JPS6028048A - マスタ−スタンパ−の製造方法 - Google Patents
マスタ−スタンパ−の製造方法Info
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- JPS6028048A JPS6028048A JP58136412A JP13641283A JPS6028048A JP S6028048 A JPS6028048 A JP S6028048A JP 58136412 A JP58136412 A JP 58136412A JP 13641283 A JP13641283 A JP 13641283A JP S6028048 A JPS6028048 A JP S6028048A
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- Japan
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- resist
- layer
- metal layer
- master
- forming
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、映像、音響、もしくは他の情報信号が面上に
凸凹の形で記録される複板体の製造や、トラック溝が形
成される複製体の製造に用いられるマスタースタンパ−
の製造方法に関するものである。
凸凹の形で記録される複板体の製造や、トラック溝が形
成される複製体の製造に用いられるマスタースタンパ−
の製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
通常、マスタースタンパ−を製造する場合は、洗浄され
たガラス原盤上にホトレジスミ塗布し、露光後、現像処
理により面上に凸凹状の信号、もしくはトラック溝を形
成し、さらに、その面上に薄い金属層を銀鏡反応、直流
スパッターなどにより形成し、電解メッキにより同種も
しくは異種の金属層を形成し、ぞの後この金属層を、ガ
ラス原盤から剥離し、表面に付着しているホトレジスト
層をレジスト溶解液で洗い落して製造するようにしてい
る。
たガラス原盤上にホトレジスミ塗布し、露光後、現像処
理により面上に凸凹状の信号、もしくはトラック溝を形
成し、さらに、その面上に薄い金属層を銀鏡反応、直流
スパッターなどにより形成し、電解メッキにより同種も
しくは異種の金属層を形成し、ぞの後この金属層を、ガ
ラス原盤から剥離し、表面に付着しているホトレジスト
層をレジスト溶解液で洗い落して製造するようにしてい
る。
以下図面を参照しながら、従来のマスタースタンパ−製
造方法についてより詳しく説明する。第1図は、従来の
マス゛タースタンパー製造方法の製造工程図である。
造方法についてより詳しく説明する。第1図は、従来の
マス゛タースタンパー製造方法の製造工程図である。
まず、用意されたガラス原盤1を洗浄工程できれいにし
、次にレジスト塗布工程で厚み約1000人のレジスト
層2を形成する。次に、露光工程で信号となる凸凹、も
しくはトラック溝の形成すべきところをレーザ光で露光
し、現像工程で現像し、凸凹状の信号、もしくはトラッ
ク溝を形成する。
、次にレジスト塗布工程で厚み約1000人のレジスト
層2を形成する。次に、露光工程で信号となる凸凹、も
しくはトラック溝の形成すべきところをレーザ光で露光
し、現像工程で現像し、凸凹状の信号、もしくはトラッ
ク溝を形成する。
次に、金属層形成1の工程で銀鏡反応、真空蒸着、直流
スパッターなどの方法により、凸凹1.もしくは溝の形
成されたレジスト層20表面に厚み600人程鹿の金属
層3(主に、銀、ニッケル)を、レジストが加熱されて
変質しないようにできるだけ低いエネルギーで形成する
。さらに、金属層形成2の工程でニッケル電解メッキを
行ない、厚み200〜400μmのニッケルによる金属
層4を形成する。次に、上記レジスト層2、金属層3,
4を剥離工程でガラス原盤1から剥がし、最後に、レジ
スト洗浄工程で剥離した層の表面に付着しているレジス
ト層2をレジスト溶解液で洗い落し、マスタースタンパ
−6を製造する。
スパッターなどの方法により、凸凹1.もしくは溝の形
成されたレジスト層20表面に厚み600人程鹿の金属
層3(主に、銀、ニッケル)を、レジストが加熱されて
変質しないようにできるだけ低いエネルギーで形成する
。さらに、金属層形成2の工程でニッケル電解メッキを
行ない、厚み200〜400μmのニッケルによる金属
層4を形成する。次に、上記レジスト層2、金属層3,
4を剥離工程でガラス原盤1から剥がし、最後に、レジ
スト洗浄工程で剥離した層の表面に付着しているレジス
ト層2をレジスト溶解液で洗い落し、マスタースタンパ
−6を製造する。
しかしながら、上記のような製造工程には次のような問
題点がある。
題点がある。
まず第一に、剥離工程において、レジスト層の破壊、溶
剤への溶解などにより凸凹状の信号、もしくはトラック
溝を形成した原盤から、複数枚のマスタースタンバ−を
製造することができない〇第二に、マスタースタンパ−
からマザースタンバ−を製造する途中、汚れたり、キズ
が付いた時、再度ガラス原盤の洗浄工程からやシなおさ
なければならない。第三に、凸凹状の信号、もしくはト
ラック溝を形成した原盤から1枚のマスタースタンバー
ジか製造できないので多くのマザースタンバ−を製造で
きない。第四に、金属層形成1の工程において、銀鏡反
応、抵抗加熱式真空蒸着などにより金属層3として銀層
を形成した場合、銀はやわらかく傷付き易いのでマザー
メタ/バーを多く製造することができない。第五に、金
属層形成1の工程において、直流スパッター、エレクト
ロンビーム真空蒸着などにより全増膜3を形成した場合
、レジスト洗浄工程において、マスタースタンパ−の表
面に厚み10〜60へのレジストがレジスト溶解液に溶
けずに残9、凸凹状の信号、もしくはトラック溝の寸法
、及び形状に影響を与え、複製体の特性にも影響を与え
る。第六に、剥離工程後K、マスタースタンパ−の表面
からレジスト層を洗い落す必要がある。第七に、コスト
が高い。
剤への溶解などにより凸凹状の信号、もしくはトラック
溝を形成した原盤から、複数枚のマスタースタンバ−を
製造することができない〇第二に、マスタースタンパ−
からマザースタンバ−を製造する途中、汚れたり、キズ
が付いた時、再度ガラス原盤の洗浄工程からやシなおさ
なければならない。第三に、凸凹状の信号、もしくはト
ラック溝を形成した原盤から1枚のマスタースタンバー
ジか製造できないので多くのマザースタンバ−を製造で
きない。第四に、金属層形成1の工程において、銀鏡反
応、抵抗加熱式真空蒸着などにより金属層3として銀層
を形成した場合、銀はやわらかく傷付き易いのでマザー
メタ/バーを多く製造することができない。第五に、金
属層形成1の工程において、直流スパッター、エレクト
ロンビーム真空蒸着などにより全増膜3を形成した場合
、レジスト洗浄工程において、マスタースタンパ−の表
面に厚み10〜60へのレジストがレジスト溶解液に溶
けずに残9、凸凹状の信号、もしくはトラック溝の寸法
、及び形状に影響を与え、複製体の特性にも影響を与え
る。第六に、剥離工程後K、マスタースタンパ−の表面
からレジスト層を洗い落す必要がある。第七に、コスト
が高い。
発明の目的
本発明の目的は、現像工程後の凸凹状の信号、もしくは
トラック溝を形成した原盤から複数枚のマスタースタン
パ−の製造を可能にするとともに、凸凹状の信号もしく
はトラック溝の寸法や形状、複製体の特性に影響を与え
るマスターメタ/パー表面のレジスト残留をなくするこ
と、さらには、上記従来の問題点を一挙に除去するマス
タースタンパ−の製造方法を提供することである0発明
の構成 本発明のマスタースタンパ−の製造方法は、ガラス原盤
上にレジスト層を形成後、その面上に凸凹状の信号もし
くはトラック溝を形成し、その面上に金属層を形成し、
さらにその金属層上に同゛種もしくは異種の金属層を形
成する際に、凸凹状の信号もしくはトラック溝を形成し
た後から、同種もしくは異種の金属層を形成するまでの
間において、レジスト層を120°C以上の温度で加熱
し、レジスト全体を変換させることにより、レジスト層
を強固にし、さらにレジスト溶解液(有機溶剤も含む)
に対しても不溶解性にし、剥離工程において、ガラス原
盤上にレジスト層を破壊されることなく密着して残し、
また、再度の使用に対する原盤洗浄を可能にしたもので
ある。
トラック溝を形成した原盤から複数枚のマスタースタン
パ−の製造を可能にするとともに、凸凹状の信号もしく
はトラック溝の寸法や形状、複製体の特性に影響を与え
るマスターメタ/パー表面のレジスト残留をなくするこ
と、さらには、上記従来の問題点を一挙に除去するマス
タースタンパ−の製造方法を提供することである0発明
の構成 本発明のマスタースタンパ−の製造方法は、ガラス原盤
上にレジスト層を形成後、その面上に凸凹状の信号もし
くはトラック溝を形成し、その面上に金属層を形成し、
さらにその金属層上に同゛種もしくは異種の金属層を形
成する際に、凸凹状の信号もしくはトラック溝を形成し
た後から、同種もしくは異種の金属層を形成するまでの
間において、レジスト層を120°C以上の温度で加熱
し、レジスト全体を変換させることにより、レジスト層
を強固にし、さらにレジスト溶解液(有機溶剤も含む)
に対しても不溶解性にし、剥離工程において、ガラス原
盤上にレジスト層を破壊されることなく密着して残し、
また、再度の使用に対する原盤洗浄を可能にしたもので
ある。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する0 第2図は、本発明の一実施例におけるマスタースタンパ
−の製造方法の製造工程図であるQまず、ガラス原盤洗
浄工程でガラス原盤1をポリッシングマシンにより研磨
洗浄し、後洗剤、純水、有機溶剤中にてそnぞれ超音波
洗浄を行なう。
明する0 第2図は、本発明の一実施例におけるマスタースタンパ
−の製造方法の製造工程図であるQまず、ガラス原盤洗
浄工程でガラス原盤1をポリッシングマシンにより研磨
洗浄し、後洗剤、純水、有機溶剤中にてそnぞれ超音波
洗浄を行なう。
次にレジスト塗布工程でAZ−1350のホトレジスト
(石炭酸ホル÷リン縮金物にてスルホン基を介してキノ
ンジアザイトが結合したポジ型レジスト)ラスビナ−を
用いて1000への厚みで塗布し、レジスト層2を形成
する。次に露光工程において、ヘリウム−カドミウムレ
ーザを用い、露光を行ない、次に現像工程で現像を行な
う0次にレジスト層変質と金属層形成1の工程において
、ニッケルターゲラトラ取り付けた高周波スパッター装
置を用い、スパンターパワー400〜5ooW、スパッ
タ一時間16分間のスパッター条件にて、スパッターを
行ないレジスト変質層6、および金属層3として厚み約
300〜600人のニッケル金属層を形成する。これに
より温度は180〜460°Cぐらいまで上昇し、Az
−1350のレジストは変質してベークライト系になり
、レジスト溶解液(有機溶剤を含む)に不溶となる。次
に、金属層2の形成の工程でスルフアミノ酸ニッケル浴
を用いてニッケル電解メッキを行ない、厚み約300μ
mのニッケル層を余事、層4として形成する。その後剥
離工程において、レジスト変質層6と金属層3との間を
、レジスト変質層6を破壊、剥離することなく剥離し、
1枚目のマスタースタンパ−6を完成する。さらに、レ
ジスト変質層6が密着して凸凹状の信号もしくはトラッ
ク溝を形成している原盤を純水、有機溶剤などで洗浄後
、レジスト層変質及び金属層形成1以降の工程を繰り返
すことにより、2枚目、3枚目のマスタースタンパ−6
を完成する。
(石炭酸ホル÷リン縮金物にてスルホン基を介してキノ
ンジアザイトが結合したポジ型レジスト)ラスビナ−を
用いて1000への厚みで塗布し、レジスト層2を形成
する。次に露光工程において、ヘリウム−カドミウムレ
ーザを用い、露光を行ない、次に現像工程で現像を行な
う0次にレジスト層変質と金属層形成1の工程において
、ニッケルターゲラトラ取り付けた高周波スパッター装
置を用い、スパンターパワー400〜5ooW、スパッ
タ一時間16分間のスパッター条件にて、スパッターを
行ないレジスト変質層6、および金属層3として厚み約
300〜600人のニッケル金属層を形成する。これに
より温度は180〜460°Cぐらいまで上昇し、Az
−1350のレジストは変質してベークライト系になり
、レジスト溶解液(有機溶剤を含む)に不溶となる。次
に、金属層2の形成の工程でスルフアミノ酸ニッケル浴
を用いてニッケル電解メッキを行ない、厚み約300μ
mのニッケル層を余事、層4として形成する。その後剥
離工程において、レジスト変質層6と金属層3との間を
、レジスト変質層6を破壊、剥離することなく剥離し、
1枚目のマスタースタンパ−6を完成する。さらに、レ
ジスト変質層6が密着して凸凹状の信号もしくはトラッ
ク溝を形成している原盤を純水、有機溶剤などで洗浄後
、レジスト層変質及び金属層形成1以降の工程を繰り返
すことにより、2枚目、3枚目のマスタースタンパ−6
を完成する。
次に、本発明の他の実施例について図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第3図は、本発明の他の実施例のマスタースタンパ−の
製造方法の製造工程図である。ガラス原盤洗浄工程から
現像工程までは上記第2図の実施例と同様に行ない、レ
ジスト層変質化工程において、0.6μmのフィルター
で濾過した窒素ガスを600°Cに加熱し、レジスト層
2に30分間吹き付け、レジスト層2を変質させ、レジ
スト変質層6を形成後、金属層形成1の工程で、抵抗加
熱式蒸着機を用いて厚み600人の銀層を金属層3とし
て形成する。それ以降の工程も上記第2図の実施例と同
様に行な−、1枚目のマスタースタンパ−6を完成する
。さらに、レジスト変質層6が密着して凸凹状の信号も
しくはトラック溝を形成している原盤を純水、有機溶剤
などで洗浄後、金属層形成1の工程以降を繰り返すこと
により、2枚目のマスタースタンパ−6を完成する。
製造方法の製造工程図である。ガラス原盤洗浄工程から
現像工程までは上記第2図の実施例と同様に行ない、レ
ジスト層変質化工程において、0.6μmのフィルター
で濾過した窒素ガスを600°Cに加熱し、レジスト層
2に30分間吹き付け、レジスト層2を変質させ、レジ
スト変質層6を形成後、金属層形成1の工程で、抵抗加
熱式蒸着機を用いて厚み600人の銀層を金属層3とし
て形成する。それ以降の工程も上記第2図の実施例と同
様に行な−、1枚目のマスタースタンパ−6を完成する
。さらに、レジスト変質層6が密着して凸凹状の信号も
しくはトラック溝を形成している原盤を純水、有機溶剤
などで洗浄後、金属層形成1の工程以降を繰り返すこと
により、2枚目のマスタースタンパ−6を完成する。
更に本発明の他の実施例として、第3図のマスタースタ
ンパ−製造方法の製造工程と同様の工程で0.5μmの
フィルターで濾過した窒素ガスを120°Cに加熱し、
レジスト層2に2時間吹き付けることによりレジスト変
質層6を形成し、第3図の実施例と同様にして2枚のマ
スタースタンパ−5tl−完成する。
ンパ−製造方法の製造工程と同様の工程で0.5μmの
フィルターで濾過した窒素ガスを120°Cに加熱し、
レジスト層2に2時間吹き付けることによりレジスト変
質層6を形成し、第3図の実施例と同様にして2枚のマ
スタースタンパ−5tl−完成する。
なお、上記各実施例では加熱する方法として高周波スパ
ッター、温風を用い、さらに、レジストを変質した後、
もしくは変質と同時に金属層3の形成を行なっているが
、加熱方法はそれだけに限定されるものではなく、レジ
スト層2を変質できる加熱方法であれば何でも良い。ま
た、金属層形成1の工程後にレジスト層2の変質を行な
っても良い。例えば、レジスト層2上に直流スパッター
でニクロムの金属層3を形成口た後、金属層形成の工程
で、金属の電解メッキを行なうと同時に、その電流で上
記ニクロムの金属層を加熱させ、金属層4を形成する時
にレジスト変質層6を形成しても良い。
ッター、温風を用い、さらに、レジストを変質した後、
もしくは変質と同時に金属層3の形成を行なっているが
、加熱方法はそれだけに限定されるものではなく、レジ
スト層2を変質できる加熱方法であれば何でも良い。ま
た、金属層形成1の工程後にレジスト層2の変質を行な
っても良い。例えば、レジスト層2上に直流スパッター
でニクロムの金属層3を形成口た後、金属層形成の工程
で、金属の電解メッキを行なうと同時に、その電流で上
記ニクロムの金属層を加熱させ、金属層4を形成する時
にレジスト変質層6を形成しても良い。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明はガラス原盤上
にレジスト層を形成後、その面上に凸凹状の信号もしく
はトラック溝を形成し、その面上に金属層を形成し、さ
らにその金属層上に同種もしくは異種の金属層を形成す
る際に、凸凹状の信号、もしくはトラック溝を形成した
後から、同種もしくは異種の金属層を形成するまでの間
において、レジスト層を120”C以上の温度で加熱し
、レジスト全体を変質させるようにしたものであるから
、レジスト層を強固にし、さらにレジスト溶解液(有機
溶剤を含む)K対しても不溶解性になるので剥離工程に
おいてガラス原盤上にレジスト層が破壊さnることなく
密着して残り、また有機溶剤での洗浄も可能なため、1
度凸凹状の信号もしくはトラック溝を形成している原盤
から複数枚のマスタースタンパーが製造でき、その結果
、1枚のマスタースタンパ−が破損しても、再度、最初
から行なう必要がないという効果が得られる。
にレジスト層を形成後、その面上に凸凹状の信号もしく
はトラック溝を形成し、その面上に金属層を形成し、さ
らにその金属層上に同種もしくは異種の金属層を形成す
る際に、凸凹状の信号、もしくはトラック溝を形成した
後から、同種もしくは異種の金属層を形成するまでの間
において、レジスト層を120”C以上の温度で加熱し
、レジスト全体を変質させるようにしたものであるから
、レジスト層を強固にし、さらにレジスト溶解液(有機
溶剤を含む)K対しても不溶解性になるので剥離工程に
おいてガラス原盤上にレジスト層が破壊さnることなく
密着して残り、また有機溶剤での洗浄も可能なため、1
度凸凹状の信号もしくはトラック溝を形成している原盤
から複数枚のマスタースタンパーが製造でき、その結果
、1枚のマスタースタンパ−が破損しても、再度、最初
から行なう必要がないという効果が得られる。
また、従来に比べ、2倍以上のマザースタンパ−が製造
できる。さらに、レジスト層が強固になっているため、
剥離工程でマスタースタンバ−の表面にレジストが残留
せず、したがって凸凹状の信号、もしくはトランク溝の
寸法、形状に影響がなく、複製体の特性にも影響を与え
ないと云う優れた効果が得られる。その他にも、レジス
ト洗浄工程を失くすることができ、工程を簡易化できる
。
できる。さらに、レジスト層が強固になっているため、
剥離工程でマスタースタンバ−の表面にレジストが残留
せず、したがって凸凹状の信号、もしくはトランク溝の
寸法、形状に影響がなく、複製体の特性にも影響を与え
ないと云う優れた効果が得られる。その他にも、レジス
ト洗浄工程を失くすることができ、工程を簡易化できる
。
さらにコストも上記各利点により大巾に下げることがで
きるなどの効果も得られる。
きるなどの効果も得られる。
第1図は、従来のマスタースタンバ−の製造方法の製造
工程図、第2図は、本発明の一実施例に一スタンパーの
製造方法の製造工程図である。 1・・・・ガラス原盤、2・・・・・・レジスト層、3
・・・・・金属層、4・・・・金属層、5・・・・・・
マスタースタンバ−1−6・・・・・・レジスト変質層
。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 第3図
工程図、第2図は、本発明の一実施例に一スタンパーの
製造方法の製造工程図である。 1・・・・ガラス原盤、2・・・・・・レジスト層、3
・・・・・金属層、4・・・・金属層、5・・・・・・
マスタースタンバ−1−6・・・・・・レジスト変質層
。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 第3図
Claims (1)
- ガラス原盤上にレジスト層を形成した後、このレジスト
層の表面に凸凹状の信号もしくはトラック溝を形成し、
その表面に金属層を形成し、さらにこの金属層上に同種
もしくは異種の金属層を形成するとともに、上記凸凹状
の信号もしくはトラック溝を形成した後から同種もしく
は異種の金属層を形成するまでの間において、上記レジ
スト層を120°C以上の温度で加熱し、レジスト層全
体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58136412A JPS6028048A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | マスタ−スタンパ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58136412A JPS6028048A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | マスタ−スタンパ−の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6028048A true JPS6028048A (ja) | 1985-02-13 |
| JPH0421255B2 JPH0421255B2 (ja) | 1992-04-09 |
Family
ID=15174553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58136412A Granted JPS6028048A (ja) | 1983-07-25 | 1983-07-25 | マスタ−スタンパ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6028048A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03176841A (ja) * | 1989-12-05 | 1991-07-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク用スタンパの製造方法 |
| US5581531A (en) * | 1989-08-02 | 1996-12-03 | Hitachi, Ltd. | Method of making optical disk master and an optical disk |
| US9187890B2 (en) | 2008-02-19 | 2015-11-17 | Hanex Co., Ltd. | Separator and separation method |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5188021A (ja) * | 1975-01-30 | 1976-08-02 | ||
| JPS5386756A (en) * | 1976-10-15 | 1978-07-31 | Philips Nv | Plastic information carrier duplicating process and plastic record carrier and molding resin |
| JPS5494005A (en) * | 1973-10-01 | 1979-07-25 | Mca Disco Vision | Video information memory member and method of fabricating same |
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| JPS5766547A (en) * | 1980-10-13 | 1982-04-22 | Toshiba Corp | Manufacture of base disk for information storage medium |
-
1983
- 1983-07-25 JP JP58136412A patent/JPS6028048A/ja active Granted
Patent Citations (5)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0421255B2 (ja) | 1992-04-09 |
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