JPS5962888A

JPS5962888A - マスタ−ホログラム作製方法

Info

Publication number: JPS5962888A
Application number: JP17435582A
Authority: JP
Inventors: Nobuyuki Baba; 信行馬場
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1982-10-04
Filing date: 1982-10-04
Publication date: 1984-04-10

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】この発明は、マスターホログラム、すなわち、ホログラ
ム複製に使用される、振幅型のマスターホログラムの作
製方法に関する。

マスターホログラムとホログラム乾板とを密着させて重
ね、９２元し、露光後、ホログラム乾板に対して現像を
行ない、ホログラムの複製を行なうことは、良く知られ
ている。

従来、このようなホログラム複製におけるマスターホロ
グラムとしては、一般に、銀塩を感光口とする乾板にホ
ログラム作製したものが用いられている。

し力・し、このようなマスターホログラムでは銀粒子が
大きく、銀の粒状性に起因して、複製されたホログラム
に訃けるノイズが問題となる。

又、マスターホログラムは、複製に際して、ホログラム
乾板と密着さぜられることによシ、物理的な力を受ける
ので、その物理的な強度が強いことが望ましいが、銀塩
を用いたマスターホログラムには、この物理的強度の面
でも、こｙｔがあまり強くはないという問題がある。

そこで、木兄υ１は、上記ノイズの問題を解決し、物理
的強度が強り、シかもコントラストのよい、振幅型のマ
スターホログラムの作製方法の提供を目的として込る。

以下、本発明を説明する。

第１図（１）において、符号ｌは、透光性基板を示して
いる。Ｃの透ｙＬ性基板１をベースとして、マスターホ
ログラムを作製していくのであるが、この透光性基板と
しては、ガラス板や透明プラスチック板等を用いること
ができる。

ここでは、説す」の具体性のため、透光性基板ｌはガラ
ス板であるものとし、以下の説明においては、透光性基
４反１というがわりにガラス板１と称することにする。

このガラス板ｌを、まず、よく洗浄踵乾燥させたのち、
その表面に、金属薄層２を蒸着形成する（第１図（Ｉｌ
ｌ　）。上記洗浄は、蒸着技術において普１山に行なわ
れている洗浄方法でよい。

金属薄層２の厚さは、数１００Ａ以下とする。

蒸着金、・１Ａとしては、例えば、アルミニウムが好適
なもののひとつである。ここでは、アルミニウムを蒸着
するものとしよう。

アルミニウムの薄層を蒸着形成すると、薄層２の表面は
鏡面となり、後述するホログラフィック格子の撮影時に
反射光によるノイズ発生の原因となる。

そこで、このような場合には、アルミニウムの薄層２の
表面を、侵食性化成液（２％硫酸水溶液）で陽柳酸化し
１反射率を低下させる。蒸着金属が例えばクロム等の場
合には、形成された薄層の表面の反射率が低いのでこの
ような酸化処理の必要はない。すなわち、このような酸
化処理は、必要に１ノロじて行なえばよい。

水洗により侵食性化成液を十分に良く洗い流したのち、
オーブンにて乾燥させ、その後、この金属薄層２の上に
、フォトレジストを均一塗布し、フォトレジスト層３を
形成する（第１図＋ｍ＋　）。

フォトレジストの均一塗布を行なうには、例えば、コー
ターの回転台に、ガラス板１を真空厚層し、金属薄層２
上に、ボッタイプもしくは、ネガタイプのフォトし７ス
トを滴下して、２０００〜５０００ＲＰＭの回転数で回
転塗布すれば良い。

フォトレジスト層３の形成後、オーブンに入れて、例え
ば９０℃の温度下で３０分ベークすると、乾板ＪＯが得
られる。

この乾板１０に対し、第１図（１ｖ）に示す如く、参照
元Ｌ１と物体光Ｌ２とを照射し、所望のホログラフィッ
ク格子を撮影する。

ついて、ｌ？ｙｆｆＪをイ１うと、フォトレジストのタ
イプに応じて、ｋトラ０部もしくは非露光部のフォトレ
ジストが除去ζ九、撮影さ九たホログラフィック洛子に
対ｊノロする凹凸が、フォトレゾスト層に形成される。

このとき、現像を十分に長時間行って、ホログラフィッ
ク１肴子の谷の部分で、紀１１ＹＩ　（Ｖｌに示す如く
、金属７：、９層２を露呈さぜる。第１図（Ｖｌにおい
て、符号：４′は、現像後、金属薄層２土に残存するフ
ォトレジストを示している。

つめで、再びオーブン中に入れ、例えば９０″Ｃの温同
下で３０分ベークし、残存フォトレジスト３′により（
苗取されるホログラフィック１各イを旬えくする。

その１女、エッチ液を用いて、上記露呈した金（・ｊＬ
薄層部分のエツチングを行なって、必要部分２′のみを
残し、（記１１Ｊ　（１’１７　）、＃汝に、残存フォ
トし／スト３′を除去すると、所望のマスターポログラ
ムＭＪ４が得られる（第１図Ｆ１ｆＩＤ　）。

このマスターホログラムＮＩ［（ば、金属、；、９：　
／、力に記録形成されているから、Ｏ１埋的強度は十分
にツｎｉい。

また、ガラス板１による光吸収を無視するものとす、れ
ば、透過率は０％と１００％であり、楡めてコントラス
トのよい振ＪＩ＠型のホログラム〜である。そして、銀
塩の粒状性に起因するノイズといった間開も、こび）ホ
ログラムでは生じない。

このようにして得られたマスターホログラムＭＩ−Ｉに
より、ホログラムの複製を行なうには、第２図（１１に
示すように、マスターポログラム八’ＩＪ−Ｉと、他の
ホログラム乾板２０、例えばガラス板等の透光性基板２
）に、感光材として、銀塩、重クロム酸ゼラチン、フォ
トレノスト等を塗布して、感光層２２としたものを重ね
、元りによって、マスターホログラム■（の透光性基板
の側から露光し、その後、ホログラム乾板２０に対して
、使用感光材に応じた現像等の処理を行なえば良い。

レリーフ型ホログラムとして複製する場合には、マスタ
ーホログラム■−■の高コントラストのため、複製ホロ
グラムＨの山の部分の断１．ｎ１形状は、駆２図（１１
）に示すように矩形々状に近い良好なものとなる・。

マスターホログラムＭＵとホログラム乾板２０と。

の密茄法（第２図（Ｉ））は、真空智２法でもよいし、
インテックスマツチング剤を介する方法でもよい。

露光に用いる元りは、ホログラムの空間）θ波数が、ミ
リ数１００本のオーダーであるときは、水銀灯の元を用
いてよく、１０００本以上の高周波数のときは、ディー
プ・ウルトラ・ヴアイオレノト元とする。

マスターホログラム■νＩＩ（は、物理的強度が強いの
で、１枚のマスターホログラムから、多数のホログラム
を複製することができる。

なお、透ｙＣ性基板上に形成される金属層の層厚を大き
くして、上記のマスターホログラム作製プロセス′を行
い、得られるものは、そｙｔだけで反射型の回折封子、
あるいは、プレスによＩ）４二ログラムを作製するため
のマスターとして１更用ｉ＋Ｊ能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明のプロセスを説ＩＪＩするための図、
第２図は、ホログラムの複製を説明するたり）の図であ
る。１・・・透光性基板（ガラス板）、２・・・金属薄１脅
、３・フォ１・レノス１・層、Ｌｌ・・・物体光、Ｌ２
・・・参■１貝元、■＋ーマスターホログラム。形

Claims

【特許請求の範囲】透）“Ｃ性基板上に、数１．００Ａ以下の厚さの金属薄
層を蒸着形成し、必要に応じて、上記金属薄層表面の反射率を低下させる
ために、上記金、（ｊ８薄層に酸化処理を施し。たのも、上記金属薄層表面にフォトレジストを均一塗布し、ベー
クして乾板となし、かくして得られた乾板にょシホログラフィノク格子を撮
影し、ついで現像を行って、ポログラフインク格子の谷の部分
で、上記金属薄層を露呈させ、再度ベークしたのち、露
呈した金７１％薄層部分に対して、エッチ液によるエツ
チングを行ない、その後、残存フォトレフストを除去す
ることを特徴とする、振幅型のマスターポログラム作製
方法。