JPS5953316B2 - 研磨材微粉末を含む自動発射式エアゾ−ル用懸濁液 - Google Patents
研磨材微粉末を含む自動発射式エアゾ−ル用懸濁液Info
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- JPS5953316B2 JPS5953316B2 JP1141578A JP1141578A JPS5953316B2 JP S5953316 B2 JPS5953316 B2 JP S5953316B2 JP 1141578 A JP1141578 A JP 1141578A JP 1141578 A JP1141578 A JP 1141578A JP S5953316 B2 JPS5953316 B2 JP S5953316B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は原液と噴射剤のエマルジヨンヘ研磨材微粉末を
混入させたエアゾール用懸濁液に関するものである。
混入させたエアゾール用懸濁液に関するものである。
従来、ワックス類例えばつや出しワックスのエアゾール
液は、ワックス、シリコン、ミネラルスピリットおよび
水を混合し、これを噴射剤である液化ガスやジメチルエ
ーテルに混和した液からなり、この液は容器に充填され
て、バルブボタン操作でノズルから自動発射される。
液は、ワックス、シリコン、ミネラルスピリットおよび
水を混合し、これを噴射剤である液化ガスやジメチルエ
ーテルに混和した液からなり、この液は容器に充填され
て、バルブボタン操作でノズルから自動発射される。
ところで、このようなワックス類では、この液を噴射さ
せて布等で磨き上げても、つや出し面にこびりついた固
形物を取ることが困難であつた。
せて布等で磨き上げても、つや出し面にこびりついた固
形物を取ることが困難であつた。
そこで、最近、このようなつや出しワックスのエアゾー
ル液中に研磨材微粉末（例えばけいそう土やケイ酸、そ
の他）を含有させることが行なわれている。しかし、こ
のようなエマルジョン中へ研磨材微粉末を入れると、研
磨材微粉末が凝集し、長期の保存中に固まつたり、バル
ブの詰りや漏れを起したり、均一な噴射を得られないと
いつた欠点があつた。本発明の目的は、原液と噴射剤と
のエマルジョンのエアゾール液中に研磨材微粉末を均一
かつ安定に分散させた液を提供して、上記の欠点を解決
することである。
ル液中に研磨材微粉末（例えばけいそう土やケイ酸、そ
の他）を含有させることが行なわれている。しかし、こ
のようなエマルジョン中へ研磨材微粉末を入れると、研
磨材微粉末が凝集し、長期の保存中に固まつたり、バル
ブの詰りや漏れを起したり、均一な噴射を得られないと
いつた欠点があつた。本発明の目的は、原液と噴射剤と
のエマルジョンのエアゾール液中に研磨材微粉末を均一
かつ安定に分散させた液を提供して、上記の欠点を解決
することである。
本発明は、原液と噴射剤とのエマルジョンに有機リン酸
エステル型界面活性剤を懸濁化剤として研磨材微粉末を
均一 ・安定に分散させたものである。
エステル型界面活性剤を懸濁化剤として研磨材微粉末を
均一 ・安定に分散させたものである。
有機リン酸エステルとしては、一般式
Ｒ、−Ｏ−Ｐ−０Ｒ２
Ｒ３−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２０）ｎ−Ｐ−ＯＭまたは
Ｒ３−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２０）ｎ−Ｒ−ＯＭ（ただし、
Ｒ、は炭素数２０以下のアルキル基、アシル基で、アル
コキシ基を有しても良い。
Ｒ、は炭素数２０以下のアルキル基、アシル基で、アル
コキシ基を有しても良い。
Ｒ２は水素原子、または炭素数２０以下のアルキル基、
アシル基でアルコキシ基を有しても良い。Ｒ３は炭素数
２０以下のアルキル基または炭素数２０以下のアルキル
基を有するアルキルアリール基を示す。Ｍは水素原子ま
たはＮＨ。で、ｎは０〜２０の数を表わす。）で表わさ
れるもので、例えば、ヘキシルアルコール、２−エチル
ヘキシルアルコール、イソオクチルアルコール、ステア
リルアルコール、デシルアルコール、ラウリルアルコー
ル、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、オレイ
ルアルコール、グリコール類およびフエノール類とリン
酸とのモノもしくはジエステルがあげられる。リン酸と
エステルを形成している上記化合物の残基がさらに水酸
基を有する場合は、これらの水酸基の水素原子はアルキ
ル基またはアリール基により置換されてもよい。またア
ルキルもしくはアルキルアリールモノもしくはジホスフ
エート、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテルの
モノもしくはジホスフエートも用いられる。
アシル基でアルコキシ基を有しても良い。Ｒ３は炭素数
２０以下のアルキル基または炭素数２０以下のアルキル
基を有するアルキルアリール基を示す。Ｍは水素原子ま
たはＮＨ。で、ｎは０〜２０の数を表わす。）で表わさ
れるもので、例えば、ヘキシルアルコール、２−エチル
ヘキシルアルコール、イソオクチルアルコール、ステア
リルアルコール、デシルアルコール、ラウリルアルコー
ル、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、オレイ
ルアルコール、グリコール類およびフエノール類とリン
酸とのモノもしくはジエステルがあげられる。リン酸と
エステルを形成している上記化合物の残基がさらに水酸
基を有する場合は、これらの水酸基の水素原子はアルキ
ル基またはアリール基により置換されてもよい。またア
ルキルもしくはアルキルアリールモノもしくはジホスフ
エート、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテルの
モノもしくはジホスフエートも用いられる。
噴射剤は液化石油ガス（ＬＰＧ）およびジメチルエーテ
ル（ＤＭＥ）あるいはその両者の混合液が使用されるも
のとする。
ル（ＤＭＥ）あるいはその両者の混合液が使用されるも
のとする。
研磨材微粉末としては、ケイソウ土（硬質および軟質）
、ケイ酸、ケイ酸白亜、加工白亜、沈降硫酸バリウム、
トリポリ石、黄土、軽石等、研磨効果のあるもので、通
常１００μ以下好ましくは、５〜３５μの粒径のものが
使用される。
、ケイ酸、ケイ酸白亜、加工白亜、沈降硫酸バリウム、
トリポリ石、黄土、軽石等、研磨効果のあるもので、通
常１００μ以下好ましくは、５〜３５μの粒径のものが
使用される。
第１表および第２表に基本組成を示す。
次に、第３表に本発明の実施例を、第４表に有機リン酸
エステル型界面活性剤を使用しない場合を比較して示し
た。
エステル型界面活性剤を使用しない場合を比較して示し
た。
なお第３表、第４表において各成分の量はＷｔ％により
２表示してある。
２表示してある。
また、有機リン酸エステル型界面活性剤としては米国ゼ
ネラルアニリン社製の商品名ガフアツクおよび独国ヘキ
スト社製の商品名ホストフアツトを用いた。また第３表
、第４表中へキストワツクスなる表示は独国ヘキスト社
製のワツクスである。
ネラルアニリン社製の商品名ガフアツクおよび独国ヘキ
スト社製の商品名ホストフアツトを用いた。また第３表
、第４表中へキストワツクスなる表示は独国ヘキスト社
製のワツクスである。
第３表、第４表の各実施例について再分散性および容器
の腐食性についてのテストを行い、その結果を第３表に
示した。
の腐食性についてのテストを行い、その結果を第３表に
示した。
このテストはエアゾール金属容器に入れた状態で４５℃
で３ケ月保存後における、分散性と金属容器の腐食の有
無について観察した。再分散性については、均一に分散
するものを◎で、ほぼ分散状態にあるがやや凝集の傾向
のあるものを○で、凝集傾向の強いものを△で、少くと
も部分的に強い凝集体を生じたものをＸで示し、腐食性
については、腐食の生じないものを異状なしとした。
で３ケ月保存後における、分散性と金属容器の腐食の有
無について観察した。再分散性については、均一に分散
するものを◎で、ほぼ分散状態にあるがやや凝集の傾向
のあるものを○で、凝集傾向の強いものを△で、少くと
も部分的に強い凝集体を生じたものをＸで示し、腐食性
については、腐食の生じないものを異状なしとした。
第３表および第４表の比較から、本発明のものは、非常
に安定した懸濁液が得られ、容器にも腐食を発生させず
、したがつて、長時間の保存にも耐え、バルブの目詰り
や、漏れ等の支承を起さないことが明かで゛ある。
に安定した懸濁液が得られ、容器にも腐食を発生させず
、したがつて、長時間の保存にも耐え、バルブの目詰り
や、漏れ等の支承を起さないことが明かで゛ある。
Claims (1)
- １ 原液と液化噴射剤とのエマルジョンに研磨材微粉末
を混入させさ自動発射式エアゾール用懸濁液において、
上記噴射剤として液化石油ガスおよびジメチルエーテル
の少くとも一方を用い、かつ上記エマルジヨンへ有機リ
ン酸エステル型界面活性剤を添加して上記研磨材微粉末
を該エマルジョン中に分散させてなる自動発射式エアゾ
ール用懸濁液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1141578A JPS5953316B2 (ja) | 1978-02-06 | 1978-02-06 | 研磨材微粉末を含む自動発射式エアゾ−ル用懸濁液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1141578A JPS5953316B2 (ja) | 1978-02-06 | 1978-02-06 | 研磨材微粉末を含む自動発射式エアゾ−ル用懸濁液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54105392A JPS54105392A (en) | 1979-08-18 |
| JPS5953316B2 true JPS5953316B2 (ja) | 1984-12-24 |
Family
ID=11777401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1141578A Expired JPS5953316B2 (ja) | 1978-02-06 | 1978-02-06 | 研磨材微粉末を含む自動発射式エアゾ−ル用懸濁液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5953316B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61101021U (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-27 | ||
| JPS61102781U (ja) * | 1984-12-12 | 1986-06-30 | ||
| JPS63100407A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-05-02 | エイディシー・テレコミュニケーションズ・インコーポレーテッド | 光フアイバカツプラ |
| JPS6440807U (ja) * | 1988-09-12 | 1989-03-10 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57144542A (en) * | 1981-03-02 | 1982-09-07 | Toshiba Corp | Polishing agent |
-
1978
- 1978-02-06 JP JP1141578A patent/JPS5953316B2/ja not_active Expired
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61101021U (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-27 | ||
| JPS61102781U (ja) * | 1984-12-12 | 1986-06-30 | ||
| JPS63100407A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-05-02 | エイディシー・テレコミュニケーションズ・インコーポレーテッド | 光フアイバカツプラ |
| JPS6440807U (ja) * | 1988-09-12 | 1989-03-10 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54105392A (en) | 1979-08-18 |
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