JPS5965734U - 化学気相成長装置 - Google Patents

化学気相成長装置

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JPS5965734U
JPS5965734U JP15977482U JP15977482U JPS5965734U JP S5965734 U JPS5965734 U JP S5965734U JP 15977482 U JP15977482 U JP 15977482U JP 15977482 U JP15977482 U JP 15977482U JP S5965734 U JPS5965734 U JP S5965734U
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JP
Japan
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vapor deposition
chemical vapor
deposition equipment
chamber
deposition apparatus
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JP15977482U
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English (en)
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井上 信市
守 前田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来の化学気相成長装置、第2図は本考案によ
る一実施例の化学気相成長装置である。 図において、2はチャンバー、4は基板、21は加熱ヒ
ーター、31はハロゲンランプ、22・32は温度調整
器を示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. チャンバー内に反応ガスを導入し、基板上に成長膜を形
    成する化学気相成長装置において、前記チャンバーの内
    壁を所定温度に加熱する加熱機構を設けたことを特徴と
    する化学気相成長装置。
JP15977482U 1982-10-21 1982-10-21 化学気相成長装置 Pending JPS5965734U (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51149882A (en) * 1975-06-18 1976-12-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Chemical condensation apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51149882A (en) * 1975-06-18 1976-12-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Chemical condensation apparatus

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