JPS595720A - 酸化亜鉛薄膜の電極構造 - Google Patents
酸化亜鉛薄膜の電極構造Info
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- JPS595720A JPS595720A JP57114445A JP11444582A JPS595720A JP S595720 A JPS595720 A JP S595720A JP 57114445 A JP57114445 A JP 57114445A JP 11444582 A JP11444582 A JP 11444582A JP S595720 A JPS595720 A JP S595720A
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
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- H03H9/13—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials
- H03H9/131—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials consisting of a multilayered structure
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10N30/06—Forming electrodes or interconnections, e.g. leads or terminals
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- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は安定な特性を示す酸化亜鉛薄膜の電極構造に
関する。
関する。
酸化亜鉛薄膜は弾性表面波装置、音叉振動子、音片振動
子などの圧電体として使用されている。
子などの圧電体として使用されている。
この酸化亜鉛薄膜の使用例を音叉振動子にもとづいて説
明する。
明する。
第1図は音叉振動子の一例を°示す側面図である。
図において、1は音叉振動子の本体、2.3はこの本体
1の脚部を示し、脚部2.3の側壁2a 。
1の脚部を示し、脚部2.3の側壁2a 。
3aには酸化亜鉛薄膜4.5が形成されている。
この酸化亜鉛11114.5は真空蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンブレーティング法などにより形成される
。6.7は酸化亜鉛Ill 4.5の上に形成されたC
r−Au系またはTi−Au系からなる電極を示す。
ング法、イオンブレーティング法などにより形成される
。6.7は酸化亜鉛Ill 4.5の上に形成されたC
r−Au系またはTi−Au系からなる電極を示す。
この電極6.1は第2図にその詳細な構造を示すように
、第1層電極8としてcrまたはTi1第2層電極9と
してAUからなるものが用いられていた。ここでCr、
Tiは密着性を向上させるためのものであり、またAL
Jはワイヤボンディングや半田付けができるように選ば
れたものであ′る。
、第1層電極8としてcrまたはTi1第2層電極9と
してAUからなるものが用いられていた。ここでCr、
Tiは密着性を向上させるためのものであり、またAL
Jはワイヤボンディングや半田付けができるように選ば
れたものであ′る。
図示したほか、Cr−Au系電極としてはCr−Auの
ほか、Cr−Pt−Au、Cr−Pd −AuScr−
Ni−Au、Cr−Cu−N +−Au1cr−cu−
711uなどがあり、またTi−AU系電極としてはT
i−Auのほが、Ti−Cu−Au、’T(−Pt−A
uSTi−Pd−Auなどがある。上記した電極構成の
うち、TiまたはOrハ200〜5ooA1Auハ3o
oo〜5ooo人)膜厚の範囲に抵抗加熱法、電子ビー
ム蒸着法などにより形成される。
ほか、Cr−Pt−Au、Cr−Pd −AuScr−
Ni−Au、Cr−Cu−N +−Au1cr−cu−
711uなどがあり、またTi−AU系電極としてはT
i−Auのほが、Ti−Cu−Au、’T(−Pt−A
uSTi−Pd−Auなどがある。上記した電極構成の
うち、TiまたはOrハ200〜5ooA1Auハ3o
oo〜5ooo人)膜厚の範囲に抵抗加熱法、電子ビー
ム蒸着法などにより形成される。
しかしながら、上記したような酸化亜鉛薄膜の電極構造
では次のような欠点が見られた。つまり、第1層電極の
T’i、Qrが高い親和性を示すため、酸化亜鉛1膜中
にTiまたはCrが拡散するか、酸化亜鉛から酸素を奪
い、酸化亜鉛薄膜の電気的特性、たとえば振動周波数を
大きく変化させるという現象が認められた。また高温負
荷寿命試験を行うと、さらに上記した現象が促進され、
電気的特性の劣化が一層大きなものとなった。
では次のような欠点が見られた。つまり、第1層電極の
T’i、Qrが高い親和性を示すため、酸化亜鉛1膜中
にTiまたはCrが拡散するか、酸化亜鉛から酸素を奪
い、酸化亜鉛薄膜の電気的特性、たとえば振動周波数を
大きく変化させるという現象が認められた。また高温負
荷寿命試験を行うと、さらに上記した現象が促進され、
電気的特性の劣化が一層大きなものとなった。
このほか、電極6j@T i −A u系電極またはC
r−Au系電極の変わりにへρ電極とする構成例もある
。
r−Au系電極の変わりにへρ電極とする構成例もある
。
このへρ電極は安価でボンディングを行いやすいという
観点から選ばれたものであるが、へρ電極そのものにも
次にような欠点が見られる。
観点から選ばれたものであるが、へρ電極そのものにも
次にような欠点が見られる。
つまり、へρ電極そのもので高い親和性を示すため、酸
化亜鉛薄膜中に八ρが拡散し、電気的特性が劣化すると
いう欠点がある。すなわち、2価の半導体である酸化亜
鉛に3価であるAuが拡散することによって、酸化亜鉛
薄膜の電気的特性、たとえば振動周波数を大きく変化さ
せるという現象が認められた。また高温負荷寿命試験を
行うと、さらに上記した現象が促進され、Ti−Au系
電極またはOr−、A、u系電極にくらべて、電気的特
性の劣化がさらに一層大きなものとなった。
化亜鉛薄膜中に八ρが拡散し、電気的特性が劣化すると
いう欠点がある。すなわち、2価の半導体である酸化亜
鉛に3価であるAuが拡散することによって、酸化亜鉛
薄膜の電気的特性、たとえば振動周波数を大きく変化さ
せるという現象が認められた。また高温負荷寿命試験を
行うと、さらに上記した現象が促進され、Ti−Au系
電極またはOr−、A、u系電極にくらべて、電気的特
性の劣化がさらに一層大きなものとなった。
したがって、酸化亜鉛薄膜を形成するに当っては、電極
を含めた構成全体について考慮する必要があり、従来の
電極構成にさらに改良を施さなければならなかった。
を含めた構成全体について考慮する必要があり、従来の
電極構成にさらに改良を施さなければならなかった。
この発明はかかる背景からなされたものであり、安定な
特性を示す酸化亜鉛薄膜の電極構造を提供することを目
的とする。
特性を示す酸化亜鉛薄膜の電極構造を提供することを目
的とする。
以下この発明を実施例にもとづいて詳細に説明する。
第3図はこの発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電極構造を音
叉振動子に適用した例を示す側面図である。
叉振動子に適用した例を示す側面図である。
11はエリンバなどからなる金属音叉、12は酸化亜鉛
薄膜、13は5no2層、14は電極である。このうち
SnO2層13は電子ビーム法、スパッタリング法、イ
オンビーム法、抵抗加熱蒸着法などによって形成される
。また5n02層13には抵抗値。
薄膜、13は5no2層、14は電極である。このうち
SnO2層13は電子ビーム法、スパッタリング法、イ
オンビーム法、抵抗加熱蒸着法などによって形成される
。また5n02層13には抵抗値。
調整のためにsbを少壷含むことも許される。
第4図は屈曲振動モードの音片振動子にこの発明にかか
る酸化亜鉛薄膜の電極構造を適用した例を示した斜視図
である。
る酸化亜鉛薄膜の電極構造を適用した例を示した斜視図
である。
図において、21は振動子本体を示し、振動子22とこ
れを支持部24で支持している枠体23から構成されて
いる。25は酸化亜鉛l!Illで振動子22の表面に
形成されている。26は酸化亜鉛薄膜25の上に形成さ
れたSnO2層、27はSnO2層26の上に形成され
た電極である。
れを支持部24で支持している枠体23から構成されて
いる。25は酸化亜鉛l!Illで振動子22の表面に
形成されている。26は酸化亜鉛薄膜25の上に形成さ
れたSnO2層、27はSnO2層26の上に形成され
た電極である。
第5図は同じくこの発明を他の屈曲振動モードの振動子
に適用した例の側面図である。
に適用した例の側面図である。
図において、31はセラミクス、プラスチック、ゴムな
どの基板、この基板31表面には、電極32、−8nO
2層33、酸化亜鉛1躾34.3n02層35、および
電極36が順次形成されている。
どの基板、この基板31表面には、電極32、−8nO
2層33、酸化亜鉛1躾34.3n02層35、および
電極36が順次形成されている。
第6図は同じくこの発明を拡がり振動モードの振動子に
適用した例を示す側面図である。
適用した例を示す側面図である。
図において、41は酸化亜鉛薄膜、42は酸化亜鉛J1
141(7)両面に形成されたSnO2層、43はSn
O2層42の上に形成された電極である。
141(7)両面に形成されたSnO2層、43はSn
O2層42の上に形成された電極である。
第7図は同じくこの発明を厚み振動モードの振動子に適
用した例を示す側面図である。
用した例を示す側面図である。
図において、51は3i、SiO2などからなる基板、
基板51の上には電極52、SnO2層53が順次形成
されている。さらにSnO2層53の上には酸化亜鉛薄
膜54が形成されている。この酸化亜鉛薄膜54が形成
されている位置に相当する基板51には空部51aが形
成されている。酸化亜鉛薄膜54の上には5nO211
55、および電極56が順次積層して形成されている。
基板51の上には電極52、SnO2層53が順次形成
されている。さらにSnO2層53の上には酸化亜鉛薄
膜54が形成されている。この酸化亜鉛薄膜54が形成
されている位置に相当する基板51には空部51aが形
成されている。酸化亜鉛薄膜54の上には5nO211
55、および電極56が順次積層して形成されている。
次に具体的な実施例として、第3図に示した音叉振動子
についてこの発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電極構造を適
用した例を説明する。
についてこの発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電極構造を適
用した例を説明する。
第3図を参照して説明すれば、振動子11の上にスパッ
タリング法により酸化亜鉛薄膜12を形成し、その上に
5b203.’ニーを3〜7モル%含んだ5n02層、
13をスパッタリング法により5000Aの厚みで形成
し、さらにその上にTiが300A、AUが3oooA
の厚みからなるTi−Au系電極14を電子ビーム法に
より形成した。このようにして振動周波数32KHzの
振動子を作成した。
タリング法により酸化亜鉛薄膜12を形成し、その上に
5b203.’ニーを3〜7モル%含んだ5n02層、
13をスパッタリング法により5000Aの厚みで形成
し、さらにその上にTiが300A、AUが3oooA
の厚みからなるTi−Au系電極14を電子ビーム法に
より形成した。このようにして振動周波数32KHzの
振動子を作成した。
この振動子に直流電圧20Vを印加し、100℃の温度
にi oooo時間放置した。このときの振動周波数の
経時変化特性を試料数20個について測定したところ第
8図に示すような結果が得られた。図中実線はこの実施
例によるものである。また破線は従来例のTi−Au系
電極のみからなるものについて、同様にして測定した結
果を示したものである。この振動周波数の経時変化特性
(ΔF/Fo)また、絶縁抵抗(IR)および直列共振
抵抗(Ro )についてもそれぞれ同様に測定し、その
結果を第9図、第10図にそれぞれ示した。なお、IR
については測定電圧10Vにて測定した値である。
にi oooo時間放置した。このときの振動周波数の
経時変化特性を試料数20個について測定したところ第
8図に示すような結果が得られた。図中実線はこの実施
例によるものである。また破線は従来例のTi−Au系
電極のみからなるものについて、同様にして測定した結
果を示したものである。この振動周波数の経時変化特性
(ΔF/Fo)また、絶縁抵抗(IR)および直列共振
抵抗(Ro )についてもそれぞれ同様に測定し、その
結果を第9図、第10図にそれぞれ示した。なお、IR
については測定電圧10Vにて測定した値である。
第8図〜第10図から明らかなように、この発明にかか
るものは、振動周波数、IRについては従来例にくらべ
て経時変化が小さく、Roについては従来例にくらべて
小さな値を示している。
るものは、振動周波数、IRについては従来例にくらべ
て経時変化が小さく、Roについては従来例にくらべて
小さな値を示している。
ここでIR,Roを測定したのは次のような理由による
。
。
まず、酸化亜鉛薄膜についてその等両回路を示せば第1
1図のようになる。図中、Cdは並列容量を示し、酸化
亜鉛薄膜をコンデンサとして考えた場合の静電容量に近
い値である。Roは直列共振抵抗、Coは等価容聞、L
oは等価インダクタンスである。またIRは酸化亜鉛薄
膜の絶縁抵抗である。
1図のようになる。図中、Cdは並列容量を示し、酸化
亜鉛薄膜をコンデンサとして考えた場合の静電容量に近
い値である。Roは直列共振抵抗、Coは等価容聞、L
oは等価インダクタンスである。またIRは酸化亜鉛薄
膜の絶縁抵抗である。
ここで、酸化亜鉛薄膜のIRは圧電体としての特性を備
える上で高い値を示すことが必要とされることから、I
Rの劣化が生じることは不都合なこととされている。と
ころが、第9図から明らかなように、この発明の実施例
によれば、従来のものにくらべてIRの低下が小さくな
っており、実用上有用な酸化亜鉛WI!Ilの電極構造
であると云える。
える上で高い値を示すことが必要とされることから、I
Rの劣化が生じることは不都合なこととされている。と
ころが、第9図から明らかなように、この発明の実施例
によれば、従来のものにくらべてIRの低下が小さくな
っており、実用上有用な酸化亜鉛WI!Ilの電極構造
であると云える。
また、この発明の実施例によれば、ROは小さな値を示
している。このRoは第12図に示したインピーダンス
と周波数の関係から、直列共振周波数(So)に対応し
、このRoが大きくなれば発振に大きな増幅度が必要と
なり、発振条件の低下をもたらすことになることが伺え
る。したがってRoの値の小さなこの発明のものによれ
ばかかる問題がなく、高温負荷の条件においても実用1
土適用しても同様の効果が得られることを確認した。
している。このRoは第12図に示したインピーダンス
と周波数の関係から、直列共振周波数(So)に対応し
、このRoが大きくなれば発振に大きな増幅度が必要と
なり、発振条件の低下をもたらすことになることが伺え
る。したがってRoの値の小さなこの発明のものによれ
ばかかる問題がなく、高温負荷の条件においても実用1
土適用しても同様の効果が得られることを確認した。
以上この発明によれば、酸化亜鉛薄膜と電極との間にS
nO2層を介在させたものであり、従来のものにくらべ
て実用上十分な特性を示す酸化亜鉛薄膜を提供すること
ができる。特にこの発明によれば、高温負荷寿命試験に
対して振動周波数、IRの変化が小さく、またRoの値
の増大もないなど信頼性の高い酸化亜鉛薄膜が得られる
。
nO2層を介在させたものであり、従来のものにくらべ
て実用上十分な特性を示す酸化亜鉛薄膜を提供すること
ができる。特にこの発明によれば、高温負荷寿命試験に
対して振動周波数、IRの変化が小さく、またRoの値
の増大もないなど信頼性の高い酸化亜鉛薄膜が得られる
。
第1図は音叉振動子の一例を示す側面図、第2図は第1
図における電極部分の部分拡大図、第3図は音叉振動子
にこの発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電極構造を適用した
例を示す側面図、第4図は音片振動子にこの発明にかか
る酸化亜鉛薄膜の電極構造を適用した例の斜視図、第5
図〜第7図は同じくこの発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電
極構造を各振動子に適用した例の側面図、第8図はこの
発明の具体的実施例にもとづく振動周波数の経時変化特
性図、第9図は同じ<IRの経時変化特性図、第10図
は同じ<Roの経時変化特性図、第11図は酸化亜鉛薄
膜の等両回略図、第12図はインピーダンスと周波数の
関係特性図である。 11・・・・・・基板、12・・・・・・酸化亜鉛薄膜
、13・・・・・・5n02層、14・・・・・・電極
。 特 許 出 願 人 株式会社村田製作所 椙5 図 躬乙図 葡7図 TIME (HOtJR) 7/NE (HOIAす
図における電極部分の部分拡大図、第3図は音叉振動子
にこの発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電極構造を適用した
例を示す側面図、第4図は音片振動子にこの発明にかか
る酸化亜鉛薄膜の電極構造を適用した例の斜視図、第5
図〜第7図は同じくこの発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電
極構造を各振動子に適用した例の側面図、第8図はこの
発明の具体的実施例にもとづく振動周波数の経時変化特
性図、第9図は同じ<IRの経時変化特性図、第10図
は同じ<Roの経時変化特性図、第11図は酸化亜鉛薄
膜の等両回略図、第12図はインピーダンスと周波数の
関係特性図である。 11・・・・・・基板、12・・・・・・酸化亜鉛薄膜
、13・・・・・・5n02層、14・・・・・・電極
。 特 許 出 願 人 株式会社村田製作所 椙5 図 躬乙図 葡7図 TIME (HOtJR) 7/NE (HOIAす
Claims (1)
- 酸化亜鉛薄膜表面と電極との間にSnO2層を介在させ
たことを特徴とする酸化亜鉛薄膜の電極構造。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57114445A JPS595720A (ja) | 1982-06-30 | 1982-06-30 | 酸化亜鉛薄膜の電極構造 |
| US06/500,828 US4433264A (en) | 1982-06-30 | 1983-06-03 | Electrode structure for a zinc oxide thin film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57114445A JPS595720A (ja) | 1982-06-30 | 1982-06-30 | 酸化亜鉛薄膜の電極構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS595720A true JPS595720A (ja) | 1984-01-12 |
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Family
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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Country Status (2)
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1982
- 1982-06-30 JP JP57114445A patent/JPS595720A/ja active Granted
-
1983
- 1983-06-03 US US06/500,828 patent/US4433264A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013183030A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Panasonic Corp | 太陽電池およびその製造方法 |
Also Published As
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| JPH0158890B2 (ja) | 1989-12-14 |
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