計算値 81.19係 11.53係 7.28 Ll
b実験値 81.30係 Ll、59係 Z48係H1
−N、M凡スペクトに: (100MHz ) 溶媒
CDC43δCppm〕=t1−2.q (多量)、&
06(二重]、3.14(二重)及び4.8−5.1(
多重)38:1 :1 :4比 b)1.10−ジシクロオクチル−1,1o−ジアミノ
デカン 3.12−ジシクロオクチル−1,2−ジアザ−1,5
,9−シクロドデカトリエン2.5y(b、5ミ’)%
ル)’k、Ml、拌オートクレーブ中のシクロへ* サ
ン100 rntn口中ウム−アルミニウムオキシド(
5重量toRh)0.69の添加で、最初室温で90分
間次に210−220℃で6時間水素添加する。触媒を
濾去し溶媒を回転蒸発器で除去した後〜粗1,10−ジ
シクロオクチル−1,10−ジアミノデカン2−41を
得る。
単離及び特色づけるだめ、上記ジアミンを相当するビス
−アセチル体に変換し、これをエーテル/アセトニトリ
ルで再結晶する0こうしてN、N’−ビスアセチル−(
1,10−ジシクロオクチル−1,10−ジアミノデカ
ン)0.85f(27φ)を得る:融点144〜9℃。
−アセチル体に変換し、これをエーテル/アセトニトリ
ルで再結晶する0こうしてN、N’−ビスアセチル−(
1,10−ジシクロオクチル−1,10−ジアミノデカ
ン)0.85f(27φ)を得る:融点144〜9℃。
元素分析 C3o■]、6N202(分子量476 、
79 )HNO 計算値75.57係11.84嗟587係る。71係実
験値 75.34tl)12.03係5.8を噛7.0
9係δ[ppm〕−1,0−1,8(多重)、1.98
(−重)、676(多重)及び5.6(二@)46:6
:2:2比実施例7 a)3.12−ジヘプチルー1,2−ジアザ−1゜5.
9−シクロドデカトリエン (CH2)6CH3 実施例5a)において2−ブチリデンヒドラジン173
ii’(1,24モル)の代わりに、カプリルアルダジ
ン57.99(C1,15モル)を使用し、他は同様な
反応条件下で行ない、実施例6aの様に混合物を処理し
た時、5,12−ジヘプチルー1,2−ジアザ−1,5
,9−シクロドデカトリエン89グ(16tfb)を得
る:融点60〜61℃。
79 )HNO 計算値75.57係11.84嗟587係る。71係実
験値 75.34tl)12.03係5.8を噛7.0
9係δ[ppm〕−1,0−1,8(多重)、1.98
(−重)、676(多重)及び5.6(二@)46:6
:2:2比実施例7 a)3.12−ジヘプチルー1,2−ジアザ−1゜5.
9−シクロドデカトリエン (CH2)6CH3 実施例5a)において2−ブチリデンヒドラジン173
ii’(1,24モル)の代わりに、カプリルアルダジ
ン57.99(C1,15モル)を使用し、他は同様な
反応条件下で行ない、実施例6aの様に混合物を処理し
た時、5,12−ジヘプチルー1,2−ジアザ−1,5
,9−シクロドデカトリエン89グ(16tfb)を得
る:融点60〜61℃。
元素分析 024 H44N2 (分子量36[1
,/、3)CHN 計算値 79.93係 12.30係 177%実験値
7995係 12.5/)係 a09係δ[ppm〕
−o、aa(三重)、1.25(多重)、1.5−λ0
(多重)、2.0−49(多重)、五28(多重)及び
5.0(多重) 6:20:8:4:2:4比b)2
.10−ジヘプチルー2,10−ジアミノデカン 実施例6bにおいて6,12−ジシクロオクチル−1,
2−ジアザ−1,5,9−シクロドデカトリエン2..
5?(6,5ミリモル)の代わりに3.12−ジヘプチ
ルー1,2−ジアザ−1,5,9−シクロドデカトリエ
ン6.6r(1oミリモル)を使用し、他は同様な反応
条件下で行ない処理すると、粗2.10−ジヘブチルー
2,10−ジアミノデカン652を無色油状物質として
得る。
,/、3)CHN 計算値 79.93係 12.30係 177%実験値
7995係 12.5/)係 a09係δ[ppm〕
−o、aa(三重)、1.25(多重)、1.5−λ0
(多重)、2.0−49(多重)、五28(多重)及び
5.0(多重) 6:20:8:4:2:4比b)2
.10−ジヘプチルー2,10−ジアミノデカン 実施例6bにおいて6,12−ジシクロオクチル−1,
2−ジアザ−1,5,9−シクロドデカトリエン2..
5?(6,5ミリモル)の代わりに3.12−ジヘプチ
ルー1,2−ジアザ−1,5,9−シクロドデカトリエ
ン6.6r(1oミリモル)を使用し、他は同様な反応
条件下で行ない処理すると、粗2.10−ジヘブチルー
2,10−ジアミノデカン652を無色油状物質として
得る。
単離及び特色づけるため上記ジアミンを相当するビス−
アセチル体に変換[7、これをn−プロパツールで再結
晶する。こうしてN、N’−ビスアセチル−(1,H3
−ジヘプチルー1,10−ジアミノデカン)1.4?(
31係)を得る:融点158〜62℃。
アセチル体に変換[7、これをn−プロパツールで再結
晶する。こうしてN、N’−ビスアセチル−(1,H3
−ジヘプチルー1,10−ジアミノデカン)1.4?(
31係)を得る:融点158〜62℃。
元素分析 C28■(56N20□(分子量452.7
7)CHNO 計算値74.28係12.47係6.19係707係実
験値74.29係12.39係6.53係7−29係式
■で表わされる1、10−ジアミノデカンはエホキシド
樹脂に対して有用な硬化剤である。
7)CHNO 計算値74.28係12.47係6.19係707係実
験値74.29係12.39係6.53係7−29係式
■で表わされる1、10−ジアミノデカンはエホキシド
樹脂に対して有用な硬化剤である。
それらで硬化される生成物及び物質は良好な熱的及び誘
導性特性で顕著であり、と9わけ改良された機械的特性
例えば良好な耐衝撃性、張力下の高い剪断強さ、同様に
良好な接着性できわだっている0 ポリエポキシドおよび硬化剤として少なくとも一種の式
1aで表わされる化合物を含有する硬化性組成物は、と
りわけ成形品、含浸材料、コーティング、ラッカーおよ
び封1E剤の製造に適する。
導性特性で顕著であり、と9わけ改良された機械的特性
例えば良好な耐衝撃性、張力下の高い剪断強さ、同様に
良好な接着性できわだっている0 ポリエポキシドおよび硬化剤として少なくとも一種の式
1aで表わされる化合物を含有する硬化性組成物は、と
りわけ成形品、含浸材料、コーティング、ラッカーおよ
び封1E剤の製造に適する。
ポリエポキシドのエポギシ基1当量当り、式■aで表わ
される1、10−ジアミノ−デカンの窒素原子に結合す
る活性水素原子0,5ないし1.3当量、特に約1.0
当量を使用すると有利である。
される1、10−ジアミノ−デカンの窒素原子に結合す
る活性水素原子0,5ないし1.3当量、特に約1.0
当量を使用すると有利である。
ポリエポキシドとしては、プラスチック技術分野で知ら
れたものが使用でき、このポリエポキシドは場合により
該技術分野で慣用される添加剤、例えば希釈剤、促進剤
、改質剤、例えば増量剤、充填剤および補強剤、顔料、
染料、有機溶媒、可塑剤、流れ調整剤、チキントロピー
付与剤、難燃剤、および離型剤を含んでもよい。
れたものが使用でき、このポリエポキシドは場合により
該技術分野で慣用される添加剤、例えば希釈剤、促進剤
、改質剤、例えば増量剤、充填剤および補強剤、顔料、
染料、有機溶媒、可塑剤、流れ調整剤、チキントロピー
付与剤、難燃剤、および離型剤を含んでもよい。
式1aで表わされる化合物を含有する硬化性エポキシド
樹脂混合物は、なかんずく表面保獲、電気工業、積層操
作及び建造物取引の分野に使用される。上記混合物はそ
れぞれの場合に特定の応用に適する調合物で、非光てん
もしくは充てんされた状態適切ならば溶液又はエマルジ
ョンの形で、例えばペイント、ラッカー、焼結粉末、圧
縮成形組成物、射出成形組成物、浸漬樹脂、流;2込み
樹脂、含浸樹脂、結合剤及び接着剤、成形樹脂、私層樹
脂、シーリング組成物及び下塗剤、矢被覆組成物及び鉱
物質骨材用結合剤の形で使用される。
樹脂混合物は、なかんずく表面保獲、電気工業、積層操
作及び建造物取引の分野に使用される。上記混合物はそ
れぞれの場合に特定の応用に適する調合物で、非光てん
もしくは充てんされた状態適切ならば溶液又はエマルジ
ョンの形で、例えばペイント、ラッカー、焼結粉末、圧
縮成形組成物、射出成形組成物、浸漬樹脂、流;2込み
樹脂、含浸樹脂、結合剤及び接着剤、成形樹脂、私層樹
脂、シーリング組成物及び下塗剤、矢被覆組成物及び鉱
物質骨材用結合剤の形で使用される。
次のエポキシド樹脂を下記使用実施例に記載の硬化性混
合物の調製に使用した: 2.2−ビス−(p−オキシフェニル)プロパンとエビ
クロロヒドリンの化学量論的過剰とアルカリの存在下に
縮合させて生成されるエポキシド樹脂(工業製品)は、
次式: で表わされるジオメタンジグリシジルエーテル(Dio
methan diglycidyl ether )
が大部分を占め、室温で液体であゆ、次の特性を有する
。
合物の調製に使用した: 2.2−ビス−(p−オキシフェニル)プロパンとエビ
クロロヒドリンの化学量論的過剰とアルカリの存在下に
縮合させて生成されるエポキシド樹脂(工業製品)は、
次式: で表わされるジオメタンジグリシジルエーテル(Dio
methan diglycidyl ether )
が大部分を占め、室温で液体であゆ、次の特性を有する
。
エポキシド含Z:S、1〜5.5エポキシド当t /
l、。
l、。
粘度(ヘプラー): 9,000−13,000cP/
25℃R使用実施例 次の硬化性組成物を使用した。
25℃R使用実施例 次の硬化性組成物を使用した。
実施例I:エボキシド樹脂4100f及び実施例1に従
って製造した1、1o−ジシクロへキシル−1,10−
ジアミノデカン44.59゜実施例■:エボキシド樹脂
A100f及び実施例2に従って製造した1、10−ジ
メチル−1゜10−ジアミノデカン26.5f。
って製造した1、1o−ジシクロへキシル−1,10−
ジアミノデカン44.59゜実施例■:エボキシド樹脂
A100f及び実施例2に従って製造した1、10−ジ
メチル−1゜10−ジアミノデカン26.5f。
実施例■:エボキシド樹脂A1009及び実施例4に従
って製造した1、1,10.”IQ−テトラメチル−1
,10−ジアミノデカン50.2 f。
って製造した1、1,10.”IQ−テトラメチル−1
,10−ジアミノデカン50.2 f。
比較実施例
実施例■:エポキシド樹脂A100f及びトリエチレン
テトラミン12.8f0 実施例V:エポキシド樹脂A 100 f及び4゜4′
−メチレン−ビス=(3−メチルシクロヘキシルアミン
)(3,3’−ジメチル−4,4′−ジアミノ−ジシク
ロヘキシルメタン151.59゜実施例■:エボキシド
樹脂A100f及び6−アミノメチル−5,5,5−ト
リメチルシクロヘキシルアミン2Z52゜ 実施例■:エポキシド樹脂A100f及びトリメチルへ
キサメチレンジアミン21t0試験片は室温(20〜2
5℃)でジアミンをエポキシド樹脂と混合し、減圧で混
合物を簡単に脱ガスした緩下に配すように注型し薄板又
はフィルムをつくることによって製造する。硬化は40
℃で24時間次いで100℃で6時間実施する。
テトラミン12.8f0 実施例V:エポキシド樹脂A 100 f及び4゜4′
−メチレン−ビス=(3−メチルシクロヘキシルアミン
)(3,3’−ジメチル−4,4′−ジアミノ−ジシク
ロヘキシルメタン151.59゜実施例■:エボキシド
樹脂A100f及び6−アミノメチル−5,5,5−ト
リメチルシクロヘキシルアミン2Z52゜ 実施例■:エポキシド樹脂A100f及びトリメチルへ
キサメチレンジアミン21t0試験片は室温(20〜2
5℃)でジアミンをエポキシド樹脂と混合し、減圧で混
合物を簡単に脱ガスした緩下に配すように注型し薄板又
はフィルムをつくることによって製造する。硬化は40
℃で24時間次いで100℃で6時間実施する。
6麗の厚さの薄板を機械的性質すなわち、ダインスタッ
ト〔ダブり二〇ホルツミュラ−(W。
ト〔ダブり二〇ホルツミュラ−(W。
Holzmi;1ler)及びケイa 7 /l/7−
y 7−ルグ(K・AI’、tenburg )著・
Nフィシツク デア クンストストア x (phys
ik der kunststoffe ) I、アカ
デミーフェルラーク ベルリ=y (Alcademi
e −Verlag Berl in )、1961年
刊、第597−604頁参照〕による曲げ強さ、曲げ角
度及び衝撃曲げ強さ及び水中貯蔵後の重量増加を測定す
るだめ、アルミニウム成形型中で上記混合物から製造す
る。
y 7−ルグ(K・AI’、tenburg )著・
Nフィシツク デア クンストストア x (phys
ik der kunststoffe ) I、アカ
デミーフェルラーク ベルリ=y (Alcademi
e −Verlag Berl in )、1961年
刊、第597−604頁参照〕による曲げ強さ、曲げ角
度及び衝撃曲げ強さ及び水中貯蔵後の重量増加を測定す
るだめ、アルミニウム成形型中で上記混合物から製造す
る。
2闘厚さの薄板は、電気的性質すなわちDIN第53.
4B’s号(=A8TM Dlso)に、1:る誘′&
、損率tanδ、DIN第53,183号による誘電率
ε及びDIN第5へ482号による体積抵抗率を決定す
るため、アルミニウム成形型中で上記混合物から製造す
る。
4B’s号(=A8TM Dlso)に、1:る誘′&
、損率tanδ、DIN第53,183号による誘電率
ε及びDIN第5へ482号による体積抵抗率を決定す
るため、アルミニウム成形型中で上記混合物から製造す
る。
1.5柄厚さの小薄片1件、示差熱分析装置〔TA20
00タイプ:メトラー(Mettler〕社製、グライ
フエンゼー(Gre i f ensee )、スイス
国〕でガラス転移点を決定するだめ、上記組成物よシ製
造する。
00タイプ:メトラー(Mettler〕社製、グライ
フエンゼー(Gre i f ensee )、スイス
国〕でガラス転移点を決定するだめ、上記組成物よシ製
造する。
50μ厚さのフィルムをトリクロロエチレンで脱脂した
鉄板上で延伸三角架(drawingtBangle)
によって上記組成物から製造し、背後からハンマーで打
った後の、衝撃深絞り成形値、及びエリクセン深絞り成
形値(DIN第53,156号による)をこれをフィル
ムに関して測定する。
鉄板上で延伸三角架(drawingtBangle)
によって上記組成物から製造し、背後からハンマーで打
った後の、衝撃深絞り成形値、及びエリクセン深絞り成
形値(DIN第53,156号による)をこれをフィル
ムに関して測定する。
アンチコロダル(Anticorodal )B [−
rグネシウム及びシリコンを含有するアルミニウム合金
、シーバイツアーアルミニウム社M (Schwe i
zerAluminium AG) ; 170X2
5x1.5叫)試験片は表面をこすってざらざらにしア
セトンで洗浄することによって清浄としてから、端部を
上記組成物で被覆する。2個の試験片の被覆端部は互い
に101aづつ重なるようにし、この位置でクランプで
固定し、そして硬化する。シールの剪断張力はDIN第
53.283号によって上記のようにして得られた試験
片に関して測定する。
rグネシウム及びシリコンを含有するアルミニウム合金
、シーバイツアーアルミニウム社M (Schwe i
zerAluminium AG) ; 170X2
5x1.5叫)試験片は表面をこすってざらざらにしア
セトンで洗浄することによって清浄としてから、端部を
上記組成物で被覆する。2個の試験片の被覆端部は互い
に101aづつ重なるようにし、この位置でクランプで
固定し、そして硬化する。シールの剪断張力はDIN第
53.283号によって上記のようにして得られた試験
片に関して測定する。
その結果を次の表1に挙げる。
エポキシド樹脂に対する本発明による1、10−ジアミ
ノデカンの硬化剤としての反応性は、それ自体における
脂肪族特性のため予想されるよりも驚ろく程低い。それ
故新規硬化剤は技術的進歩を示している0従来の脂肪族
アミンと比較した時の反応性における相違点は、ゲル化
時間、操作時間を測定すること及び示差熱分析によって
示される。粘度測定も本発明によるアミンを含有してい
る硬化性組成物が低い粘度(す〃わち好ましい)を有1
7ていることをあられしている。
ノデカンの硬化剤としての反応性は、それ自体における
脂肪族特性のため予想されるよりも驚ろく程低い。それ
故新規硬化剤は技術的進歩を示している0従来の脂肪族
アミンと比較した時の反応性における相違点は、ゲル化
時間、操作時間を測定すること及び示差熱分析によって
示される。粘度測定も本発明によるアミンを含有してい
る硬化性組成物が低い粘度(す〃わち好ましい)を有1
7ていることをあられしている。
試験される樹脂−硬化剤組成物■20m7を小さなA/
るつぼに秤取し、このるつぼを密閉し、示差熱分析計(
AT2000タイプ、メトラー、グライフェンセ社製、
スイス国)のオーブン中の測定感知器上におく。試料は
加熱速度4℃/分で加温し、反応は入っているるつぼと
からのるつぼの温度差を測定することによって追跡する
。
るつぼに秤取し、このるつぼを密閉し、示差熱分析計(
AT2000タイプ、メトラー、グライフェンセ社製、
スイス国)のオーブン中の測定感知器上におく。試料は
加熱速度4℃/分で加温し、反応は入っているるつぼと
からのるつぼの温度差を測定することによって追跡する
。
反応開始時、最大反応速度時及び反応終了時の各温度は
作製した曲線から読みとり、反応の間の遊離された熱は
曲線の下の部分の面積を測定することによって決定する
。
作製した曲線から読みとり、反応の間の遊離された熱は
曲線の下の部分の面積を測定することによって決定する
。
操作時間の測定
粘度の時間変化は定温条件下ヘプラー(Hoepp 1
e r )落球粘度計で25℃と4,0℃−において
、樹脂−硬化剤組成物の他の1部分に関して測定し、1
.500cP、、3,0OOcP及び10,0OOCP
に到達するまでの必要時間を記録する。
e r )落球粘度計で25℃と4,0℃−において
、樹脂−硬化剤組成物の他の1部分に関して測定し、1
.500cP、、3,0OOcP及び10,0OOCP
に到達するまでの必要時間を記録する。
最後に樹脂−硬化剤の他の試料に関【〜で定温調節ホッ
トプレート上で80℃、100℃及び120℃のゲル化
時間を測定する。得らtた値は表1aに挙げる。
トプレート上で80℃、100℃及び120℃のゲル化
時間を測定する。得らtた値は表1aに挙げる。
50μ厚さのフィルムを、硬化性組成物■を使用して脱
脂した鉄板上で上記のように製造(7、次の硬化条件を
使用する。
脂した鉄板上で上記のように製造(7、次の硬化条件を
使用する。
20℃で1日
20℃で1゛週間
20℃で1ケ月
20℃で2ケ月
60℃で2ケ月
ラッカー技術工学に関1〜で次の調査を実施する00テ
カム(Tecam)装置を使用したゲル化時間、Atカ
ン中100−120℃。
カム(Tecam)装置を使用したゲル化時間、Atカ
ン中100−120℃。
0取扱可能程度に乾燥するまでの時間及びランドル)
(Landolt )装置を使用した時の完全硬化時間
。
(Landolt )装置を使用した時の完全硬化時間
。
0流動性、透明性、表面様相及び浸出性、視覚評価。
〇ペルゾツツ(Persoz )法による硬度、620
0μm・ 20℃、相対湿度65係。
0μm・ 20℃、相対湿度65係。
0エリクセン深絞シ成形値、6200μm120℃、相
対湿度65チ。
対湿度65チ。
0衝撃試験、6200μm120℃、相対湿度65チ、
塗膜面衝撃。
塗膜面衝撃。
0マンドレル(へ4andre口折り曲げ試験、△2[
]Op雷、20℃、相対湿度65循。
]Op雷、20℃、相対湿度65循。
0沸騰水試験、サンドブラストした鋼板にハケ塗りする
。視覚評価、10日間室温で硬化。
。視覚評価、10日間室温で硬化。
0接着性、サンドブラストした鋼板にハケ塗りする、視
覚評価、1゛0日間室温で硬化◇結果は次の表■に挙け
る。
覚評価、1゛0日間室温で硬化◇結果は次の表■に挙け
る。
表 ■
DIN−ドイツ工業標準規格
西ドイツ国ディー7851ヴットリ
ンゲン・レプマツテル5
0発 明 者 エドワルド・トロキラースイス国405
2バーゼル・セント ・アルパンリング220
2バーゼル・セント ・アルパンリング220
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (]) 次式■: 1式中、川は未置換もしくは置換されたアルキルゴ、ン
クロアルキルー、アラルキル−、フェニル−又はナフチ
ル基を表わし、困は未置換もしくは置換されたアルキル
−、シクロアルキル−、アラルキル−又はナフチル基を
表わすか、又は置換フェニル基を表わj7、ル及びR4
は互いに独立して各々水素原子、未置換もしくは置換さ
れたアルキル−・ンクロアルキルー、アラルキル−、フ
ェニル−又はナフチル基を表わすが・または1もと鴇及
び/又は珂と凡4はそれらが結合している炭素原子と一
緒になって未置換もしくは置換された5ないし12員の
アルキレン−又はオキザアルキレン環を形成しているが
、但し、へおよびR・4が同時に水素原子を表わすとき
川およびRイの両者が同時にメチル基を表わすことはな
い・う で表わされる化合物に、不活性有機溶媒の存存下触媒方
法によって1又は2段階で水素添加1〜て、その際の反
応温度を少なくとも120℃まで上昇させることによっ
て得ることを特徴とする次式Ia: 1式中・R1、R2、〜及び八は式■で表わしたものと
同じ意味を有する)で表わされる1゜10−ジアミノデ
カンの製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH1489174A CH599103A5 (ja) | 1974-11-07 | 1974-11-07 | |
| CH14891/74 | 1974-11-07 |
Publications (1)
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|---|---|
| JPS5998039A true JPS5998039A (ja) | 1984-06-06 |
Family
ID=4404612
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50133946A Expired JPS595131B2 (ja) | 1974-11-07 | 1975-11-07 | 硬化性組成物 |
Country Status (7)
| Country | Link |
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1983
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