JPS5953918B2 - セフアロスポリン誘導体及びその製造方法 - Google Patents

セフアロスポリン誘導体及びその製造方法

Info

Publication number
JPS5953918B2
JPS5953918B2 JP9094276A JP9094276A JPS5953918B2 JP S5953918 B2 JPS5953918 B2 JP S5953918B2 JP 9094276 A JP9094276 A JP 9094276A JP 9094276 A JP9094276 A JP 9094276A JP S5953918 B2 JPS5953918 B2 JP S5953918B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
thiadiazol
carboxylic acid
cephem
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP9094276A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5315395A (en
Inventor
泰介 松尾
徹 菅原
浩大 桝屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takeda Chemical Industries Ltd filed Critical Takeda Chemical Industries Ltd
Priority to JP9094276A priority Critical patent/JPS5953918B2/ja
Publication of JPS5315395A publication Critical patent/JPS5315395A/ja
Publication of JPS5953918B2 publication Critical patent/JPS5953918B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 H工ΠH、Co□−B(I) 〔式中、R1は水素を、−C00R2はエステル化され
ていてもよいカルボキシル基を、Bは水素、アルキルョ
アラルキルョアリールまたは式−N′R3(R3、R4
は同一または異なつて、水\R4素、アルキル、アシル
、アラキルまたは隣接する窒素原子と共に異項環基を形
成していてもよい)で表わされる基を示す。
〕で表わされる新規セフアロスポリン誘導体およびその
製造方法に関するJ ものである。本発明者等は、種々
検討した結果、一般式一 NCS−CH2C0CH2C
O□ユ(n)〔式中の記号は前記と同意義。
〕で表わされる化合物とヒドロキシルアミンとを反応さ
せると、−ウー新規なセフアロスポリン誘導体(1)が
得られ、かつこの化合物(1)が優れた抗菌作用を有し
ていることを見出し、これに基づいて本発明を完成した
即ち、本発明は、{1)セフアロスポリン誘導体(1)
、 (2)化合物(1)とヒドロキシルアミンとを反応させ
ることを特徴とする、セフアロスポリン誘導体(1)の
製造方法に関するものである。
上記中、−COOR2で示されるエステル化されていて
もよいカルボキシル基とは、カルボキシル基またはたと
えばベンジル,p−ニトロベンジル,アルカノイロキシ
メチル,ジまたはトリアルキルシリル,アルコキシシリ
ル,ベンズヒドリル,アルコキシアルキル,アルケニル
,トリクロロエナル,メチルスルフオニルエチル,ベン
ゾイルメチル,t−ブチル,メトキシベンジル,トリチ
ル,メチルチオメチル,ピバロイルオキシメチル,α−
アセトキシブチル等のα−アシルオキシ−α−置換メチ
ル−エステルなどである。
これらのエステルは、β−ラクタム環などを開裂しない
ような緩和な条件で遊離型に導びくことができるもので
ある場合、たとえばR2が緩和な酸性あるいはアルカリ
性で水素に転換しうる基、たとえばジフエニルメチル、
置換フエニル(たとえばp−ニトロフエニル等),低級
アルキルスルホニルエチル(たとえばメチルスルホニル
エチル),ピバロイルオキシメチルなどの基、あるいは
酸化.還元反応により除去しうる基たとえばトリクロロ
エチル基,ベンジル基などであるものは、エステルを遊
離のカルボキシル基に容易に導くことができるので中関
体としても有用である。また、Bは、水素、たとえばメ
チル,エチル,プロピル,イソプロピル,ブチル,イソ
ブチル,第2ブチル,第3ブチルなどの炭素数1〜4の
直鎖または分枝状アルキル,たとえばベンジル,フエネ
チルなどの炭素数7〜8のアラルキル,たとえばフエニ
ル,トリルヰ.′仲:;、≠y州≦!!..″=?:.
′=iまたは異なつて、水素,たとえば前記のごとき直
鎖または分枝状アルキル,たとえばホルミル,アセチル
,プロピオニルなどの炭素数1〜4の脂肪酸から導かれ
るアシル、たとえば前記のごとき炭素数7〜8のアラル
キル、あるいは隣接する窒素原子と共にR3,R4が結
合してたとえばモルホ]リノ,ピペリジノ,ピペラジノ
,ピロリジノなどの窒素原子を1個または2個含有する
か、あるいは窒素原子1個と酸素原子1個含有する5〜
6員の含窒素異項環基が用いられる。
前記のごとき定義を有する本願目的物セフアロスポリン
誘導体(1)は、4位のカルボキシル基が、たとえばナ
トリウム,カリウム等の無毒性カチオン,アルギニン,
オルニチン,リジン,ヒスチジン等の塩基性アミノ酸、
N−メチルグルカミン,ジエタノールアミン,トリエタ
ノールアミン,トリスヒドロキシメチルアミノメタンな
どのポリヒドロキシアルキルアミン等との無毒性塩を形
成させたものも包含される。
本発明においては、化合物()とヒドロキシルアミンと
を反応させることにより、セフアロスポリン誘導体(1
)を製造する。
化合糎)は、遊離のままかあるいはカルボキシル基にお
けるリチウム,ナトリウム,カリウム等のアルカリ金属
,アルカリ土類金属塩、あるいはトリエチルアミン塩等
の有機または無機塩として反応に供するほか前記のごと
きエステルとして反応に供することもできる。また、ヒ
ドロキシルアミンは、遊離のままかあるいは塩酸,硫酸
,リン酸などの鉱酸,シユウ酸,p−トルエンスルホン
酸等の有機酸との塩として反応に供せられる。反応は、
通常溶媒中で有利に進行し、溶媒としては本反応を阻害
しないものが望ましく、たとえば水,メタノール,エタ
ノール,ジオキサン,アセトニトリル,テトラヒドロフ
ラン,クロロホルム,塩化メチレン,塩化エチレン,ジ
メナルホルムアミド,ジメチルアセタミド,ヘキサメチ
ルホスホルアミドまたはそれらの混合物が繁用される。
ヒドロキシルアミンは、通常化合物(》に対して等モル
以上使用すればよいが、やや過剰量、たとえば1,1当
量程度使用するのが望ましい。この反応は、通常酸性条
件下で進行し、上述したごとき酸類を共存させるのがよ
い。通常、ヒドロキシルアミンを酸塩として反応に供す
るので、特に酸を添加する必要はないが、更に当モル量
の酸特を添加するとより好収率で得られる場合もある。
一般に、反応をより円滑に進めるために反応液のPH8
O.5〜7.0の範囲に特に3.0〜6.0の範囲に保
持するのがよい。反応温度は、特に限定されないが通常
室温下あるいは0〜30℃の温度範囲で行なうのが良く
、特に60℃以下で行なうのがよい。反応時間は、通常
0.5〜24時間であるが、好ましくは室温で0.5〜
12時間である。得られるセフアロスポリン誘導体(1
)は公知の手段たとえば、溶媒抽出、液性変換、転溶、
晶出、再結晶、クロマトグラフイ一などによつて単離精
製することができる。前記本発明方法において原料とし
て用いられている化合物()は、たとえば7ーアミノセ
フアロスポリン類から特願昭51−54024特開昭5
1−138696記載の方法により得られる一般式〔式
中の記号は前記と同意義。
〕で表わされる化合物と4−ハロゲノ一3−オキソブチ
ルハロゲニド(5)とを反応させ、得られる一般式〔式
中、Xはハロゲン原子を、他の記号は前記と同意義を示
す。
〕で表わされる化合物にチオシアン酸を反応させること
により得られる。化合物(1)と化合物(5)の反応は
、自体公知のアシル化方法に準じて行なわれる。
この反応は通常溶媒中で有利かつ円滑に実施し得る。こ
のよつな溶媒としては、たとえばアセトン,ジイソブチ
ルケトン,テトラヒドロフラン,酢酸エチルエステル,
ジオキサン,アセトニトリル,クロロホルム,ジクロル
メタン,ジクロルエチレン,ジメチルホルムアミド,ジ
メチルアセトアミド,ジメチルスルホキシドなど反応を
阻害しない限り、一般の溶媒またはそれらの混合物が用
いられる。この反応の温度はとくに限定されないが、通
常冷却下ないし室温で行なわれる。反応が脱酸的に進行
するので、好ましくは塩基を共存させる。この際用いら
れる塩基としては、脂肪族,芳香族または複素環式窒素
塩基,たとえばトリエチルアミン一、FN,N−ジメチ
ルアニリン,N−エチルモルホリン,ピリジン,コリシ
ン,2,6−ルチジンなどが繁用される。得られる化合
物)は、必要ならば公知の手段たとえば再結晶、液性変
換,溶媒抽出、あるいはクロマトグラフイ一などによつ
て単離精製することもできるが、そのま〜あるいは部分
的に精製したものを次の反応に供することもできるが、
また化合物(とチオシアン酸との反応は化合物)に対し
てチオシアン酸をほぼ等モルかあるいはやや過剰たとえ
ば1.1当量程度使用するのが望ましい。一般に溶媒中
で反応は行なわれるが、溶媒としては化合物()とヒド
ロキシルアミンとの反応において用いられるものなどが
繁用される。反応液のPH,温度,時間その他の反応条
件は、化合物()とヒドロキシルアミンとの反応で記載
したごとき反応条件が好ましい。得られる化合物()は
、前記のごとき公知の手段により単離精製することがで
きる。単離.精製することなく()を含有する反応混合
液のまま、本発明方法の原料として用いることもできる
。本発明目的物のセフアロスポリン誘導体(1)は、前
記方法のほか、化合物(とヒドロキシアミンおよびチオ
シアン酸とを同時に反応させるか、あるいはまず化合物
(7)とヒドロキシアミンとを反応させ次いでチオシア
ン酸とを反応させることによつても製造することができ
る。
化合物)にヒドロキシアミンおよびチオシアン酸を同時
に反応さる場合、あるいはヒドロキシアミン次いでチオ
シアン酸を反応させる場合、共に同じ反応条件下に行な
うことができる。用いられる溶媒としては、たとえば化
合物()とヒドロキシルアミンとの反応で用いられるも
のなどが好ましい。また、反応温度。時間,PH,その
他の反応条件は、化合物(4)とヒドロキシルアミンと
の反応で記載したごとき反応条件が好ましい。得られる
目的物(1)は、前記のごとき公知の手段により単離,
精製することができる。かくのごとくして得られる目的
物(1)の代表例としては、たとえば3−(5−アミノ
−1。
3,4−チアジアゾール一2−イル)−Jヨ黶k2−(2
−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イノ
(ハ)アセタミド〕−3−セフエム一4−カルボン酸ナ
トリウム,3−(5−アセチルアミノ−1,3,4−チ
アジアゾル一2−イル)−Jヨ■■ ゾリン−4−イル)アセトアミド〕−3−セフエム一4
−カルボン酸ナトリウム,3−(5−メチル−1,3,
4−チアジアゾル一2−イル)−J■■アゾリン−4−
イル)アセタミド〕−3−セフエム一4−カルボン酸ナ
トリウム,3−(1,3,4−チアジアゾル一2−イル
)−Jヨ黶k2−(2ーイミノ−3−ヒドロキシ−4−チ
アゾリン−4ーイル)アセタミド〕−3−セフエム一4
−カルボン酸ナトリウム,3−(5−ジメチルアミノ−
1,3,4−チアジアゾル一2−イノリーJヨ黶k〔2−
(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−
イル)アセタミド〕−3−セフエムー4−カルボン酸ナ
トリウム,3−(5−N−アセチル−N−メチルアミノ
−1,3,4−チアジアゾル一2−イル)7一〔2−(
2−イミノ−3一ヒドロキシ一4−チアゾリン−4−イ
ル)アセタミド〕−3−セフエム一4−カルボン酸ナト
リウム,3−(5−フエニル一1,3,4−チアジアゾ
ル一2−イノリーJヨ黶k2−(2−イミノ−3−ヒドロ
キシ−4−チアゾリン−4−イル)アセタミド〕−3−
セフエム一4−カルボン酸ナトリウム,3−(5−メチ
ルアミノ−1,3,4一チアジアゾル一2−イル)−J
ヨ黶k2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾ
リン−4−イル)アセタミド〕−3−セフエム一4−カ
ルボン酸ナトリウム,3−(5−ベンジルアミノ一1,
3,4−チアジアゾル一2−イル)−Jヨ黶k2−(2〒
イ″ミノ一3−ヒドロキシ−4−チアゾリンー4→・イ
ル)アセタミド〕−3−セフエム一4一カルボン酸ナト
リウムなどがある。
本発明目的物のセフアロスポリン誘導体(1)は、グラ
ム陰性及び陽性菌の広範囲に対して優れた抗菌力を有し
ており、特にグラム陰性菌のエシエリヒア●コリ7(E
scherichiacOli).クレiブジーラ.ニ
ユーモニアエ(Klebsiellapneu−MOn
iae),プロテウス●ブルガリスPrOteusvn
lgaris),プロテウス・ミラビリヌ(PrOte
usmirabilis),プロテウス.レツトゲリ(
PfO−Teusrettgeri),エンテo/イク
タ,クロアケアエ(EnterObaterclOac
ae)′シトロバクタ,フロインデイ(CitrOba
cterfreUr!Fiit)などの菌に対して優れ
た抗菌作用を有しており、さらにβ−ラタタマーゼ(セ
フアロスポリナーゼ)を保有し既知のセフアロスポリン
に対し抵抗性を有する前記の菌の変異株に対し特に顕著
な抗菌力を有している。
本発明のセフアロスポリン誘導体(1)は低毒性であり
、人および動物の上述の細菌による起炎性の疾患たとえ
ば化膿性疾患、呼吸器感染症、胆道感染症、腸内感染症
、尿路感染症および産婦人科感染症などの治療に安全な
治療剤として用いられる。セフアロスポリン誘導体(1
)は、公知のセフアロスポリン剤と同様、単独または生
理学的に使用可能な担体、賦形剤と共に、粉剤、固型剤
、液剤、懸濁剤等として、経口または非経口投与するこ
とができる。具体的には、上述の細菌に起因する疾患の
治療に、本願目的物(1)を成人1日Kg当り約5〜2
0WIIiを1日3〜4回に分割して筋肉注射により投
与するのがよい。実施例 1(1)ジケテン0.110
9のジクロルメタン2mi溶液を40℃に冷却、かきま
ぜながらこれに臭素0.224gのジクロルメタン7m
l溶液を徐々に加え、さらに冷却、撹拌を15分間続け
る。
別に、7ーアミノ一3−(5−N−アセチル−N−メチ
ルアミノ−1,3,4−チアジアゾル一2−イル)−3
−セフエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル0
.600f1のジクロルメタン25mi溶液を−60℃
に冷却、かきまぜておき、これに上記の反応溶液を徐々
に加える。ついで、この溶液にピリジン0.100f!
を、内温−60℃に保ちつ〜加える。氷冷下、30分間
かきまぜた後、冷水中に注ぎ入れ、有機溶媒層を分離す
る。水洗、乾燥し、溶媒を留去すると淡黄色の粉末0.
7649が得られる。これをN,N−ジメチルアセトア
ミド(=DMA)4miに溶解し、口タンカリウム0.
1009を加え、この溶液を室温で15時間かきまぜる
。反応液を冷水中に注ぎ入れ、水層を酢酸エチルで抽出
する。有機層を水洗、乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ一に付す。酢
酸エチルで溶出すると7一(4−チオシアナート−3−
オキソブチリルアミド)−3−(5−N−アセチル−N
−メチルアミノ−1,3,4−チアジアゾル一2ーイル
)−3−セフエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエス
テル0.580f!が得られる。IR翫{−1;215
0(−SCN),1785(β−ラクタム),1725
(エステル),1673(アミド)NMR(DMSO−
D6,ppm);2,40(S,COCH,),3,3
6(S,CH2−),3.54(S.CH,一),3.
95(S.CH2),3.86.4.10(ABq,J
=18Hz.C2−H),5.29(D,J:5Hz.
C,−H),5.88(Q,J=5.8Hz,C,−H
),6.80(S,−CHφ2),9.24(D,J=
8Hz,NH)(2) 7一(4−チオシアナート−3
−オキソブチリルアミド)−3−(5−N−アセチル−
Nーメチルアミノ−1.,3,4−チアジアゾル一2−
イル)−3−セフエム一4−カルボン酸ベンツヒドリル
エステル0.5309のDMA5ml溶液にヒドロキシ
ルアミン塩酸塩0.0569を加え、これを窒素ガス気
流中、60℃で2.5時間かきまぜる。
反応液に酢酸エチルを加え、分離する粉末を済取、これ
をくり返し水洗後、エチルエーテルで洗い乾燥すると7
一〔2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4
−イル)アセトアミド〕−3−N−アセチル−N−メチ
ルアミノ−1.3.4−チアジアゾル一2−イル)−3
−セフエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル0
.5009が得られる。 二IRVKBr品17
90(β−ラクタム),Maxl733(エステノ(へ
),1678(アミド)NMR(DMSO−D6,pp
m);2.40(S,COCH,),3.56(S,C
H,),3.61(S,−CH2),5.25(D,J
= 二5Hz,C6−H),5.91(D,J=5H
z,C7−H),6.71(SなH),6.79(S,
CHt2)(3) 7一〔2−(2−イミノ−3−ヒド
ロキシ−4−チアゾリン−4−イル)アセトアミド〕−
3−(5−N−アセチル−N−メチルアミノ−1,,3
,4−チアジアゾル一2−イル)−3ーセフエム一4−
カルボン酸ベンツヒドリルエステル0.400f!をア
ニソール2T1L1に懸濁し、氷θ下かきまぜながら、
これにトリフルオロ酢酸.5−を加える。
得られる均一な溶液を室温で20分間放置後、減圧下溶
媒を留去し、残留物をエーテルで洗う副られる粉.末を
メタノール5aと水3dとの溶液に懸濁し、氷冷下かき
まぜながら、これに1(f)炭酸水素ナトリウム水溶一
液を加えて、溶液のPHを7,0とする。メタノールを
減圧下留去後、水溶液をアンバーライトXAD−型歯脂
(ローム アンド ハース社製)のカラムクロマトグラ
フィ一に付す。水・ついで5%メタノール水溶液で展開
し、目的の生成物を含む分画液を集め、減圧濃縮してメ
タノールを留去後、濃縮液を凍結乾燥すると4−カルボ
ン酸ナトリウム塩0.285fIが得られる。IRVK
BrOln−1:1763(β−ラクタム)Maxl6
65(アミド),1608(カルボキシレート),NM
R(D2O,ppm):2.50(S,COCH,),
3,74(S,CH,),3.79(S,−CH2−)
,3.87,4.10(ABq,J:18Hz,C2−
H),5.32(D,J=5Hz,C,−H),5.8
4(D,J=5Hz,C,−H),6.76(S,αH
)た施例 21) 7一τミノ一3−(5−ジメチルア
ミノ−1,3,4−チアジアゾル一2−イル)−3−セ
フエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル0.2
5fIのジクロルメタン10d溶液を−50℃に冷却か
きまぜながら、これにω−ブロモアセトアセチルブロマ
イド0.17gのジクロルメタン5d溶液とトリエチル
アミン0.059とを徐々に加える。
さらに氷冷下30分間かきまぜてから、反応溶液を冷水
で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去後、残
留物にジエチルエーテルを加え、放置すると結晶化する
。これを済取すると7一(4−ブロモ−3−オキソブチ
リルアミド)−3−(5−ジメチルアミノー1,3,4
−チアジアゾル一2−イル)−3一セフエム一4−カル
ボン酸ベンツヒドリルエステル0.30gが得られる。
IRVKBr儂−1;1780(β−ラクタム)Max
l725(エステル),1665(アミド)NMR(D
MSO−D6,ppm):2.88(S,Me,),3
.68(S,−CH,一),3.85.4610(AB
q,J=18Hz,C2−H).4.39(S,BrC
H,一),5.28(D,J?5Hz,C6−H),5
.86(Q,J?5.8Hz,C,−H),6.83(
S,C廷φ, ),7.0〜7.5(M.フエニルH)
9.20(D,J−8Hz,NH) (2) 7一(4−ブロモ−3−オキソブチリルアミド
)−3−(5−ジメチルアミノ−1,3,4−チアジア
ゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カルボン酸ベン
ツヒドリルエステル0.28gをDMA2′IILIに
溶解し、口タンカリウム0.042gを加え、これを室
温で15時間かきまぜる。
反応液を冷水中に注ぎ入れ、水層を酢酸エチルで抽出す
る。有機層を水洗.乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ一に付す。テト
ラヒドロフラン一酢酸エチル(3:1)で溶出すると7
ー(4−チオシアナート−3−オキソブチリルアミド)
−3−(5−ジメチルアミノ−1,3,4−チアジアゾ
ル一2−イル)−3−セフエムー4−カルボン酸ベンツ
ヒドリルエステル0.21gが得られる。
IRVKBr傭−1;2140(SCN),Maxl7
8O(β−ラクタム),1730(エステル),166
0(アミド)NMR(DMSO−D,,ppm);2.
93(8,NMe2),3.36(S,−CH,一),
3.84.4.10(ABq,J?18Hz,C,一H
),3.95(S,−CH,一),5.28(D,J−
5Hz,C6−H),3.85(Q,J=5,8Hz,
C,−H),6.88(S,CH6),7.1〜7.5
(M,フエニルH),9.25(D,J=8Hz,NH
)(3) 7一(4−チオシアナート−3−オキソブチ
リルアミド)−3−(5−ジメチルアミノ−1,3,4
−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カル
ボン酸ベンツヒドリルエステル0.21gf)DMA3
d溶液にヒドロキシルアミン塩酸塩0.023gを加え
、これを60℃で2時間かきまぜる。
反応液を冷水中に注ぎ入れ、水層を酢酸エチルで抽出す
る。有機層を水洗、乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ一に付す。デト
ラヒドロフラン一酢酸エチル(3:1)で溶出すると7
一〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシー4−チアゾリ
ン−4−イル)アセトアミド〕一3−(5−ジメチルア
ミノ−1,3,4−チアジアゾル一2−イル)−3−セ
フエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル0.1
4gが得られる。IRνKBr?−1;1782(β−
ラクタム)Maxl72l(エステル).1675(ア
ミド)NMR(DMSO−D6,ppm):2.94(
S,NMe2),3.62(S.CH,−),3.78
.4.00(ABq.J=18Hz.C2−H).5.
23(D.J=5Hz.C,−H),5.88(Q,J
=5,9Hz,C,−H),6.70(S,ユ0),6
.86(S,一CHZ2),7.1〜7.5(M。
フエニルH),11.18(D,J?9Hz,NH)i
)(3)で得られる4−カルボン酸ベンツヒドリルエス
テル体0.14gをアニソールaに懸濁し、氷冷下、か
きまぜながら、これにトリフルオロ酢酸2dを加える。
この反応液を室温で30分間放置後、減圧下溶媒を留去
し、残留物をエーテルでくり返し洗うと7一〔2−イミ
ノ−3ーヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イル)アセ
トアミド〕−3−(5−ジメチルアミノ−1,3.4−
チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カルボ
ン酸のトリフルオロ酢酸塩0.071gが得られる。
IRVKBrC!IL−1 :1780(β−ラクタM
axム),1672(アミド) NMR(DMSO−D6,ppm);3.11(S,N
Me,),3.67.3.82(ABq,J=18Hz
,C2−H),3,70(S,−CH2−),5.13
(D,J=5Hz,C6−H),5.79(Q,J=5
.9Hz,C,−H),SH6.82(S,) 実施例 35 (1) 7ーアミノ一3−(5−メチル−1,3,4−
チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カルボ
ン酸ベンツヒドリルエステル0.232gのジクロルメ
タン1077!/溶液を−50℃に冷却かきまぜながら
、これにω−プロ 1(モアセトアセチルプロマイド0
.17gのジクロルメタン5d溶液とピルジン0.04
5gとを徐々に加える。
さらに氷冷下で30分間かきまぜてから、反応溶液を冷
水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去後、
残留物をDMA2l;aに溶解し、口タンカリウム0.
0429を加え、これを室温で17時間かきまぜる。つ
いで、ヒドロキシルアミン塩酸塩0.0359を加え、
これを60℃で2時間かきまぜる。反応液を冷水中に注
ぎ入れ、水層を酢酸エチルで抽出する。 21抽出液を
水洗.乾燥後、減圧下溶媒を留去し、残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイ一に付す。テトラヒドロフラ
ンージタロルメタン(1:1)溶媒で溶出すると7一〔
2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−
42ーーイノ(ハ)アセトアミド〕−3−(5−メチル
−1,3,4−チアジアゾル一2−イル)−3ーセフエ
ム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル0.131
f!が得られる。IRVKBr(Xn?1;1790(
β−ラクタ 3maxム),1730(エステル),1
670(アミド)NMR(DMSO−D6,ppm);
2.52(S,CH,−),3.60(S,CH2−)
,3.90.4.09(ABq,J=18Hz,C2−
H),35.30(D,J=5Hz,C6−H),5.
88(Q,J=5.9Hz,C,−H),6.70(S
,l辻),6.86(S.C廷φ2),7.1〜7.5
(M.フエニルH),11.02(D,J=9Hz,N
H) 4(2)(1)で得ら
れる4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル体0.10
gをアニソール1dに懸濁し、氷冷下,かきまぜながら
、これにトリフルオロ酢酸21fL1を加える。
この反応液を室温で30分間放置置後、減圧下溶媒を留
去し、残留物をエーテルでくり返し洗うと7一〔2−(
2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イ
ル)アセトアミド〕−3−(5−メチル−1,3,4−
チァジアゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カルボ
ン酸のトリフルオロ酢酸塩0.70gが得られる。IR
νKBr(::!n−1:1778(β−ラクタMax
ム),1670(アミド) ミ施例 4 リ 実施例3の(1)に於て、7一fミノ一3−(5−
メチル−1,3,4−チアジアゾル一2−イル)−3−
セフエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエステルの代
わりに、7ーアミノ一3一(5−フエニル一1,3,4
−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カル
ボン酸ベンツヒドリルエステル0.263gを用い゛C
1同様の操作を行ない、得られる粗生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフイ一に付し、テトラヒドロフラン
一酢酸エチル(3:1)溶媒で溶出すると7一〔2−(
2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イ
ル)アセトアミド〕−3−(5−フエニル一1,3,4
−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カル
ボン酸ベンツヒドリルエステル0.128gが得られる
IRVKBrCIIL−1 ;1785(β−ラクタM
axム),1728(エステル),1675(アミド)
NMR(DMSO−D6.ppm);3.65(S.C
H2−),3.72.4.03(ABq.J=18Hz
,C2−R),5.25(D,J−5Hz,C6−H)
5.88(Q.J=9Hz,C,−H),6.69(S
,y辻),6.87(S.−Cllφ,),7.1〜7
.5(M,フエニルH)2) (1)で得られる4−カ
ルボン酸ベンツヒドリルエステル体0.128g,アニ
ゾール1dおよびトリフルオロ酢酸21!11の混合物
を実施例3の(2)で述べた方法に従い処理すると7一
〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン
−4−イル)アセトアミド〕−3−(5−フエニル一1
,3,4−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一
4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩0.090gが得
られる。
νKBrC!IL−1;1778(β−ブクタMaxム
),1675(アミド) 実施例 5 (1) 7ーアミノ一3−(5−アセチルアミノ−1,
53,4−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一
4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル0.35gのジ
グ的レメタン20mt溶液を−50℃に冷却かきまぜな
がら、これにω−プロモアセトアセチルプロマイド0.
22gのジクロルメ 10タン4.4d溶液、ついでピ
リジン0.061gのジクロルメタン溶液5dを徐々に
加える。
さらに、氷冷下30分間かきまぜてから、反応溶液を食
塩水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去すると
、淡黄色粉末状の7一(4−プロ15モー3−オキソブ
チリルアミド)−3−(5−アセチルアミノ−1,3,
4−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カ
ルボン酸ベンツヒドリルエステルが0.413g得られ
る。νKBrC!FL−1 ;1783(β−ラクタ2
0maxム),1723(エステル) NMR(DMSO−D,,ppm):2.18(S,C
OCH,),3.67(S,COCH,CO),3.8
8.4.12(ABq,J=18Hz,C,−H),4
.40(S,BrCH,−), 255.29(D,
J=5Hz,C6−H).5.88(Q,J畠5.8H
z,C,−H),6.81(E,C廷φ,),7.0〜
7.5(M,フエニルH),9.19(D,J?8Hz
,NH),12.4(Br.S.−NUCOCH,)
30(2) 7一(4−プロモー3−オキソ
ブチリルアミド)−3−(5−アセチルアミノ−1,3
,4一チアジアゾル一2−イリ(ハ)−3−セフエム一
4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル0.37gをD
MA5dに溶解し、口タンカリウム 350・049
gを加え、これを室温で18時間かきまぜるOついで、
ヒドロキシルアミン塩酸塩0.042gを加え、これを
60℃で3時間かきまぜる。
反応液を冷水中に注き入れ、水層を酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後、菊減圧下溶媒を留去すると
7一〔2−イミノ−3ーヒドロキシ−4−チアゾリン−
4−イル)アセトアミド〕−3−(5−アセチルアミノ
−1,3,4−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエ
ム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル0.10g
が得られる。IRVKBrCfIL−1 ;1786(
β−ラクタMaxム),1725(エステル),169
0,1670(アミド) NMR(DMSO−D6,ppm):2.18(S,C
OCH,),3.67(S,−CH,一),3.86.
4.08(ABq,J?18Hz,C2−H),5.2
7(D,J−5Hz,C,−H).5.88(Q.J−
5.8Hz,C,−H)6.77(S,)楚),6.8
0(S.CHφ,).7.0〜7.4(M.フエニルH
).12.4(Br.S.−NH)3)(2)で得られ
る4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル体0.05g
をアニソール1dに懸濁し、氷冷下かきまぜながら、こ
れにトリフルオロ酢酸2dを加える。
この反応液を室温で20分間放置後、減圧下溶媒を留去
し、残留物をエーテルでくり返し洗うと淡黄色粉末が得
られる。これを0.1%炭酸水素ナトリウム水溶液に溶
かし(溶液はPH6.5を示す)、その溶液をアンバー
ライトXAD一川型樹脂のカラムクロマトグラフイ一に
付す。水で展開した後、5%メタノール水溶液で展開す
る。P的の生成物を含む分画液を集め、減圧濃縮してメ
タノールを留去し、濃縮液を凍結乾燥すると7一〔2−
(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−
イル)アセトアミド〕−3−(5−アセチルアミノ−1
,3,4−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一
4−カルボン酸ナトリウム塩0.025gが得られる。
KBr−1 1RVCl!L :1763(β−ラクタMaxム)
,1690,1670(アミド). 1603(カルボキシレート) NMR(D2O,ppm):2.34(S,COCH,
),3.78(S,8) −),S23−CH23.
89.4.ll(ABq,J=18Hz,C2一H),
5.31(D,J?5Hz,C6−H),5.83(D
,J?5Hz,C,−H),6.75(S,y見)二施
例 6 1) 7ーアミノ一3−(5−アセチルアミノ−13,
4−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カ
ルボン酸5.00gとトリエチルアミン1.0gとをジ
クロルメタン80dに溶解し、−50℃に冷却かきまぜ
ながら、これにω−プロモアセトアセチルプロマイド3
.2gのジクロルメタン20m1!溶液、ついでピリジ
ン0.8gのジクロルメタン2a溶液を徐々に加える。
氷冷 !下1時間かさまぜてから、減圧下溶媒を留去し
、残留分に酢酸エチル100TILIと5%リン酸10
0aとを加え激しくふりまぜる。水層は食塩を飽和し、
さらに酢酸エチルで2回抽出後、酢酸エチル層を合し、
飽和食塩水で洗浄する。乾燥後、活性炭処理し、減圧下
溶媒を留去すると7一(4−プロモー3−オキソブチリ
ルアミド)−3−(5−アセチルアミノ−1,3,4ー
チアジルゾル一2−イノリ一3−セフエム一4−カルボ
ン酸5.3gが得られる。IRKBr(1−JモV!−1
;1780(β−ラクタMaxム) NMR(DMSO−D6,ppm);2.17(S,C
OCH,),3.62(S,COCH2CO),3.7
0.4.02(ABq,J=18Hz,二C2−H),
4.37(S,BrC廷,−),5.10(D,J85
Hz.C6−H),5.68(Q,8Hz,C,−H)
,9.04(D,J=8Hz,NH),12.1(Br
,S,NHCOCH,) (2) 7一(4−プロモー3−オキソブチリルアミド
)−3−(5−アセチルアミノ−1,3,4ーチアジア
ゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カルボン酸3.
3g,口タンカリウム0.59gおよびDMA3Odの
混合物を室温で20時間かきまぜる。
ついでヒドロキシルアミン塩酸塩0.42gを加え、こ
れを50℃で4時間かきまぜる。反応液にエーテルを加
え、析出物をか離し、析出物はさらに酢酸エチルで洗う
。得られる淡黄色粉末を炭酸水素ナトリウム水溶液に溶
かし(溶液はPH6.5を示す)、その溶液をXAD−
型樹脂のカラムクロマトグラフイ一に付す。水、ついで
5%メタノール水溶液で溶出すると7一〔2−(2−イ
ミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イル)ア
セトアミド〕−3−(5−アセチルアミノ−1,3,4
ーチアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カル
ボン酸ナトリウム塩0.92gが得られる。実施例 7 (1)実施例6−(1)の方法に準じて、7ーアミノ一
3−(5−N−アセチル−N−メチルアミノ−1,3,
4−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カ
ルボン酸とω−プロモアセトアセチルプロマイドとを反
応させると、7一((4−プロモー3−オキソブチリル
アミド)一3−(5−N−アセチル−N−メチルアミノ
−1,3,4−チアジルゾル一2−イル)−3ーセフエ
ム一4−カルボン酸が得られる。
IRVKBr?−1;1780(β−ラクタム)Max
NMR(DMSO−D6,ppm);2.36(S,C
OCH,),3.64(S,−CH2−)3.52(S
,CH,−),3.75,4.07(ABq,J=18
Hz,C2−H),4.38(S,BrCH2−),5
.11(D,J:4Hz)5.70(Q,J=4.8H
z,C,−H),9.10(D,J−8Hz,NH)(
2)実施例6−(2)の方法に準じて7一(4−プカモ
一3−オキソブチリルアミド)−3−(5−N−アセチ
ル−N−メチルアミノ−1.3.4−チアジアゾル一2
−イル)−3−セフエム一4−カルボン酸に口タンカリ
ウム、ついでヒドロキシルアミン塩酸塩を反応させると
7一〔2(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4−チアゾリ
ン−4ーイル)アセトアミド〕−3−(5−N−アセチ
ル−N−メナルアミノ一1.3.4−チアジアゾル一2
−イル)−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム塩
が得られる。
実施例 8 (1)実施例3−(1)の方法に準じて、7ーアミノ一
3−(5−メチルアミノ−1.3.4−チアジアゾル一
2−イル)−3−セフエム一4−カルボン酸ベンツヒド
リルエステルにω−プロモアセトアセチルプロマイド,
口タンカリウム,ついでヒドロキシルアミノ塩酸塩を反
応させると、7ー〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ
−4−チアゾリン−4−1ル)アセトアミド〕−3一(
5−メチルアミノ−1.3.4−チアジアゾル一2−イ
ル)−3−セフエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエ
ステルが得られる。
IRVKBrCm−1;1785(β−ラクタMaxム
),1723(エステル),1676(アミド)NMR
(DMSO−D,,ppm):2.79(S,CH,−
),3.63(S,CH2→,3.82.4.01(A
Bq,J−18Hz,C,一H),5.25(D,J?
5Hz,C6−H),5.90(Q,J?5.8Hz,
C,−H),6.73(8,h廷),6.81(S,−
CUφ2),7.0〜7.5(M,フエニルH),11
.28(D,J?8Hz,NH)(2)(1)で得られ
る4−カルボン酸ベンツヒドリルエステル体を、実施例
1−(3)の方法に準じて、トリフルオロ酢酸と反応さ
せ、精製すると7一〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキ
シ−4−チアゾリン−4−イル)アセトアミド〕−3一
(5−メチルアミノ−1.3.4−チアジアゾル一2−
イル)−3−セフエム一4−カルボン酸ナトリウム塩が
得られる。
IRVKn:SCIL−1;1765(β−ラクタム)
1668(アミド),1606(カルボキシレト)NM
R(D2O,ppm):2.92(S,」CH,一),
3.80(S,−CH,→,3.86,4.10(AB
q,Jml8Hz,C,H),5.33(D,J虞4H
z,C,−H),5.84(D,J?4Hz,C,−H
),6.77(S,ユ0) 実施例 9 実施例3−(1)の方法に準じて、7ーアミノ一3一(
5−モルホリノ−1.゛3.4−チアジアゾル一2ーイ
ル)−3−セフエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエ
ステルにω−プロモアアトアセチルブ、ロマイド.口タ
ンカリウム,ついでヒドロキシルアミン塩酸塩を反応さ
せて得られる7一〔2一(2−イミノ−3−ヒドロキシ
−4−チアゾリン−4−イル)アセトアミド〕−3−(
5−モルホリノ−1.3.4−チアジアゾル一2−イル
)−3−セフエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエス
テルを、実施例1−(3)の方法に準じて、トリフルオ
口酢酸と反応させ、精製すると7一〔2−(2−イミノ
−3−ヒドロキシ−4−チアゾリン−4−イル)アセト
アミド〕−3−(5−モルホリノ−1.3.4−チアジ
アゾル一2−イル)−3−セフエム一4−カルボン酸ナ
トリウム塩が得られる。
RV二:ζ−1;1767(β−ラクタム),1664
(アミド),1602(カルボキシレート)NMR(D
2O,ppm);3.4〜3.9(M,モルホリノH)
,3.77(S,CH2−),3.84.4.15(A
Bq,J−18Hz,C2−H),5.29(D,J=
4Hz,C6−H),5.80(D,J=4Hz,C,
−H),6.74(S,.5.迭)実施例 10 実施例9で述べた方法に準じて、7ーアミノ一3−(5
−ベンジルアミノ一1.3,4−チアジアゾル一2−イ
ル)−3−セフエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエ
ステルにω−ブロモアセトアセチルブロマイド,口タン
カリウム,ヒドロキシルアミン塩酸塩の順に反応させて
得られる7一〔2−(2−イミノ−3−ヒドロキシ−4
−チアゾリン−4−イル)アセトアミド〕−3−(5−
ベンジルアミノ一1.3.4−チアジアゾル一2−イル
)−3−セフエム一4−カルボン酸ベンツヒドリルエス
テルを、トリフルオロ酢酸と反応させ、精製すると7一
〔2−イミノ−3−ヒドロキシ−4ーチアゾリン−4−
イル)アセトアミド〕−3一(5−ベンジルアミノ一1
.3.4−チアジアゾル一2−イル)−3−セフエム一
4−カルボン酸ナトリウム塩が得られる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は水素を、−COOR^2はエステル化
    されていてもよいカルボキシル基を、Bは水素、アルキ
    ル、アラルキル、アリールまたは式−▲数式、化学式、
    表等があります▼(R^3,R^4は同一または異なつ
    て、水素、アルキル、アシル、アラキルまたは隣接する
    窒素原子と共に異項環基を形成していてもよい)で表わ
    される基を示す。 〕で表わされるセフアロスポリン誘導体。2 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は水素を、−COOR^2はエステル化
    されていてもよいカルボキシル基を、Bは水素、アルキ
    ル、アラルキル、アリールまたは式−▲数式、化学式、
    表等があります▼(R^3,R^4は同一または異なつ
    て、水素、、アルキル、アシル、アラキルまたは隣接す
    る窒素原子と共に異項環基を形成していてもよい)で表
    わされる基を示す。 〕で表わされる化合物とヒドロキシルアミンとを反応さ
    せることを特徴とする、一般式▲数式、化学式、表等が
    あります▼ 〔式中の記号は前記と同意義。 〕で表わされるセフアロスポリン誘導体の製造方法。
JP9094276A 1976-07-29 1976-07-29 セフアロスポリン誘導体及びその製造方法 Expired JPS5953918B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9094276A JPS5953918B2 (ja) 1976-07-29 1976-07-29 セフアロスポリン誘導体及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9094276A JPS5953918B2 (ja) 1976-07-29 1976-07-29 セフアロスポリン誘導体及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5315395A JPS5315395A (en) 1978-02-13
JPS5953918B2 true JPS5953918B2 (ja) 1984-12-27

Family

ID=14012497

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9094276A Expired JPS5953918B2 (ja) 1976-07-29 1976-07-29 セフアロスポリン誘導体及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5953918B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4547371A (en) * 1983-04-18 1985-10-15 Merck & Co., Inc. Substituted cephalosporin sulfones as anti-inflammatory and anti-degenerative agents
US5132301A (en) * 1983-05-02 1992-07-21 Merck & Co., Inc. Substituted cephalosporin sulfones as anti-inflammatory and anti-degenerative agents

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5315395A (en) 1978-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4264595A (en) 7-[2-(2-Imino-4-thiazolin-4-yl)-2-(syn)-hydroxy-iminoacetamido]-cephalosporins
US4517361A (en) Cephalosporin derivatives
GB1599722A (en) Cephalosporin derivatives
US4065620A (en) 3-(Substituted) vinyl cephalosporins
US3674784A (en) 3-formyl cephalosporin sulfoxides
US5081116A (en) Cephalosporin derivatives
US3956292A (en) 7-(α-FUROYLUREIDOARYL AND CYCLOHEXADIENYLACETAMIDO) CEPHALOSPORIN ANTIBIOTICS
US4382931A (en) 3'-Substituted quinolinium cephalosporins
US4388316A (en) Amino-substituted oxazole, oxadiazole and isoxazole-substituted cephalosporins
JPH04225985A (ja) セフアロスポリン化合物
JPS5953918B2 (ja) セフアロスポリン誘導体及びその製造方法
US4446318A (en) Method for producing 7-aminocephem compounds
JPS5919114B2 (ja) セフアロスポリンの製造法
US4358448A (en) N-substituted thiazolyl derivatives of oxy-imino-substituted cephalosporins useful as anti-bacterial agents
US3766177A (en) Certain delta-3 cephalosporin compounds
US4179502A (en) 7[2-Hydroxyiminoacetamido]cephalosporins
JPH04334387A (ja) セフアロスポリン誘導体
JPS6129957B2 (ja)
US4107440A (en) Intermediates for preparing substituted phenylglycylcephalosporins
JP2567799B2 (ja) カルボキシアルケン酸及びその誘導体
GB1584861A (en) Cephalosporin compounds
EP0006011B1 (en) Cephalosporins and pharmaceutical compositions containing them
JPS5946237B2 (ja) セフアロスポリン誘導体およびその製造法
CA2013226C (en) Cephalosporin derivatives and processes for their preparation
US4963542A (en) Cephalosporin derivatives