JPS5960723A - 薄膜磁気ヘツドのコア形成方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドのコア形成方法Info
- Publication number
- JPS5960723A JPS5960723A JP17128582A JP17128582A JPS5960723A JP S5960723 A JPS5960723 A JP S5960723A JP 17128582 A JP17128582 A JP 17128582A JP 17128582 A JP17128582 A JP 17128582A JP S5960723 A JPS5960723 A JP S5960723A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- magnetic
- pattern
- anisotropy
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）、発明の技術分野
この発゛明は薄膜磁気ヘッドのコア形成方法に係り、特
に基板上に７オトレジストでコアパターンを形成した後
、その部分に静磁界中で電気メッキを行う方式のコア形
成方法に関する。
に基板上に７オトレジストでコアパターンを形成した後
、その部分に静磁界中で電気メッキを行う方式のコア形
成方法に関する。
（２）、技術の背景
近年、磁性媒体の高記録密度化に伴い、その記録再生に
使用される磁気ヘッドには薄膜磁気ヘッドが利用される
ようになってきている。特に高トラツク密度化が進むに
つれ、磁気記録媒体と摺接する薄膜ヘッド先端の幅が３
０μｍないしそれ以下になり、このようにヘッド幅が減
少してくると、コアの形状異方性磁界が大きくなって希
望する異方性の磁区構造が得にくく、ひいては再生効率
の低下、雑音発生を招来させる結果となる。したがって
、コアの形状に左右されない希望の異方性を有するコア
の出現が要望されている。
使用される磁気ヘッドには薄膜磁気ヘッドが利用される
ようになってきている。特に高トラツク密度化が進むに
つれ、磁気記録媒体と摺接する薄膜ヘッド先端の幅が３
０μｍないしそれ以下になり、このようにヘッド幅が減
少してくると、コアの形状異方性磁界が大きくなって希
望する異方性の磁区構造が得にくく、ひいては再生効率
の低下、雑音発生を招来させる結果となる。したがって
、コアの形状に左右されない希望の異方性を有するコア
の出現が要望されている。
（３）、従来技術の問題点
従来の薄膜磁気ヘッド用コアの成形方法としては、メタ
ライズ層を形成した基板上に７オトレシストによシコア
形状に応じたメッキマスクを形成し、このマスク部分に
靜磁界中でメッキする方法、あるいは電流の集中を避け
るために、特開昭５５−４２３７０号の如くメタライズ
した基板上にコアの輪郭形状に７オトレジストの枠を形
成し、そして靜磁界中で基板全面にパーマロイ等の磁性
膜をメッキによシ形成した後、コア以外の部分を除去し
て、第１図に示す如き形状の薄膜状コア１を形成する方
法が提案されている。
ライズ層を形成した基板上に７オトレシストによシコア
形状に応じたメッキマスクを形成し、このマスク部分に
靜磁界中でメッキする方法、あるいは電流の集中を避け
るために、特開昭５５−４２３７０号の如くメタライズ
した基板上にコアの輪郭形状に７オトレジストの枠を形
成し、そして靜磁界中で基板全面にパーマロイ等の磁性
膜をメッキによシ形成した後、コア以外の部分を除去し
て、第１図に示す如き形状の薄膜状コア１を形成する方
法が提案されている。
しかし、上記いずれの場合もコア１の幅ｔが減少するに
したがい、コアの形状異方性磁界が大きくなり、希望す
る異方性の付与が困難となる。即ち、上記のような方法
で形成されたコアｌの磁区構造は第２図に示すような分
布状態となり、特に磁気記録媒体と摺接するコア先端１
ａの磁区内の磁化方向がほぼ縦方向を向いてしまう。こ
の上うな磁区構造のコアでは、磁化された記録媒体との
相対移動によるコアの磁束密度の変化が制限され、記録
情報の再生効率を低下させるとともに、雑音発生の原因
となって、媒体上の情報読み取りに悪影響を及ばずこと
になる。したがって、コア先端１ａにおける磁区内の磁
化方向が横方向を向くような磁区構造とすることが望ま
れるのである。
したがい、コアの形状異方性磁界が大きくなり、希望す
る異方性の付与が困難となる。即ち、上記のような方法
で形成されたコアｌの磁区構造は第２図に示すような分
布状態となり、特に磁気記録媒体と摺接するコア先端１
ａの磁区内の磁化方向がほぼ縦方向を向いてしまう。こ
の上うな磁区構造のコアでは、磁化された記録媒体との
相対移動によるコアの磁束密度の変化が制限され、記録
情報の再生効率を低下させるとともに、雑音発生の原因
となって、媒体上の情報読み取りに悪影響を及ばずこと
になる。したがって、コア先端１ａにおける磁区内の磁
化方向が横方向を向くような磁区構造とすることが望ま
れるのである。
（４）１発明の目的
そこでこの発明は、上記点に＠みなされたもので、薄膜
磁気へラドコアのコア幅を規定するフォトレジストパタ
ーンの外側にコア形状とは異なるパターンを同時形成し
、これによりコア形状によって定まるコアの形状異方性
磁界を打ち消し、希望する異方性の磁区構造を形成でき
るようにした薄膜磁気ヘッドのコア形成方法を提供する
ことを目的とする。
磁気へラドコアのコア幅を規定するフォトレジストパタ
ーンの外側にコア形状とは異なるパターンを同時形成し
、これによりコア形状によって定まるコアの形状異方性
磁界を打ち消し、希望する異方性の磁区構造を形成でき
るようにした薄膜磁気ヘッドのコア形成方法を提供する
ことを目的とする。
（５）６発明の構成
上記目的を達成するためにこの発明は、磁性薄膜の形状
異方性を利用し、薄膜磁気へラドコアのコア幅を規定す
るフォトレジストパターンの外側に、メッキ時の外部印
加磁界の向きと平行に形状異方性をもつ磁気コントロー
ルパターンを同時に形成し、そのパターンの形状異方性
磁界と外部印加磁界とによってコアの形状異方性磁界を
打ち消してコアに希望する異方性が付与できるようにし
たものである。
異方性を利用し、薄膜磁気へラドコアのコア幅を規定す
るフォトレジストパターンの外側に、メッキ時の外部印
加磁界の向きと平行に形状異方性をもつ磁気コントロー
ルパターンを同時に形成し、そのパターンの形状異方性
磁界と外部印加磁界とによってコアの形状異方性磁界を
打ち消してコアに希望する異方性が付与できるようにし
たものである。
（６）１発明の実施例
以下、この発明にかかる薄膜磁気ヘッドコア形成方法の
一実施例を、その製造工程を示す第３図〜第６図に基づ
いて説明する。
一実施例を、その製造工程を示す第３図〜第６図に基づ
いて説明する。
１ず、第３図（ａ） 、 （１）） 、 （ｃ）に示す
ようにセラミック等の基板１０土にメッキ用導ｔＭ１１
を蒸着などの手段により形成した後、メッキ用導電層１
１上に磁気へラドコアの輪郭形状に対応したコア用パタ
ーン１２をフォトレジストのノ（ターニングにより枠状
に形成するとともに、横方向の異方性がつきにくいコア
先端部分（コア用パターン１２の部分１２ａに相当）の
左右両側に横方向に−疑い異方性伺与用パターン１３を
フォトレジストのバターニングによシ枠状に形成する。
ようにセラミック等の基板１０土にメッキ用導ｔＭ１１
を蒸着などの手段により形成した後、メッキ用導電層１
１上に磁気へラドコアの輪郭形状に対応したコア用パタ
ーン１２をフォトレジストのノ（ターニングにより枠状
に形成するとともに、横方向の異方性がつきにくいコア
先端部分（コア用パターン１２の部分１２ａに相当）の
左右両側に横方向に−疑い異方性伺与用パターン１３を
フォトレジストのバターニングによシ枠状に形成する。
このとき、コア用パターン１２の部分１２ａと異方性付
与用パターン１３間の隙間ｄは後述するメッキ膜厚以下
とすることが望丑しい。次に上記バター７１２．１３を
形成したメッキ用導電層１１上に第４図（ａ） 、 （
ｂ）に示す如く矢印Ａで示す方向に外部磁界を印加した
状態で・く−マロイなどの磁性膜１４を電気メッキによ
り形成する。このように磁場中でメッキを行うと、異方
性伺与用パターン１３内に形成される磁性膜部分１４ａ
では横方向（パターン１４ａの長手方向）に異方性がつ
き易くなり、これに伴い磁性膜部分１４ａ、１４ａ間に
挾まれているコア先端部分に相当する磁性膜部分１４ｂ
もその影響を受ける。即ち、磁性膜部分１４ａの形状異
方性磁界と矢印Ａに示す外部印加磁界とによってコア先
端部分に相当する磁性膜部分１４ｂの形状異方性磁界を
打ち消して、第７図に示す如く磁区内の磁化方向が横に
なる横方向の異方性を有する状態にコントロールできる
ことになる。
与用パターン１３間の隙間ｄは後述するメッキ膜厚以下
とすることが望丑しい。次に上記バター７１２．１３を
形成したメッキ用導電層１１上に第４図（ａ） 、 （
ｂ）に示す如く矢印Ａで示す方向に外部磁界を印加した
状態で・く−マロイなどの磁性膜１４を電気メッキによ
り形成する。このように磁場中でメッキを行うと、異方
性伺与用パターン１３内に形成される磁性膜部分１４ａ
では横方向（パターン１４ａの長手方向）に異方性がつ
き易くなり、これに伴い磁性膜部分１４ａ、１４ａ間に
挾まれているコア先端部分に相当する磁性膜部分１４ｂ
もその影響を受ける。即ち、磁性膜部分１４ａの形状異
方性磁界と矢印Ａに示す外部印加磁界とによってコア先
端部分に相当する磁性膜部分１４ｂの形状異方性磁界を
打ち消して、第７図に示す如く磁区内の磁化方向が横に
なる横方向の異方性を有する状態にコントロールできる
ことになる。
次に第５図（ａ） 、 （ｂ）に示すようにコア用パタ
ーン１２及び該コア用パターン１２により包囲されたコ
アに相当する磁性膜部分１４ｃの表面をフォトレジスト
ｗ１１５のパターニングにより被俊し、しかる後、フオ
トレジス） ノ會１ 、＞で被覆された部分を除く異方
性付与用パターン１３、これで囲まれた磁性膜部分１４
ａ及び他の磁性膜１４を除去し、さらにフォトレジスト
層１５、 及びコア用パターン１２をエツチングによ
、１去して、第６図に示す目的のコア１６を形成する０ このようにして形成されたコア１６の磁区構造は第７図
に示すような分布状態となり、特に記録媒体と摺接する
コア先端部１７ａの磁区内の磁化方向は横を向いた状態
にすることができる。また、このような磁区分布にする
ことにより、再生効率の低下及び雑音の発生を防止でき
、良好な再生出力が得られるのでめる。
ーン１２及び該コア用パターン１２により包囲されたコ
アに相当する磁性膜部分１４ｃの表面をフォトレジスト
ｗ１１５のパターニングにより被俊し、しかる後、フオ
トレジス） ノ會１ 、＞で被覆された部分を除く異方
性付与用パターン１３、これで囲まれた磁性膜部分１４
ａ及び他の磁性膜１４を除去し、さらにフォトレジスト
層１５、 及びコア用パターン１２をエツチングによ
、１去して、第６図に示す目的のコア１６を形成する０ このようにして形成されたコア１６の磁区構造は第７図
に示すような分布状態となり、特に記録媒体と摺接する
コア先端部１７ａの磁区内の磁化方向は横を向いた状態
にすることができる。また、このような磁区分布にする
ことにより、再生効率の低下及び雑音の発生を防止でき
、良好な再生出力が得られるのでめる。
上記実施例では、フォトレジストの枠を形成してメッキ
成膜を行った場合について述べたが、これに限定される
ものではない。例えば第８図に示すようにコア形状に相
轟するパターン２０及び異方性付与用パターン２１の部
分を除いてフォトレジストによりパターニングし、上記
パターン２０．２１の部分のみにメッキ薄膜を形成する
ようにしても上記実施例と同様な効果が得られる。
成膜を行った場合について述べたが、これに限定される
ものではない。例えば第８図に示すようにコア形状に相
轟するパターン２０及び異方性付与用パターン２１の部
分を除いてフォトレジストによりパターニングし、上記
パターン２０．２１の部分のみにメッキ薄膜を形成する
ようにしても上記実施例と同様な効果が得られる。
また、異方性付与用パターンは除去されるのが−ｆＨ通
であるが、製品として残す場合もある。
であるが、製品として残す場合もある。
この場合、パターンが残存することにより、磁気ヘッド
の記録動作時にコア幅より広く記録することになる。ま
た、再生時にはコア幅部分のみが再生を行うため、所謂
ワイド・タイト・ナロー・リードが実現でき、良好な再
生信号が得られる。
の記録動作時にコア幅より広く記録することになる。ま
た、再生時にはコア幅部分のみが再生を行うため、所謂
ワイド・タイト・ナロー・リードが実現でき、良好な再
生信号が得られる。
（７）０発明の効果
以上詳述したようにこの発明のコア形成方法によれば、
薄膜磁気へラドコアのコア幅を規定するフォトレジスト
パターンの外側に、メッキ時の外部印加磁界の向きと平
行に形状異方性をもつ薄膜パターンを同時形成し、その
パターンの形状異方性磁界と外部印加磁界とによってコ
アの形状異方性磁界を打ち消すようにしたものであるか
ら、コア、特に記録媒体と摺接するコア先端部に横方向
の異方性を容易に付与することができ、かつコアの磁化
反転速度の＾速比も可能になる利点がある。
薄膜磁気へラドコアのコア幅を規定するフォトレジスト
パターンの外側に、メッキ時の外部印加磁界の向きと平
行に形状異方性をもつ薄膜パターンを同時形成し、その
パターンの形状異方性磁界と外部印加磁界とによってコ
アの形状異方性磁界を打ち消すようにしたものであるか
ら、コア、特に記録媒体と摺接するコア先端部に横方向
の異方性を容易に付与することができ、かつコアの磁化
反転速度の＾速比も可能になる利点がある。
第１図は従来における薄膜磁気へラドコアの説明図、Ｍ
２図はその磁区構造を示す説明図、第３図〜第６図はこ
の発明にかかるコア形成方法の製造工程を説明するだめ
の一例を示すもので、第３図（ａ）はフォトレジストパ
ターン形成時の平面図、同図（ｂ） 、 （ｅ）はそれ
ぞれ第３図（ａ）のＢ−Ｂ線、Ｃ−Ｃ線に沿う断面図、
第４図（ａ）は磁場中での磁性膜形成時の平面図、同図
（ｂ）はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図、第５図（ａ）はコ
ア部分にフォトレジストをパターニングした状態を示す
平面図、同図（ｂ）はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図、第６
図（ａ）は周辺部エツチング除去後のコア児成後の平面
図、同図（ｂ）はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図、第７図は
この発明により形成されたコアの磁区構造を示す説明図
、８Ｆ！８図はこの発明の他の実施例を示すフォトレジ
ストパターンの平面図である。 生な符号の説明 １０は基板、１１はメッキ用導’ＦＩＬ層、１２はコア
用パターン、１３は異方性付与用パターン、１４は磁性
膜、１５はフォトレジスト層、１６はコアである。
２図はその磁区構造を示す説明図、第３図〜第６図はこ
の発明にかかるコア形成方法の製造工程を説明するだめ
の一例を示すもので、第３図（ａ）はフォトレジストパ
ターン形成時の平面図、同図（ｂ） 、 （ｅ）はそれ
ぞれ第３図（ａ）のＢ−Ｂ線、Ｃ−Ｃ線に沿う断面図、
第４図（ａ）は磁場中での磁性膜形成時の平面図、同図
（ｂ）はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図、第５図（ａ）はコ
ア部分にフォトレジストをパターニングした状態を示す
平面図、同図（ｂ）はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図、第６
図（ａ）は周辺部エツチング除去後のコア児成後の平面
図、同図（ｂ）はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図、第７図は
この発明により形成されたコアの磁区構造を示す説明図
、８Ｆ！８図はこの発明の他の実施例を示すフォトレジ
ストパターンの平面図である。 生な符号の説明 １０は基板、１１はメッキ用導’ＦＩＬ層、１２はコア
用パターン、１３は異方性付与用パターン、１４は磁性
膜、１５はフォトレジスト層、１６はコアである。
Claims (1)
- 基板」二にフォトレジストによυコア用パターンを形成
し、静磁界中で電気メツキ成膜を行う磁気へラドコアの
形成方法において、上記コア用パターンの外側にメッキ
時の靜磁界の向きと平行に形状異方性をもつ異方性付与
用パターンを同時形成することを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッドのコア形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17128582A JPS5960723A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 薄膜磁気ヘツドのコア形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17128582A JPS5960723A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 薄膜磁気ヘツドのコア形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5960723A true JPS5960723A (ja) | 1984-04-06 |
Family
ID=15920482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17128582A Pending JPS5960723A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 薄膜磁気ヘツドのコア形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5960723A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62159096A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-15 | 株式会社東芝 | 出力領域モニタ |
| JPH0271413A (ja) * | 1988-05-12 | 1990-03-12 | Digital Equip Corp <Dec> | 改良した磁気ドメイン構造を有する極片の製造方法 |
| FR2651600A1 (fr) * | 1989-09-06 | 1991-03-08 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation d'une tete magnetique a axe de facile aimantation convenablement oriente et tete obtenue par ce procede. |
-
1982
- 1982-09-30 JP JP17128582A patent/JPS5960723A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62159096A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-15 | 株式会社東芝 | 出力領域モニタ |
| JPH0271413A (ja) * | 1988-05-12 | 1990-03-12 | Digital Equip Corp <Dec> | 改良した磁気ドメイン構造を有する極片の製造方法 |
| FR2651600A1 (fr) * | 1989-09-06 | 1991-03-08 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation d'une tete magnetique a axe de facile aimantation convenablement oriente et tete obtenue par ce procede. |
| US5113575A (en) * | 1989-09-06 | 1992-05-19 | Commissariat A L'energie Atomique | Process for producing a magnetic head with an appropriately oriented easy axis of magnetization |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4078300A (en) | Method of making an integrated magnetic head having pole-pieces of a reduced frontal width | |
| US6410212B1 (en) | Method for making a thin film magnetic head | |
| US6469874B1 (en) | Method to make a stitched writer for a giant magneto-resistive head | |
| JPH10320720A (ja) | 垂直記録用磁気ヘッド | |
| JP2003263705A (ja) | 垂直記録用磁気ヘッドおよびそれを搭載した磁気ディスク装置 | |
| JP2779526B2 (ja) | 複合薄膜磁気ヘッド | |
| JP2828673B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP2513746B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH06195637A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP2862519B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0234083B2 (ja) | ||
| JP2941957B2 (ja) | 磁気記録または再生装置 | |
| JPS5971124A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド | |
| JPS63308715A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS63171409A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS61237231A (ja) | 磁気記録体及びその製造方法 | |
| JP2000207709A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS5919215A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS63187410A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPS63231715A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH07121825A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS58199426A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH07121836A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド | |
| JPH04123304A (ja) | 誘導型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS5979415A (ja) | 磁気ヘツド |