JPS5957427A - 電子ビ−ム描画デ−タ作成方法 - Google Patents
電子ビ−ム描画デ−タ作成方法Info
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- JPS5957427A JPS5957427A JP57168001A JP16800182A JPS5957427A JP S5957427 A JPS5957427 A JP S5957427A JP 57168001 A JP57168001 A JP 57168001A JP 16800182 A JP16800182 A JP 16800182A JP S5957427 A JPS5957427 A JP S5957427A
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- repetitive
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- Granted
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. program control
- H01J37/3023—Program control
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、１■子ビームを利用して試料上に微細パター
ンを描画する１６子ビ一ム描画技術に係わシ、特に電子
ビーム描ｉｐ＋」装置に入力する電子ビーム描画データ
の作成方法に関する。
ンを描画する１６子ビ一ム描画技術に係わシ、特に電子
ビーム描ｉｐ＋」装置に入力する電子ビーム描画データ
の作成方法に関する。
近時、半解体ウェーハやマスク等の試料上に微細パター
ン（集積回路のパターンデータ）を描画するものとして
、各種の電子ビーム描画装置が用いられている。また、
ＬＳＩの急激な進歩と共に、そのパターンデータは益々
複雑かつ微細になってきている。このため、１チツプを
構成する図形の数も膨大な数（〜数１０００万個）に増
えてきている。そして、この図形数の増加は次の２つの
問題を誘起している。
ン（集積回路のパターンデータ）を描画するものとして
、各種の電子ビーム描画装置が用いられている。また、
ＬＳＩの急激な進歩と共に、そのパターンデータは益々
複雑かつ微細になってきている。このため、１チツプを
構成する図形の数も膨大な数（〜数１０００万個）に増
えてきている。そして、この図形数の増加は次の２つの
問題を誘起している。
（１）ｗ子ビーム描画装置はＣＡＤシステムから出力さ
れたパターンデータを直接人力することはできず、この
ため上記パターンデータを装置の描画方式や構成等に強
く依存したデータ（ＥＢフォーマットデータ）にデータ
変換してやる必要があるが、図形数の増加に伴いこのデ
ータ変換に要する時間が急増してきた。パターンの種類
によって１はデータ変換に要する時間が、そのデータを
使って描画を行う時間の数１０〜数１００倍にも達する
ことがある。
れたパターンデータを直接人力することはできず、この
ため上記パターンデータを装置の描画方式や構成等に強
く依存したデータ（ＥＢフォーマットデータ）にデータ
変換してやる必要があるが、図形数の増加に伴いこのデ
ータ変換に要する時間が急増してきた。パターンの種類
によって１はデータ変換に要する時間が、そのデータを
使って描画を行う時間の数１０〜数１００倍にも達する
ことがある。
（２） データ変換処理に長時間を要することから変
換処理を描画前に実行し、変換して作成したＥＢフォー
マットデータを適当な記憶装置に格納しておく必要があ
る。しかし、図形数の増加と共に変換データの攬も数メ
ガ−数１０メガバイトまで膨長するので、記憶装置に格
納できる、テップが極く小数に限定された）、或いはオ
ーバフローして格納し切れない等のケースも発生してい
石。
換処理を描画前に実行し、変換して作成したＥＢフォー
マットデータを適当な記憶装置に格納しておく必要があ
る。しかし、図形数の増加と共に変換データの攬も数メ
ガ−数１０メガバイトまで膨長するので、記憶装置に格
納できる、テップが極く小数に限定された）、或いはオ
ーバフローして格納し切れない等のケースも発生してい
石。
このような開動は、今後のＬＳＩの進歩によって一層深
刻化さｉすると予想される。電子ビーム描画装置はマス
クパターン作成の工期短縮で、或いはマスクパターン作
成工程そのもののバイパスでＬＳＩデバイスの開発及び
製造期間を大幅に短縮するものとして登場してきたが、
上述した間順によってその利点が失われる虞れすらでて
きている′。
刻化さｉすると予想される。電子ビーム描画装置はマス
クパターン作成の工期短縮で、或いはマスクパターン作
成工程そのもののバイパスでＬＳＩデバイスの開発及び
製造期間を大幅に短縮するものとして登場してきたが、
上述した間順によってその利点が失われる虞れすらでて
きている′。
第１図は従来の電子ビーム描画データ作成方法に係わる
データ処理系を示すブロック図である。ＣＡＤシステム
１から出力されたチップパターンデータ２はＭＴファイ
ルやディスクファイル等のデータファイルに格納される
。データ変換処理システム３では、上記チップパターン
データを入力してデータ変換を行う。そして、チップ全
体の変換データファイル４はディスク等の配憶装置に格
納される。このとき、チップ領域全面にペタに展開され
たパターンは、第２図に示す如く一定幅で機械的にフレ
ーム分割される。ここで、第２図中Ｆ、ｆ〜ｅ”？は第
１乃至第７のフレームをそれぞれ示している。なお、前
１ＣＯＡＤシステム１ではチップパターンデータを繰シ
返しによシ作成する。メモリパターンのように同一形状
のメモリセルがチップの大半を占めるパターンの設計で
は尚更のことである。、修正を行う場合でもメモリセル
１個を修正し、それを展開すると云う手法がとられる。
データ処理系を示すブロック図である。ＣＡＤシステム
１から出力されたチップパターンデータ２はＭＴファイ
ルやディスクファイル等のデータファイルに格納される
。データ変換処理システム３では、上記チップパターン
データを入力してデータ変換を行う。そして、チップ全
体の変換データファイル４はディスク等の配憶装置に格
納される。このとき、チップ領域全面にペタに展開され
たパターンは、第２図に示す如く一定幅で機械的にフレ
ーム分割される。ここで、第２図中Ｆ、ｆ〜ｅ”？は第
１乃至第７のフレームをそれぞれ示している。なお、前
１ＣＯＡＤシステム１ではチップパターンデータを繰シ
返しによシ作成する。メモリパターンのように同一形状
のメモリセルがチップの大半を占めるパターンの設計で
は尚更のことである。、修正を行う場合でもメモリセル
１個を修正し、それを展開すると云う手法がとられる。
このような方法で作成したデータ（ＢＢフォーマットデ
ータ）は第３図に示す如くなる。すなわち、前半に各フ
レームの格納アドレスを記録したインデックス部があフ
、そのあとにフレーム単位でデータが格納さ九ることに
なる。そしてこの場合、各フレームにおけるデータがそ
れぞれ膨大なものとなり、前述した問題を招くのである
。
ータ）は第３図に示す如くなる。すなわち、前半に各フ
レームの格納アドレスを記録したインデックス部があフ
、そのあとにフレーム単位でデータが格納さ九ることに
なる。そしてこの場合、各フレームにおけるデータがそ
れぞれ膨大なものとなり、前述した問題を招くのである
。
本発明の目的は、図形数の多いパターンデータでも短時
間にデ７タ作成を行うことができ、かつ変換データの量
を大幅に低減し得る電子ビーム描画データ作成方法を提
供することにある。
間にデ７タ作成を行うことができ、かつ変換データの量
を大幅に低減し得る電子ビーム描画データ作成方法を提
供することにある。
本発明の骨子は、パターン設計段階では明確に意識され
ていた繰り返しの考えを、フレーム分割から変換データ
ファイル作成に至る処理に採シ込んだことにある。
ていた繰り返しの考えを、フレーム分割から変換データ
ファイル作成に至る処理に採シ込んだことにある。
す々わち本発明は、メモリセル等の繰り返し要素を複数
個配列してなる反復性領域及び非反復性領域から々るチ
ップパターンデータを基にπｊ子ビーム描画装置固有の
電子ビーム描画データを作成するに際し、まずチップパ
ターンな所足のＸ方向幅でＸ方向に沿ってフレーム分割
し次いで分割された各フレームにおける非反復性領域に
ついては該領域に相当するチップパターンデータをデー
タ変換して非反復性ＥＢフォーマットデータを作シ、か
つ反復性領域については該領域のフレーム幅及び上記繰
〃返し要素のＸ方向幅で規定される反復性部分に相当す
るチップパターンデータなデータ変換して反復性ＤＢフ
ォーマットデータを作〃、しがるのち上記作成された非
反復性ＢＢフォーマットデータを記憶装置に格納し、か
つ上記作成された反復性ＥＢフォーマットデータを前記
各フレーム中での反復性部分のｙ方向縁シ返し回数と共
に記憶装置に格納するようにした方法である。
個配列してなる反復性領域及び非反復性領域から々るチ
ップパターンデータを基にπｊ子ビーム描画装置固有の
電子ビーム描画データを作成するに際し、まずチップパ
ターンな所足のＸ方向幅でＸ方向に沿ってフレーム分割
し次いで分割された各フレームにおける非反復性領域に
ついては該領域に相当するチップパターンデータをデー
タ変換して非反復性ＥＢフォーマットデータを作シ、か
つ反復性領域については該領域のフレーム幅及び上記繰
〃返し要素のＸ方向幅で規定される反復性部分に相当す
るチップパターンデータなデータ変換して反復性ＤＢフ
ォーマットデータを作〃、しがるのち上記作成された非
反復性ＢＢフォーマットデータを記憶装置に格納し、か
つ上記作成された反復性ＥＢフォーマットデータを前記
各フレーム中での反復性部分のｙ方向縁シ返し回数と共
に記憶装置に格納するようにした方法である。
本発明によれば、反復性部分な複棗９個含むフレームに
ついては、その非反復性領域と反復性部分１個に相対す
るデータ変換を行うのみでＥＢフォーマットデータを作
成することができる。このため、データ変換に要する時
間を大幅に短くすることができる。しかも、変換データ
量が極めて少々く（従来の数分の１〜数１０分の１）な
るので、今後のＬＳＩの進歩にも十分対応できる等の効
果を奏する。
ついては、その非反復性領域と反復性部分１個に相対す
るデータ変換を行うのみでＥＢフォーマットデータを作
成することができる。このため、データ変換に要する時
間を大幅に短くすることができる。しかも、変換データ
量が極めて少々く（従来の数分の１〜数１０分の１）な
るので、今後のＬＳＩの進歩にも十分対応できる等の効
果を奏する。
第４図は本発明の一実施例方法に係わるデータ作成処理
系を示すブロック図である。なお、第１図と同一部分に
は同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。ＯＡ
Ｄシステム１で設計したチップパターンデータ２ｍ、２
ｂは、その非反復性領域と反復性領域の繰シ返し要素と
をそれぞれ別のファイル（図では分シ易いようにＭＴを
分けて示しているが同一のＭＴであってもよい）として
作成する。さらに、繰シ返し要素の繰り返しがチップの
ど・の位置から開始されるかを示すｘｔｙＰ’ｉ’、標
（Ｘ ｓ 、 Ｙ ｓ ）、Ｘ。
系を示すブロック図である。なお、第１図と同一部分に
は同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。ＯＡ
Ｄシステム１で設計したチップパターンデータ２ｍ、２
ｂは、その非反復性領域と反復性領域の繰シ返し要素と
をそれぞれ別のファイル（図では分シ易いようにＭＴを
分けて示しているが同一のＭＴであってもよい）として
作成する。さらに、繰シ返し要素の繰り返しがチップの
ど・の位置から開始されるかを示すｘｔｙＰ’ｉ’、標
（Ｘ ｓ 、 Ｙ ｓ ）、Ｘ。
ｙ７ｊ向の配列ｉ１ｙ （ｎ 、 ｍ ）及び各々のピ
ッチＰが付属情報としてデータファイルに付く。なお、
付属情報の受渡しは設計者からのメモの形でもよい。デ
ータ変換処理システム３では、これらの付属情報を基に
第５図に示す如（フレーム分割を行う。なお、第５図中
Ｆｌｖ〜＋ＦＴは第１乃至第７のフレームをそれぞれ示
し、１１はチップパターン、１２は非反復性領域、１３
は反復性領域、１４はメモリセル等の繰り返し要素、１
５は反復性部分を示している。
ッチＰが付属情報としてデータファイルに付く。なお、
付属情報の受渡しは設計者からのメモの形でもよい。デ
ータ変換処理システム３では、これらの付属情報を基に
第５図に示す如（フレーム分割を行う。なお、第５図中
Ｆｌｖ〜＋ＦＴは第１乃至第７のフレームをそれぞれ示
し、１１はチップパターン、１２は非反復性領域、１３
は反復性領域、１４はメモリセル等の繰り返し要素、１
５は反復性部分を示している。
フレーム分割に際しては、繰多返し要素１４がある領域
、つまり反復性領域１３が存在するところでは、フレー
ムの分割絹ｊが繰υ返しの開始点を通るように決める。
、つまり反復性領域１３が存在するところでは、フレー
ムの分割絹ｊが繰υ返しの開始点を通るように決める。
また、フレームの分割幅は繰り返し要素１４のＸ方向ピ
ッチのに倍（ｋ：ｉｉ）に決める。使用する電子ビーム
描画装置で規定されるフレームの最大許容幅をＷ、繰シ
返し要素１４のＸ方向ピッチをＰとするときｋ（≦０）
は ｋ −Ｉｎｔｅ （Ｗ／ｋ ） で与えられる。ただし、Ｉｎｔｅは整敞部分を表わす。
ッチのに倍（ｋ：ｉｉ）に決める。使用する電子ビーム
描画装置で規定されるフレームの最大許容幅をＷ、繰シ
返し要素１４のＸ方向ピッチをＰとするときｋ（≦０）
は ｋ −Ｉｎｔｅ （Ｗ／ｋ ） で与えられる。ただし、Ｉｎｔｅは整敞部分を表わす。
このときのフレーム幅ωは
ω ＝ ｋＰ
である。反復性領域１３をωのフレーム幅で分割したと
き １−（ｎ、／ｋ）−Ｉｎ ｔｅ（ｎ／ｋ）へ０の場合、
最終フレーム、すなわち第１ｎｔｅ（ｎ／ｋ）＋１フレ
ームのフレーム幅ω′は ａｌ−（ｎ−に′＊Ｉｎｔｅ（ｎ、／ｋ））Ｐと設定す
る。Ｉ！−０の場合（第５図の場合）、反復性領域１３
の全てのフレーム幅は等しくなる。また、全体のフレー
ム分割はチップ原点（図の左下点）から繰Ｆ）返し開始
点まで（０〜Ｘ ｓ ） 、反復性領域（Ｘ ｓ〜Ｘ
ｓ＋ｎｐ） 、反復性領鐵以降（ＸＳ＋ｎｐ〜）の３つ
に分けて行う。
き １−（ｎ、／ｋ）−Ｉｎ ｔｅ（ｎ／ｋ）へ０の場合、
最終フレーム、すなわち第１ｎｔｅ（ｎ／ｋ）＋１フレ
ームのフレーム幅ω′は ａｌ−（ｎ−に′＊Ｉｎｔｅ（ｎ、／ｋ））Ｐと設定す
る。Ｉ！−０の場合（第５図の場合）、反復性領域１３
の全てのフレーム幅は等しくなる。また、全体のフレー
ム分割はチップ原点（図の左下点）から繰Ｆ）返し開始
点まで（０〜Ｘ ｓ ） 、反復性領域（Ｘ ｓ〜Ｘ
ｓ＋ｎｐ） 、反復性領鐵以降（ＸＳ＋ｎｐ〜）の３つ
に分けて行う。
フレーム分割後、非反復性領域（図のの■〜■）のデー
タ変換を行い、これを変換データファイルに格納する。
タ変換を行い、これを変換データファイルに格納する。
また、反復性領ジの反復性部分（図の０）は繰り返し要
紫１４として入力したファイルから、これをに個（図で
は２個）Ｘ方向に並べたものを作ってデータ変換を行い
、これを変換データファイルに格納する。この際、各フ
レームの伺番目の格納データがｙ方向に何個並ぶかを示
す情報もレイアウトテーブルに配録する。
紫１４として入力したファイルから、これをに個（図で
は２個）Ｘ方向に並べたものを作ってデータ変換を行い
、これを変換データファイルに格納する。この際、各フ
レームの伺番目の格納データがｙ方向に何個並ぶかを示
す情報もレイアウトテーブルに配録する。
作成データは第６図（ｂｌに示す如く、番号づけらＪｌ
だ変換データと各データの格納番地テーブルとからなる
。格納番地テーブルはデータアクセスの際のインデック
スとして使われる。また、レイアウトテーブルは第６図
ｔａ＋に示す如く、フレーム毎のレイアウト情報の格納
番地テーブルとレイアウト情報とから構成される。ここ
で、レイアウト情報は各フレームのフレーム幅、フレー
ムを構成するデータ番号及びそのｙ方向反復回むからな
るものである。
だ変換データと各データの格納番地テーブルとからなる
。格納番地テーブルはデータアクセスの際のインデック
スとして使われる。また、レイアウトテーブルは第６図
ｔａ＋に示す如く、フレーム毎のレイアウト情報の格納
番地テーブルとレイアウト情報とから構成される。ここ
で、レイアウト情報は各フレームのフレーム幅、フレー
ムを構成するデータ番号及びそのｙ方向反復回むからな
るものである。
次に、このようにして作成されたデータのアクセス方法
を述べる。レイアウトテーブル、作成データの先頭番地
をそれぞれＡＬ、Ａ’Ｄとする。また、レイアウトテー
ブルのフレーム格納番地、フレーム幅の各情報の長さを
それぞれＶｌｅｖｌ とし、作成データの格納番地の情
報の長さをｖ３とする。いま、Ｃ６ｎ ｔ （Ａ）をＡ
番地から格納されているデータの内容であると定義する
と、第ｉフレームのフレーム幅を取シ出すには ０ｏｎｔ （ＡＩ、＋（ｉ ｔ）ｖｌ）をアクセス
すればよい。第ｉフレームの構成データ番号を取シ出す
には ０ｏｎｔ （ＡＬ＋（１−１）ｖ１＋ｖ４ ）をアクセ
スすればよい。また、ｑ Ｋ ０ｏｎｔ（Ａ）をＡ番地
に格納されているデータの内容をｑ回参照することであ
ると定義し、レイアウトテーブルのデータ番号の情報の
長さをＶ４．反復回数の情報の長さをＶ、とすると、第
ｉフレームを描画する場合 Ｃｏｎｔ （ＡＬ＋（ｉ １）ｖｌ＋ｖ、＋ｖ、
））１．ｏｏｎｔ（（Ｏｏｎｔ （ＡＬ＋（ｉ−１）Ｖ
１＋Ｖ２ ） １）ｖ、＋ＡＤ）＋Ｏｏｎ ｔ （Ａ
Ｌ＋（ｉ −１） Ｖ１＋ｖ２＋（Ｖ４ ＋Ｖ、 ）＋
ｖ、 ）＋０ｏｎｔ（ＡＬ＋（ｉ １）ｖｌ＋ｖ、＋（
ｖ４＋ｖ６Ｘｖ １）＋ｖ４）のデータを電子ビーム描
画装置に転送すればよい。例えば、第５図の餓３フレー
ムを描画する場合 １＊０ｏｎｔ （Ｂ４）＋１１３Ｃｏｎｔ （ＢｌＢ
）→−ＩＪＯｏｎｔ （Ｂ５ ）で表わされるデータの
転送を行えばよい。なお、上式において十で表わされる
加算はフレームの構成データ番号が尽きたことを示すタ
ーミネータが現れる迄行う。
を述べる。レイアウトテーブル、作成データの先頭番地
をそれぞれＡＬ、Ａ’Ｄとする。また、レイアウトテー
ブルのフレーム格納番地、フレーム幅の各情報の長さを
それぞれＶｌｅｖｌ とし、作成データの格納番地の情
報の長さをｖ３とする。いま、Ｃ６ｎ ｔ （Ａ）をＡ
番地から格納されているデータの内容であると定義する
と、第ｉフレームのフレーム幅を取シ出すには ０ｏｎｔ （ＡＩ、＋（ｉ ｔ）ｖｌ）をアクセス
すればよい。第ｉフレームの構成データ番号を取シ出す
には ０ｏｎｔ （ＡＬ＋（１−１）ｖ１＋ｖ４ ）をアクセ
スすればよい。また、ｑ Ｋ ０ｏｎｔ（Ａ）をＡ番地
に格納されているデータの内容をｑ回参照することであ
ると定義し、レイアウトテーブルのデータ番号の情報の
長さをＶ４．反復回数の情報の長さをＶ、とすると、第
ｉフレームを描画する場合 Ｃｏｎｔ （ＡＬ＋（ｉ １）ｖｌ＋ｖ、＋ｖ、
））１．ｏｏｎｔ（（Ｏｏｎｔ （ＡＬ＋（ｉ−１）Ｖ
１＋Ｖ２ ） １）ｖ、＋ＡＤ）＋Ｏｏｎ ｔ （Ａ
Ｌ＋（ｉ −１） Ｖ１＋ｖ２＋（Ｖ４ ＋Ｖ、 ）＋
ｖ、 ）＋０ｏｎｔ（ＡＬ＋（ｉ １）ｖｌ＋ｖ、＋（
ｖ４＋ｖ６Ｘｖ １）＋ｖ４）のデータを電子ビーム描
画装置に転送すればよい。例えば、第５図の餓３フレー
ムを描画する場合 １＊０ｏｎｔ （Ｂ４）＋１１３Ｃｏｎｔ （ＢｌＢ
）→−ＩＪＯｏｎｔ （Ｂ５ ）で表わされるデータの
転送を行えばよい。なお、上式において十で表わされる
加算はフレームの構成データ番号が尽きたことを示すタ
ーミネータが現れる迄行う。
かくして本実施例によれば、７子ビ一ム描画データの作
成が短時間で行えるようにな力、しかも変換データの量
を大幅に圧縮できることになる。例えば第５図に示す第
２フレームに着目すると、データ変換を要するのは該フ
レームの非反復性領域（■■の部分）と前記繰シ返し要
素１４を２個並べた反復性部分（０の部分）とになシ、
反復性部分の１０個分のデータ変換が不要となる。さら
に変換データの量も上記■■Ｏに相当する量のみ＆ｘＪ
、反復性部分の１０個分に相当する量だけ変換データが
少なくて済む。これは、第３乃至第６フレームについて
も同様に云えることであシ、本実施例方法による効果は
絶大なものである。
成が短時間で行えるようにな力、しかも変換データの量
を大幅に圧縮できることになる。例えば第５図に示す第
２フレームに着目すると、データ変換を要するのは該フ
レームの非反復性領域（■■の部分）と前記繰シ返し要
素１４を２個並べた反復性部分（０の部分）とになシ、
反復性部分の１０個分のデータ変換が不要となる。さら
に変換データの量も上記■■Ｏに相当する量のみ＆ｘＪ
、反復性部分の１０個分に相当する量だけ変換データが
少なくて済む。これは、第３乃至第６フレームについて
も同様に云えることであシ、本実施例方法による効果は
絶大なものである。
第７図及び第８図ｆａｔ （ｈ）は他の実施例を説明す
るためのもので第７図はフレーム分割状態を示す模式図
、第８図ｔａ＋はレイアウトテーブルを示す模式図、同
図ｔｂｌは作成データを示す模式図である。なお、第５
図と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は
省略する。この実施例が先に説明した実施例と異なる点
は、前記フレーム分割を反復性領域１３の位置に関係な
く一定のＸ方向幅で行ったことにある。すなわち、チッ
プパターンを第７図に示す如くフレームの最大許容幅Ｗ
と略等しい幅で６つのフレームに分割している。なお、
このフレーム分割に際しては第７図に示す如くフレーム
分割線と反復性領域１３のｙ方向辺とが一致していない
が、好ましくは一致させた方がよい。
るためのもので第７図はフレーム分割状態を示す模式図
、第８図ｔａ＋はレイアウトテーブルを示す模式図、同
図ｔｂｌは作成データを示す模式図である。なお、第５
図と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は
省略する。この実施例が先に説明した実施例と異なる点
は、前記フレーム分割を反復性領域１３の位置に関係な
く一定のＸ方向幅で行ったことにある。すなわち、チッ
プパターンを第７図に示す如くフレームの最大許容幅Ｗ
と略等しい幅で６つのフレームに分割している。なお、
このフレーム分割に際しては第７図に示す如くフレーム
分割線と反復性領域１３のｙ方向辺とが一致していない
が、好ましくは一致させた方がよい。
フレーム分割後は、先の実施例と同様に非反復性領域（
図の■■〜の、ただし■＠ では反復性領域を一部含む
）のデータ変換を行い、これを変換データファイルに格
納する。また、反復性領域の反復性部分１５ｍ、〜、１
５ｄ（図の＠−９）については各フレーム毎にデータ変
換を行い、これを変換データファイルに格納する。ここ
で、上記反復性部分１５ａ、〜、１５ｄは各フレーム毎
にフレーム幅Ｗ及び繰シ返し要素１４のＸ方向幅で規定
されるものである。また、レイアウトテーブル及び作成
データは第８図（ａｌ ｆｂｌに示す如く先の実施例と
略同様に構成される。
図の■■〜の、ただし■＠ では反復性領域を一部含む
）のデータ変換を行い、これを変換データファイルに格
納する。また、反復性領域の反復性部分１５ｍ、〜、１
５ｄ（図の＠−９）については各フレーム毎にデータ変
換を行い、これを変換データファイルに格納する。ここ
で、上記反復性部分１５ａ、〜、１５ｄは各フレーム毎
にフレーム幅Ｗ及び繰シ返し要素１４のＸ方向幅で規定
されるものである。また、レイアウトテーブル及び作成
データは第８図（ａｌ ｆｂｌに示す如く先の実施例と
略同様に構成される。
このような実施例では、データ変換に要する時間及び新
換データ量については先の実施例に劣るが、次のような
特屯すべき効果が得られる。
換データ量については先の実施例に劣るが、次のような
特屯すべき効果が得られる。
すなわち、フレーム方向（ｙ方向）に２つ以上の繰シ返
しパターンがあシそのピッチが異っても適用することが
可能である。また、フレーム数を少なくできる等の効果
が得られる。
しパターンがあシそのピッチが異っても適用することが
可能である。また、フレーム数を少なくできる等の効果
が得られる。
なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
ない。例えば、前記反復性領域がチップの被数個所に分
かれているような場合（多くのメモリパターンは２乃至
４個所に分かれている）でも、フレーム分割を各々の反
復性領域で繰り返し要素の繰り返し開始点を基準に行う
と云う原則を守れば、最初に説明した実施例と同様に処
理することが可能である。また、描画実行時にデータの
転送を制御してフレームデータを再構成する代りに、描
画笑行前に全フレームのデータを予め記憶装置に再結成
してふ・くか、或いはフレーム描画実行前に１フレーム
のｆ −タな記憶装置に再構成しておくことも可能であ
る。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、砕々変
形して実施することができる。
ない。例えば、前記反復性領域がチップの被数個所に分
かれているような場合（多くのメモリパターンは２乃至
４個所に分かれている）でも、フレーム分割を各々の反
復性領域で繰り返し要素の繰り返し開始点を基準に行う
と云う原則を守れば、最初に説明した実施例と同様に処
理することが可能である。また、描画実行時にデータの
転送を制御してフレームデータを再構成する代りに、描
画笑行前に全フレームのデータを予め記憶装置に再結成
してふ・くか、或いはフレーム描画実行前に１フレーム
のｆ −タな記憶装置に再構成しておくことも可能であ
る。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、砕々変
形して実施することができる。
第１図乃至第３図はそれぞれ従来の１１子ビ一ム描画デ
ータ作成方法を説明するためのもので第１図はデータ作
成処理系を示すブロック図、第２図はフレーム分割状態
を示す杼弐図、第３図は作成データを示す模式図、第４
図乃至第６図＋ａ） （ｂｌは本発明の一実施例方法を
説明するためのもので第４図はデータ作成処理系を示す
ブロック図、第５図はフレーム分割状態を示す模式図、
第６図（ａｌはレイアウトテーブルを示す模式図、柩６
図（ｂｌは作成データを示す模式図、第７図及び第８図
＋ａｌ ｔｂ）は他の実施例方法を説明するためのもの
で第７図はフレーム分割状態をボす模式図、第８図（ａ
ｌはレイアウトテーブルを示す模式図、第８図１ｂ＋は
作成データを示すオ）ｂ式図である。 Ｉ・・・ＣＡＤシステム、２，２ａ、２ｂ・・・チップ
パターンデータ、３・・・データ変換処丹システム、４
．４ａ、４ｂ・・・変換データファイル、１ノ・・・チ
ップパターン、１２・・・非反復性領域、１３・・・反
復性領域、１４・・・繰シ返し要素、１５．１５ａ、〜
、１５ｄ−反復性部分。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 ＠２図 第３図 １３４− 第４図 第５図 第６図 （ａ） （ｂ） ７− 第８図 （ａ） （ｂ）１３Ｆ
ータ作成方法を説明するためのもので第１図はデータ作
成処理系を示すブロック図、第２図はフレーム分割状態
を示す杼弐図、第３図は作成データを示す模式図、第４
図乃至第６図＋ａ） （ｂｌは本発明の一実施例方法を
説明するためのもので第４図はデータ作成処理系を示す
ブロック図、第５図はフレーム分割状態を示す模式図、
第６図（ａｌはレイアウトテーブルを示す模式図、柩６
図（ｂｌは作成データを示す模式図、第７図及び第８図
＋ａｌ ｔｂ）は他の実施例方法を説明するためのもの
で第７図はフレーム分割状態をボす模式図、第８図（ａ
ｌはレイアウトテーブルを示す模式図、第８図１ｂ＋は
作成データを示すオ）ｂ式図である。 Ｉ・・・ＣＡＤシステム、２，２ａ、２ｂ・・・チップ
パターンデータ、３・・・データ変換処丹システム、４
．４ａ、４ｂ・・・変換データファイル、１ノ・・・チ
ップパターン、１２・・・非反復性領域、１３・・・反
復性領域、１４・・・繰シ返し要素、１５．１５ａ、〜
、１５ｄ−反復性部分。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 ＠２図 第３図 １３４− 第４図 第５図 第６図 （ａ） （ｂ） ７− 第８図 （ａ） （ｂ）１３Ｆ
Claims (4)
- （１）繰り返し要素を複数個配列して々る反復性領域及
び非反復性領域からなるチップパターンデータな基に電
子ビーム描画データを作成する方法において、チップパ
ターンを所定のＸ方向幅でｙ方向に沿ってフレーム分割
したのち、上記分割された各フレームにおける非反復性
領域については該領域に相当するチップパターンデータ
をデータ変換して非反復性ＥＢフォーマットデータを作
成し、かつ反復性領域については該領域のフレーム幅及
び前記繰シ返し要素のｙ方向幅で規定される反復性部分
に相当するチップパターンデータをデータ変換して反復
性ＥＢフォーマットデータを作成し、次いで上記作成さ
れた非反復性ＢＢフォーマットデータを記憶装置に格納
し、かつ上記作成された反復性ＢＢフォーマットデータ
を前記各フレーム中での反復性部分の繰殴返し回数と共
に記憶装置に格納することを特徴とする電子ビーム描画
データ作成方法。 - （２） 前記フレーム分割手段として、電子ビーム描
画装置に規定されるフレームの最大許容幅と略等しいＸ
方向幅で前記チップパターンをフレーム分割することを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子ビーム描画
データ作成方法。 - （３） 前記フレーム分割手段として、前記反復性領
域におけるフレーム分割を該領域のＸ方向開始点を基準
に行い、電子ビーム描画装置で規定されるフレームの最
大許容幅をＷ、前記繰シ返し要素のＸ方向ピッチをｐｂ
Ｘ方向繰夛返し回数をｎとした場合 彦るｋ（＜ｎ）を用い、フレーム幅ω（最終フレームを
除く）を ω−ｋｐ と設定し、前記反復性領域を上記フレーム幅ωで分割し
たとき Ｊ＝（ｎ／ｋ）−Ｉｎ ｔｅ（ｎ／ｋ）４０なるときは
最終フレームの幅ω′を に’ｗｎ−に来Ｉｎｔｅ（ｎ／ｋ） なるに′を用い 叡−に’ ｐ と設定し、またｌ！−０なるときは全てのフレーム幅を
ｋｐと設定することを特徴とする特許請求の範１ｆＩ第
１項記載の重子ビーム描画デ〒り作成方法。 - （４） 前記データ作成手段として、前記各・フレー
ムにおりる反復性領域については前記繰り返し要紫をＸ
方向にに個（最終フレームではに′個）、Ｘ方向に１個
並べてなる反復性部分に相当するチップパターンデータ
のデータ変換のみを行うことを特徴とする特許請求の範
囲第３項記載の電子ビーム描画データ作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57168001A JPS5957427A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 電子ビ−ム描画デ−タ作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57168001A JPS5957427A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 電子ビ−ム描画デ−タ作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5957427A true JPS5957427A (ja) | 1984-04-03 |
| JPH056338B2 JPH056338B2 (ja) | 1993-01-26 |
Family
ID=15859957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57168001A Granted JPS5957427A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 電子ビ−ム描画デ−タ作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5957427A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS614228A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-10 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム描画方法 |
| JPS62156816A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-11 | Toshiba Corp | パタ−ン描画方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5483773A (en) * | 1977-12-16 | 1979-07-04 | Fujitsu Ltd | Electron-beam exposure unit |
| JPS5734334A (en) * | 1980-08-08 | 1982-02-24 | Toshiba Corp | Pattern forming |
-
1982
- 1982-09-27 JP JP57168001A patent/JPS5957427A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5483773A (en) * | 1977-12-16 | 1979-07-04 | Fujitsu Ltd | Electron-beam exposure unit |
| JPS5734334A (en) * | 1980-08-08 | 1982-02-24 | Toshiba Corp | Pattern forming |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS614228A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-10 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム描画方法 |
| JPS62156816A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-11 | Toshiba Corp | パタ−ン描画方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH056338B2 (ja) | 1993-01-26 |
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