JPS5952873A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

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Publication number
JPS5952873A
JPS5952873A JP57164497A JP16449782A JPS5952873A JP S5952873 A JPS5952873 A JP S5952873A JP 57164497 A JP57164497 A JP 57164497A JP 16449782 A JP16449782 A JP 16449782A JP S5952873 A JPS5952873 A JP S5952873A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shift register
vertical shift
signal charge
electrode
type layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57164497A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigehiro Miyatake
茂博 宮武
Tadami Nagagawa
永川 忠示
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP57164497A priority Critical patent/JPS5952873A/ja
Publication of JPS5952873A publication Critical patent/JPS5952873A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10Integrated devices
    • H10F39/12Image sensors
    • H10F39/15Charge-coupled device [CCD] image sensors
    • H10F39/153Two-dimensional or three-dimensional array CCD image sensors

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く技術分野〉 本発明はCCD(Charge Coupled De
vice :電荷転送装置)を用いた固体撮像装置に関
し、特にインターライン転送方式CCDの最大信号電荷
量を増大させる技術に関するものである0〈従来技術〉 近年、固体撮像装置の開発は目ざましい進展をみせ、固
体撮像装置を用いたカラービデオカメラは実用化段階を
むかえつつある。固体撮像装置の方式には大きく分けて
XYアドレス方式とCCD方式の2種があり、特にCC
D方式は本質的に出力容量が小さいため$、4の点て有
利なことから研究に力が注がれている。CCD方式の中
でも受光部にpn接合ホトダイオードを用いたインター
ライン転送方式は、青感度が高く、またモザイク状カラ
ーフィルタが使用可能なため高解像度が得られることか
ら固体撮像装置の主流となりつつある。
しかしながらインターライン転送方式では受光部と転送
部か併存するため、これらの面積か制約を受け、最大信
号電荷量が小さくそれ故ダイナミックレンジが狭いとい
う欠点がある。
まず第1図に、pn接合ホトダイオードを受光部に用い
たインターライン転送方式CCD固体撮像装置の従来例
を示す0ここで(a)は平面図、(bXc)(d)はそ
れぞれ■−■1n−n<m−を方向の断面図である。す
なわちp基板1上に、垂直シフトレジスタ用埋め込みチ
ャネルとしてn型層2が形成され、該n型層2と所定間
隔離間させて、ホトダイオードとなるpn接合を形成す
るためのn型層3が形成されている。同一半導体チップ
に垂直シフトレジスタは複数列形成され、またひとつの
垂直シフトレジスタに対して複数個のホトダイオードが
形成されることにより二次元撮像装置が構成される。
上記n型層2とn型層3は基板のままのトランスファゲ
ート領域5により接続している。n型層2、n型層3.
トランスファゲート領域5以外の部分には、高濃度p型
層によるチャネルストップ4が形成されている。一方シ
リコン基板上は絶縁聴悟で覆われ、その上部に垂直シフ
トレジスタ用の電極7.8.9.10がポリシリコンに
より形成されている。電極7と9は第1層目のポリシリ
コンとして、電極8とIOは第2層目のポリシリコンと
して形成され、異なる層のポリシリコン間は絶縁膜11
で分離されている。電極7.8.9.10は垂直シフト
レジスタ用n型層2の上部を覆い、更にトランスファゲ
ート領域5の上部も覆っている。
マタ垂直シフトレジスタ用n型層2とトランスファケー
ト領域5の上部は遮光のためにAt12で覆われている
電極+0.7.8.9には第2図に示すクロックパルス
φ1.φ2.φ3.φ4がそれぞれ印加される。このク
ロックパルスφ1〜φ4は、VL”I”Hの3レベルを
もつ信号であり、■お父はVlのときには垂直シフトレ
ジスタ内の信号電荷か第1図(a)の下から上へと転送
される。一方■11のときには、ホトダイオード3に蓄
積した信号電荷が、トランスファゲート領域5を通って
垂直シフトレジスタ2に転送される。
この方式ではクロックパルスの振幅が■1から■Hであ
るにも拘らず、垂直シフトレジスタの最大信号電荷量は
VLとvlのレベル差で、またホトダイオードの最大信
号電荷量は■1と■1(のレベル差で決定され効率が悪
い。
〈発明の目的〉 本発明は上記従来の固体撮像装置の問題点を解消するた
めになされたもので、垂直シフトレジスタの最大信号電
荷量を増大させ、ダイナミックレンジを拡げた固体撮像
装置を提供するものである。
〈実施例〉 以下本発明の詳細を実施例を用いて説明する。
第3図は本発明を適用した一実施例を示す固体撮像装置
の構成図である。ここで(a)は平面図、(b)(c)
(d)はそれぞれI−I’、 II−II’、 lll
−111′j5向の断面図である。第3図と前述の第1
図の違いは、第1図(d)及び第3図(d)の比較から
明らかなように、従来の基板構造ではホトダイオードの
n型層3がほぼ同じ寸法でトランスファゲート領域5に
連続して垂直シフトレジスタのn型層2に達しているが
、第3p(d)に示す実施例では、ホトダイオードのn
型層3と垂直シフトレジスタのn型層2の間に位置して
トランスファゲート領域15に接しているチャネルスト
ップ14の領域を拡げて形成し、トランスファゲート領
域15を電極7と電極9の直下に限った形状とする。
電極10.7.8.9には例えば第4図に示すクロック
パルス−1,φ2.φ糾φ4が印加される。第4図と前
述の第2図の違いはクロックパルスφ1とφ6がVLと
VI(の2値パルスである点てあり、V/は■ より大
きい電圧であり、■□と同電圧であ■ っても、異なる電圧であっても良い。
すなわちクロックパルスφ2又はφ4がV1□のときに
、ホトダイオード3に蓄積した信号電荷が、トランスフ
ァゲート領域15を通って垂直シフトレジスタ2へ転送
される。一方φ2とφ4がVL又はVlのときには垂直
シフトレンスタ内の信号電荷が第3図(a)の下から上
へと転送される。このときクロックパルスφ;とφ6は
■1、とV1′1間を振幅するが、これらのクロックパ
ルスか印加される電極8とlOの直下のホトタイオード
と垂直ンフトレジスタの間にはチャネルトップ14が存
在するためホトダイオード内に蓄積されている信号電荷
には影響を与えない。また垂直シフトレジスタ内を信号
電荷が転送されている間のφ1と弓の振幅が■、とV/
と大きいため垂直シフトレジスタの最大信号電荷量が増
大する。
く効果〉 以上のように本発明を適用することにより転送部の最大
信号電荷量を増大させダイナミックレンジを拡けること
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のインターライン転送方式固体撮像装置の
構造図、第2図はそのクロックパルスのタイミング図、
第3図は本発明を適用したインターライン転送方式固体
撮像装置の構造図、第4図はそのタロツクパルスのタイ
ミング図である。 l・・p基板、2・・・n型層、3・・n型層、14・
・・チャネルトップ、15・・・トランスファゲート領
域。 6・・・絶縁膜、 7.8.9.10・・ポリシリコン
電極。 11・絶縁膜、12・・遮光用At (G) −さ −7 第1図 359− (C) (

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. l)同一半導体基板にpn接合ホトダイオードが所定ピ
    ッチで配列され、該ホトダイオードに近接させてCCD
    (電荷結合装置)によるシフトレジスタが設けられてな
    る固体撮像装置において、シフトレジスタの信号電荷を
    転送するために一部が重ねて形成された2層のシフトレ
    ジスタ電極を設け、一方のシフトレジスタ電極の延在部
    はホトダイオードとシフトレジスタ間のトランスファゲ
    ート領域上に位置して電荷の転送を制御し、他方のシフ
    トレジスタ電極の延在部は直下の基板領域にチャネルス
    トップが形成されてホトダイオードとシフトレジスタ間
    を分離し、上記一方のシフトレジスタ電極には低、中、
    高の3値パルスを、他方のシフトレジスタ電極には低、
    高の2値のパルスを印加することを特徴とする固体撮像
    装置。
JP57164497A 1982-09-20 1982-09-20 固体撮像装置 Pending JPS5952873A (ja)

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JP57164497A JPS5952873A (ja) 1982-09-20 1982-09-20 固体撮像装置

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ID=15794278

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JP57164497A Pending JPS5952873A (ja) 1982-09-20 1982-09-20 固体撮像装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02268578A (ja) * 1989-04-10 1990-11-02 Toshiba Corp 固体撮像装置の駆動方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5875382A (ja) * 1981-07-20 1983-05-07 Sony Corp 固体撮像装置

Patent Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Cited By (1)

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