JPS5958042A - ポリスルホン多孔膜 - Google Patents
ポリスルホン多孔膜Info
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- JPS5958042A JPS5958042A JP16860282A JP16860282A JPS5958042A JP S5958042 A JPS5958042 A JP S5958042A JP 16860282 A JP16860282 A JP 16860282A JP 16860282 A JP16860282 A JP 16860282A JP S5958042 A JPS5958042 A JP S5958042A
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- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は低分子量成分含量を低（したポリスルホン１「
合体から形成され、表面に均一なイ改１細孔を有し、特
に表面平滑性にすぐれたポリスルホン多孔膜に関する。
合体から形成され、表面に均一なイ改１細孔を有し、特
に表面平滑性にすぐれたポリスルホン多孔膜に関する。
近年、多孔膜は、電子工業用等の超純水の製造２紙パル
プ排液等の工業排水処理、空気中から／／）ｔｖ１梁の
濃縮弄の気体分離処理１Ｍ糖工業等の食品工４に等にお
ける分離精製、血液からの有用成分の分離、除囚用ミク
ロフィルター等の医療用途等多方面り分離精製技術に多
孔膜が利用されるようになってきｔ二。
プ排液等の工業排水処理、空気中から／／）ｔｖ１梁の
濃縮弄の気体分離処理１Ｍ糖工業等の食品工４に等にお
ける分離精製、血液からの有用成分の分離、除囚用ミク
ロフィルター等の医療用途等多方面り分離精製技術に多
孔膜が利用されるようになってきｔ二。
このような目的ハために従来よりセルルーズアセテート
系、ボリプｐピレン系、ポリカーボネート系等の多孔膜
が用いられてきた。
系、ボリプｐピレン系、ポリカーボネート系等の多孔膜
が用いられてきた。
しかし、透過性能１機械的強度、耐熱、耐溶剤性等にお
いて欠点を有することが指摘されてきた。
いて欠点を有することが指摘されてきた。
かかる観点から機械的強度、耐熱、耐溶剤性において優
れた特性を有するポリスルホン樹脂が注目され、そ力多
孔膜の製造方法に関するい（つかの技術が開示されてき
た。
れた特性を有するポリスルホン樹脂が注目され、そ力多
孔膜の製造方法に関するい（つかの技術が開示されてき
た。
これらのポリスルホン多孔膜は通常湿式法で製膜され、
取扱いは全て含水状態で行なわれている。このポリスル
ホン多孔膜が一旦乾燥状態とした後、使用に際して再び
含水状態としても全く性能的に変化しなければ、水浸漬
保存中の性能の経時変化の問題が解決されるばかりでな
く、輸送コストの低減も図ることができる。又乾燥状態
の多孔膜はガス分離膜の支持体として利用することがで
きその用籟は大きい。
取扱いは全て含水状態で行なわれている。このポリスル
ホン多孔膜が一旦乾燥状態とした後、使用に際して再び
含水状態としても全く性能的に変化しなければ、水浸漬
保存中の性能の経時変化の問題が解決されるばかりでな
く、輸送コストの低減も図ることができる。又乾燥状態
の多孔膜はガス分離膜の支持体として利用することがで
きその用籟は大きい。
従来、含水状態の膜を乾燥する方法としては、凍結乾燥
、グリセリン処理、溶媒置換等が知られているが、凍結
乾燥法は乾燥状態とするめに長時間な要し、グリセリン
処理では乾燥状態で使用で錠ない。又溶媒置換法を用い
た場合にはポリスルホン多孔膜中釦包埋さ十１ている例
えばオリゴマー等の低分子量成分がＭＵ表面に析出し、
表面平滑性が失なわれやすいという間鴨があった。
、グリセリン処理、溶媒置換等が知られているが、凍結
乾燥法は乾燥状態とするめに長時間な要し、グリセリン
処理では乾燥状態で使用で錠ない。又溶媒置換法を用い
た場合にはポリスルホン多孔膜中釦包埋さ十１ている例
えばオリゴマー等の低分子量成分がＭＵ表面に析出し、
表面平滑性が失なわれやすいという間鴨があった。
かかる状況に鑑み、本発明者らは表面平滑性の優れたポ
リスルホン多孔膜を確実に得ることを目的として鋭意研
究θ１結果、低分子量成分會敗の低いポリスルホン重合
体、特にある特定ハ分子縫範囲にある低分子量成分の含
量が一定割合以下であるポリスルホン重合体から形成さ
れたポリスルホン多孔膜が表面に均一な微細孔を有し、
且つ表面平滑性にすぐれていることを見出し本発明にケ
１１達したものである。
リスルホン多孔膜を確実に得ることを目的として鋭意研
究θ１結果、低分子量成分會敗の低いポリスルホン重合
体、特にある特定ハ分子縫範囲にある低分子量成分の含
量が一定割合以下であるポリスルホン重合体から形成さ
れたポリスルホン多孔膜が表面に均一な微細孔を有し、
且つ表面平滑性にすぐれていることを見出し本発明にケ
１１達したものである。
即ち、本発明は分子量が約ＳＯＯ〜約１ 、２００の範
囲の成分の含量が０．１重ｆ％以下であるポリスルホン
重合体から形成されたポリ７２．オ。
囲の成分の含量が０．１重ｆ％以下であるポリスルホン
重合体から形成されたポリ７２．オ。
以下本発明について詳細に説明する。
本発明で用いられるポリスルホン樹脂としては、
下記式（１）または（２）
Ｈｌ
モ〇−ぐ３−８ｏ曾 −くワ〉÷
・・・・曲−（２）で表わされる繰
り返し単位を５０モル％以上有する重合体で、その分子
量が約５０００〜約３０万のものが好ましい。これらの
重合体は１種類又は２種以上で使用することができる。
・・・・曲−（２）で表わされる繰
り返し単位を５０モル％以上有する重合体で、その分子
量が約５０００〜約３０万のものが好ましい。これらの
重合体は１種類又は２種以上で使用することができる。
本発明でいう分子量とは、ＧＰＣ（ゲルパーミェーショ
ンクルマドグラフィー）によって得られる分子上既知の
ポリスチレン標準試料の検堵線（分子着対溶出カウント
の曲線）より求めたポリスチレン換算の分子量である。
ンクルマドグラフィー）によって得られる分子上既知の
ポリスチレン標準試料の検堵線（分子着対溶出カウント
の曲線）より求めたポリスチレン換算の分子量である。
本発明のポリスルホン多孔膜を形成するに際し、ポリス
ルホン重合体中に含有されないことが望ましい低分子量
成分の分子量は約８００〜約１，２００であり、その許
容しうる好坪しい量としては０．１重１１ｔ％以下、更
に好ましくは０．０５重ｔ％以下である。
ルホン重合体中に含有されないことが望ましい低分子量
成分の分子量は約８００〜約１，２００であり、その許
容しうる好坪しい量としては０．１重１１ｔ％以下、更
に好ましくは０．０５重ｔ％以下である。
しかしながら通常、市販のポリスルホン樹脂は含有され
ないことが望ましい該低分子゛縦成分を約１重ｉｔｔ％
以下の割合で含んでいる場合がある。そ内様な場合のポ
リスチレンイ丙脂は例えば分別沈澱法によって、該低分
子量成分を実質的に含まない該ポリスルホン重合体、す
なわち分子量が約８００〜１，２００なる低分子量成分
の含量が０．１重ｔ％以下であるポリスルホン重合体と
することができる。
ないことが望ましい該低分子゛縦成分を約１重ｉｔｔ％
以下の割合で含んでいる場合がある。そ内様な場合のポ
リスチレンイ丙脂は例えば分別沈澱法によって、該低分
子量成分を実質的に含まない該ポリスルホン重合体、す
なわち分子量が約８００〜１，２００なる低分子量成分
の含量が０．１重ｔ％以下であるポリスルホン重合体と
することができる。
該低分子量成分の含量が（）、１以下であるポリスルホ
ン重合体を得る目的で行なう前記分別沈澱は例えば６高
分子合成の実験法″（大津、木下共著、化学同人刊）３
０〜３２ページ記載の方法によって実施することができ
る。該分別沈澱法に関してさらに具体的に説明する。
ン重合体を得る目的で行なう前記分別沈澱は例えば６高
分子合成の実験法″（大津、木下共著、化学同人刊）３
０〜３２ページ記載の方法によって実施することができ
る。該分別沈澱法に関してさらに具体的に説明する。
すなわち、神分別沈澱は、該ポリスルホン樹脂を良溶媒
に溶解した後、貧溶媒を加えることにより目的とするポ
リスルホン重合体を析出分離する方法である。
に溶解した後、貧溶媒を加えることにより目的とするポ
リスルホン重合体を析出分離する方法である。
本発明の分別沈澱において用いられるポリスルホン樹脂
の良醪媒としては、５０℃以下の温間において該樹脂を
５重量チ以上、好ましくはｌＯ重ｆ％以上溶解しうるも
ので、例えばハロゲン系溶媒、極性溶媒等が挙げられる
。好適なハロゲン系溶痺としてはりｇ−ホルム１．２−
ジクＩ：＋ｐエタン、トリクロ１ジエチレン等が挙ケラ
れる。好適な極性溶媒としては、ジメチルホルムアミド
、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ千ルー２−ピロリドン
、テトラメチル尿累、ヘキサメチルホスホルアミド、ジ
メチルスホキシド。
の良醪媒としては、５０℃以下の温間において該樹脂を
５重量チ以上、好ましくはｌＯ重ｆ％以上溶解しうるも
ので、例えばハロゲン系溶媒、極性溶媒等が挙げられる
。好適なハロゲン系溶痺としてはりｇ−ホルム１．２−
ジクＩ：＋ｐエタン、トリクロ１ジエチレン等が挙ケラ
れる。好適な極性溶媒としては、ジメチルホルムアミド
、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ千ルー２−ピロリドン
、テトラメチル尿累、ヘキサメチルホスホルアミド、ジ
メチルスホキシド。
ピリジン、キノリン、アニリン、０−りＩ：＋ｐフェノ
ール等が牟げられる。。
ール等が牟げられる。。
嶋ポリスルホン樹脂を該良溶媒に溶解する際の樹脂濃度
としては０．５〜１０ポ請チ、より好ましくはＪ〜５重
吋チが用いられる。
としては０．５〜１０ポ請チ、より好ましくはＪ〜５重
吋チが用いられる。
該樹脂を該良溶楳に溶解してなる溶液に加える貧溶媒と
しては例えばアルコール類、脂肪族炭化水素類が挙げら
れる。好適なアルコール類としてはメタノール、エタノ
ール、Ｉ−プロパツール Ｈ−フタンールエチレングリ
コール等が挙げられる。好適な■旨肪族炭化水素として
はね−へキサン、ｎ−へブタン、リグロイン等が挙げら
れる。
しては例えばアルコール類、脂肪族炭化水素類が挙げら
れる。好適なアルコール類としてはメタノール、エタノ
ール、Ｉ−プロパツール Ｈ−フタンールエチレングリ
コール等が挙げられる。好適な■旨肪族炭化水素として
はね−へキサン、ｎ−へブタン、リグロイン等が挙げら
れる。
本発明に用いられる分子量が約８００〜約１．２００成
分含量が０．１重１１％以下であるポリスルホン重合体
は、前記分別沈澱法以外の公チ０の方法によって得ても
よい。
分含量が０．１重１１％以下であるポリスルホン重合体
は、前記分別沈澱法以外の公チ０の方法によって得ても
よい。
該ポリスルホン重合体から形成された本発明のポリスル
ホン多孔膜は、表面平滑性ＩＦ富み、該表面に均一な織
細孔を有するものである。表面の微細孔の平均孔径は約
Ｉ ＬＩ ＯＡ〜約５μの範囲てあり、また層全体には
通常表面モ均孔径しりも大きな連結した細孔が存在し、
その断面方向の分布は、均一、あるいは不均一である。
ホン多孔膜は、表面平滑性ＩＦ富み、該表面に均一な織
細孔を有するものである。表面の微細孔の平均孔径は約
Ｉ ＬＩ ＯＡ〜約５μの範囲てあり、また層全体には
通常表面モ均孔径しりも大きな連結した細孔が存在し、
その断面方向の分布は、均一、あるいは不均一である。
該層全体の空隙率は一般に３０〜９０％の範囲にある。
膜の形態としては平膜、チューブラ−膜、中空糸膜等が
あげられる。
あげられる。
本発明の該ポリスルホン重合体から形成されたポリスル
ホン多孔膜は、通常ポリスルホン多孔膜を得る際に用い
られるいかなる方法によっても得ることかで傘る。その
一般的な方法としては、該ポリスルホン重合体を溶ｉ′
ｉｌ＋にが解する工程、所望の膜形態に成形する工程及
び凝固工程等からなる。その工程についてさらにに体的
に以下に示すが、本発明はこれにより何ら限定されるも
のではない。
ホン多孔膜は、通常ポリスルホン多孔膜を得る際に用い
られるいかなる方法によっても得ることかで傘る。その
一般的な方法としては、該ポリスルホン重合体を溶ｉ′
ｉｌ＋にが解する工程、所望の膜形態に成形する工程及
び凝固工程等からなる。その工程についてさらにに体的
に以下に示すが、本発明はこれにより何ら限定されるも
のではない。
該ポリスルホン重合体の溶〆ｉｌｌとしては、５０℃以
下の温間において該重合体を５電縫％以ヒ好ましくはｔ
ｏｔｆ＃％以上溶解しつるもので、例えばンメチルアセ
トアミド、ジメチルボルムアミド、ジエチルホルムアミ
ド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２ピｐリドン
、テトラメチル［Ｃ，ヘキサメチルホスポルアミドｍ
−クレゾール、クロルベンゼン、ジメチルスルホキシド
等があり、これらを単独あるいは２種以上組み合せて使
用することができるが、その中でもより溶解度の大きい
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルアセトアミドが
好適に用いられる。
下の温間において該重合体を５電縫％以ヒ好ましくはｔ
ｏｔｆ＃％以上溶解しつるもので、例えばンメチルアセ
トアミド、ジメチルボルムアミド、ジエチルホルムアミ
ド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２ピｐリドン
、テトラメチル［Ｃ，ヘキサメチルホスポルアミドｍ
−クレゾール、クロルベンゼン、ジメチルスルホキシド
等があり、これらを単独あるいは２種以上組み合せて使
用することができるが、その中でもより溶解度の大きい
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルアセトアミドが
好適に用いられる。
また、該重合体溶液の重合体濃度としては５〜５０重蟹
チが用いられる。
チが用いられる。
所望により溶剤中に非溶媒を添加することができる。非
溶媒としては１価又は多価アルコール類、エーテル類あ
るいは電解質水溶液が好ましく用いられる。好適な１価
アルコール類としてはヘキサノール、シクロヘキサノー
ル、シクロヘキセノール等、多価アルコール類どしては
エチレングリコール、プμピンングリコール。
溶媒としては１価又は多価アルコール類、エーテル類あ
るいは電解質水溶液が好ましく用いられる。好適な１価
アルコール類としてはヘキサノール、シクロヘキサノー
ル、シクロヘキセノール等、多価アルコール類どしては
エチレングリコール、プμピンングリコール。
ブタンジオール、グリセリン等が挙げられる。
好適なエーテル類としてはニチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリフールジメチルエーテル、ジ
オキサン等が挙げられる。好適な電解水溶液としては酢
酸ナトリウム等の有機酸塩、塩化ナトリウム、硝酸ナト
リウム等の無機は塩、ポリスチレンスルホン酸ナトリウ
ム等の無機酸塩、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム等
の高分子電解質、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム
等のイオン系界面活性剤などの水溶液が挙げられる。
エーテル、ジエチレングリフールジメチルエーテル、ジ
オキサン等が挙げられる。好適な電解水溶液としては酢
酸ナトリウム等の有機酸塩、塩化ナトリウム、硝酸ナト
リウム等の無機は塩、ポリスチレンスルホン酸ナトリウ
ム等の無機酸塩、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム等
の高分子電解質、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム
等のイオン系界面活性剤などの水溶液が挙げられる。
上記溶剤に溶解したポリスルホン重合体溶液は使用目的
に応じ、前記の如く平膜、チューブラ−膜、中空糸膜等
の形態に成形することができる。平膜、チューブラ−膜
等の場合は必要に応じ、織布、不織布等の多孔材料を支
持基材として用いることができる。
に応じ、前記の如く平膜、チューブラ−膜、中空糸膜等
の形態に成形することができる。平膜、チューブラ−膜
等の場合は必要に応じ、織布、不織布等の多孔材料を支
持基材として用いることができる。
所望の形態に成形したポリスルホン重合体溶液を凝固浴
中に浸漬して脱溶剤を行う凝固工程において、凝固液と
しては、水、又は水と自由に混和し５る有機液体の少な
（とも１種、あるいはこれらの混合物が用いられる。
中に浸漬して脱溶剤を行う凝固工程において、凝固液と
しては、水、又は水と自由に混和し５る有機液体の少な
（とも１種、あるいはこれらの混合物が用いられる。
かかる有機液体としては炭素数１〜３の１価アルコール
、炭素数２〜４の２価アルコール。
、炭素数２〜４の２価アルコール。
グリセリン、炭素数２〜４のケトン、炭素数４〜６のエ
ーテル、前記ポリスルホン樹脂の溶媒および分子層６０
０以下のポリｘチレングリコ−ル等が用いられる。
ーテル、前記ポリスルホン樹脂の溶媒および分子層６０
０以下のポリｘチレングリコ−ル等が用いられる。
該有機液体として更に好ましくはメタノール。
エタノール、イソプルパノール、エチレングリフール、
グリセリン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−
２−ピルリドン、ポリエチレングリフール等が用いられ
る。但しジメチルホルムアミド、ジメチル乙セトアミド
。
グリセリン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−
２−ピルリドン、ポリエチレングリフール等が用いられ
る。但しジメチルホルムアミド、ジメチル乙セトアミド
。
Ｎ−メチル−２−ビｇリドン等の該樹脂の溶媒を凝固液
として用いるには、その他の前記有機液体又は水との混
合物＋７′１場合に限られる。
として用いるには、その他の前記有機液体又は水との混
合物＋７′１場合に限られる。
本発明のポリスルホン多孔膜は、表面に゛均一な微細孔
を有し、表面平滑性を有するものであり、除菌、蛋白質
等の分離精製に用いられるメンブランフィルタ−として
、あるいは血妨分離等血液から特定成分を分離する血液
処理膜として、又はこれら目的とした膜の支持体膜とし
て。
を有し、表面平滑性を有するものであり、除菌、蛋白質
等の分離精製に用いられるメンブランフィルタ−として
、あるいは血妨分離等血液から特定成分を分離する血液
処理膜として、又はこれら目的とした膜の支持体膜とし
て。
さらには乾燥状侭としてガス分離用極薄膜の支持体等と
して用いることができる。特に本発明のポリスルホン多
孔膜は表面平滑性に富むものであり、該層を支持体とし
て用いた選択透過性膜め場合にその選択透過性能の優れ
た膜が容易に得られるという大きな利点を有している。
して用いることができる。特に本発明のポリスルホン多
孔膜は表面平滑性に富むものであり、該層を支持体とし
て用いた選択透過性膜め場合にその選択透過性能の優れ
た膜が容易に得られるという大きな利点を有している。
以下実施例によって本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例１（低分子量成分の除去）
ポリスルホン樹脂（Ｕｌ）ＦＬＰ−３５００）をりμｐ
ホルムに溶解して３重１１％りｐｏｐホルム溶液とし、
さらにメタノールを２８体積チとなるように加え、白濁
した溶液を得た。こハ白濁溶液を加熱、攪拌することに
より再び透明な溶液とした後徐冷してポリスルホン重合
体をゲル状に析出させた。このゲル状ポリマーを遠心分
離１６．０００Ｇ、 ３０ ｍ ）によって分取し、
大量のメタノールによって充分洗浄した凌真空乾燥する
ことＫより低分子量成分が除去されたポリスルホン重合
体を得た（第１分画）。遠心分離後の上澄液を蒸発し、
低分子量成分からなる残漬を得た（第２分画）。先の第
１分画として得られたポリスルホン重合体のＧＰＣチャ
ートを図１に、第２分画として得られた低分子量成分の
ＧＰＣチャートを図２に示す′。
ホルムに溶解して３重１１％りｐｏｐホルム溶液とし、
さらにメタノールを２８体積チとなるように加え、白濁
した溶液を得た。こハ白濁溶液を加熱、攪拌することに
より再び透明な溶液とした後徐冷してポリスルホン重合
体をゲル状に析出させた。このゲル状ポリマーを遠心分
離１６．０００Ｇ、 ３０ ｍ ）によって分取し、
大量のメタノールによって充分洗浄した凌真空乾燥する
ことＫより低分子量成分が除去されたポリスルホン重合
体を得た（第１分画）。遠心分離後の上澄液を蒸発し、
低分子量成分からなる残漬を得た（第２分画）。先の第
１分画として得られたポリスルホン重合体のＧＰＣチャ
ートを図１に、第２分画として得られた低分子量成分の
ＧＰＣチャートを図２に示す′。
実施例２（製膜）
ジメチルホルムアミド７２．８部、エチレングリコール
ジメチルエーテル１１．２部、ベンゾグアナミン１部、
実施例１で得られたポリスルホン重合体（第１分画）１
５部を溶解槽に仕込み、音素気流下に室温で攪拌溶解し
た５得られたポリスルポン溶液を２５℃でポリスルホン
不織布上に２００μの厚みで塗布し、直ちに１５℃の水
中に浸漬して凝固させ平膜状のポリスルホン多孔膜を得
た。
ジメチルエーテル１１．２部、ベンゾグアナミン１部、
実施例１で得られたポリスルホン重合体（第１分画）１
５部を溶解槽に仕込み、音素気流下に室温で攪拌溶解し
た５得られたポリスルポン溶液を２５℃でポリスルホン
不織布上に２００μの厚みで塗布し、直ちに１５℃の水
中に浸漬して凝固させ平膜状のポリスルホン多孔膜を得
た。
実施例３
実施例２で得られた含水状態のポリスルホン多孔膜を、
１−プルパノール中に２時間、次いでシクロヘキサン中
に２時間浸漬し、乾燥空気気流下洗−晩風乾して乾燥状
態のポリスルポン多孔膜を得た。このポリスルホン多孔
膜は電子顕＃鏡による観察の結果、非常に滑らかな表面
を有していた。このポリスルポン多孔膜の上に水面展開
法１（て得られた膜厚約０．０４５μのポリ（４−メチ
ルペンテン−１）の超薄膜を２枚積層し、気体分離性能
を測定し、ポリスルホン多孔膜の支持体としての評価を
行った。結果を表１に示す。
１−プルパノール中に２時間、次いでシクロヘキサン中
に２時間浸漬し、乾燥空気気流下洗−晩風乾して乾燥状
態のポリスルポン多孔膜を得た。このポリスルホン多孔
膜は電子顕＃鏡による観察の結果、非常に滑らかな表面
を有していた。このポリスルポン多孔膜の上に水面展開
法１（て得られた膜厚約０．０４５μのポリ（４−メチ
ルペンテン−１）の超薄膜を２枚積層し、気体分離性能
を測定し、ポリスルホン多孔膜の支持体としての評価を
行った。結果を表１に示す。
本発明のポリスルホン多孔膜の上にポリ（４−メチルペ
ンテン−１）の超薄膜を積層した気体分１１を膜はポリ
（４−メチルペンテン−１）固有の選択透過性を示し、
本発明のポリスルポン多孔膜が表面平滑性に優れ、気体
分離膜の支持体として有用であることを示している。
ンテン−１）の超薄膜を積層した気体分１１を膜はポリ
（４−メチルペンテン−１）固有の選択透過性を示し、
本発明のポリスルポン多孔膜が表面平滑性に優れ、気体
分離膜の支持体として有用であることを示している。
比較例１
実施例２において、実施例１のポリスルポン重合体の代
りに市販のポリスルポン樹脂（■ＵＤｇｒ、ｐ−３５０
０ ）を用いる他は全く四ａ！Ｋｌ、てボリスルホン多
孔膜を得たつこのポリスルホン多孔膜を実施例３と全（
同様にして支持体としての評価を行い、結果を表１に示
す。電子顕微鏡による観、察の結果、５００倍の拡大倍
率の視野において４〜８個／ｄのＷ４度で２〜５μの析
出物が観察された。
りに市販のポリスルポン樹脂（■ＵＤｇｒ、ｐ−３５０
０ ）を用いる他は全く四ａ！Ｋｌ、てボリスルホン多
孔膜を得たつこのポリスルホン多孔膜を実施例３と全（
同様にして支持体としての評価を行い、結果を表１に示
す。電子顕微鏡による観、察の結果、５００倍の拡大倍
率の視野において４〜８個／ｄのＷ４度で２〜５μの析
出物が観察された。
表１
図１は、実施例１における第１分画のポリスルホン重合
体のＧＰＣチャートを示し、図２は、第２分画ハボリス
ルホン重合体のＧＰＣチャートである。 手続補正書 昭和５７年１０月７５ 日 特許庁長官殿 ２、発明の名称 ポリスルホン多孔膜 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪市東区南本町１丁目１１番地 （３００）帝人株式会社 代表者 徳 末 知 夫 帝 人 株 式 会 社内 明細書にお１する「図面の簡単な説明Ｊ Ｏ）掴６、補
正の内容 （１） 明細書第１５頁末尾に以下の文章を挿入する
。 「図１の測定条件は次の通りである。 装置 東洋曹達１１ＬＣ−８０２ＵＲ カラム ３／８インチ×２フィート Ｇ２０００ル ２本、 Ｇ４０００Ｈ，１本。 Ｇ６０００ル１本 溶媒 クロロホルム 流速 １．０ｍ／都 測定温度 室温 検出 ＵＶ ２５４ ｎｍ 図２の測定条件は、 カラム ３／８インチ×２フィート Ｇ２００Ｑ几 ３本、 Ｇ３０００Ｈ，１本の他、図１
のや件と同様である。尚、図２における溶出カウント３
９．ｏ＋ｊ近のピークが分子量８００〜１２００の成分
に相当する。 」以 上
体のＧＰＣチャートを示し、図２は、第２分画ハボリス
ルホン重合体のＧＰＣチャートである。 手続補正書 昭和５７年１０月７５ 日 特許庁長官殿 ２、発明の名称 ポリスルホン多孔膜 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪市東区南本町１丁目１１番地 （３００）帝人株式会社 代表者 徳 末 知 夫 帝 人 株 式 会 社内 明細書にお１する「図面の簡単な説明Ｊ Ｏ）掴６、補
正の内容 （１） 明細書第１５頁末尾に以下の文章を挿入する
。 「図１の測定条件は次の通りである。 装置 東洋曹達１１ＬＣ−８０２ＵＲ カラム ３／８インチ×２フィート Ｇ２０００ル ２本、 Ｇ４０００Ｈ，１本。 Ｇ６０００ル１本 溶媒 クロロホルム 流速 １．０ｍ／都 測定温度 室温 検出 ＵＶ ２５４ ｎｍ 図２の測定条件は、 カラム ３／８インチ×２フィート Ｇ２００Ｑ几 ３本、 Ｇ３０００Ｈ，１本の他、図１
のや件と同様である。尚、図２における溶出カウント３
９．ｏ＋ｊ近のピークが分子量８００〜１２００の成分
に相当する。 」以 上
Claims (1)
- 分子量が約８００〜約１，２００の範囲の成分の含量が
０．１重ｔ％以下であるポリスルポン重合体から形成さ
れたポリスルホン多孔膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16860282A JPS5958042A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | ポリスルホン多孔膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16860282A JPS5958042A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | ポリスルホン多孔膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5958042A true JPS5958042A (ja) | 1984-04-03 |
Family
ID=15871095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16860282A Pending JPS5958042A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | ポリスルホン多孔膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5958042A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5279739A (en) * | 1991-08-19 | 1994-01-18 | Koch Membrane Systems, Inc. | Durable filtration membrane having optimized molecular weight |
| JP2014156526A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-28 | Fujifilm Corp | 多孔フィルム及びその製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56126408A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-03 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Semipermeable membrane and its production |
-
1982
- 1982-09-29 JP JP16860282A patent/JPS5958042A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56126408A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-03 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Semipermeable membrane and its production |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5279739A (en) * | 1991-08-19 | 1994-01-18 | Koch Membrane Systems, Inc. | Durable filtration membrane having optimized molecular weight |
| JP2014156526A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-28 | Fujifilm Corp | 多孔フィルム及びその製造方法 |
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