JPS5969728A - 楕円ビ−ムの形成方法 - Google Patents
楕円ビ−ムの形成方法Info
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- JPS5969728A JPS5969728A JP18118282A JP18118282A JPS5969728A JP S5969728 A JPS5969728 A JP S5969728A JP 18118282 A JP18118282 A JP 18118282A JP 18118282 A JP18118282 A JP 18118282A JP S5969728 A JPS5969728 A JP S5969728A
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- Japan
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- light
- double refraction
- plate
- wavelength plate
- refraction crystal
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 開明の技術分野
本発明は銅箔パターンを形成したプリント基板’１１査
するのに用いるレーザ光の楕円ビームの形成方法に関す
る。
するのに用いるレーザ光の楕円ビームの形成方法に関す
る。
（ｂ） 技イ４（ｉの背景
最近有機樹脂等の基板に所定の銅箔パターンをル成して
電子回路を形成したプリント基板の前記銅箔パターンを
検査する方法として、従来の目視検査に代って、レーザ
光を利用した自動検査方法が提案されている。
電子回路を形成したプリント基板の前記銅箔パターンを
検査する方法として、従来の目視検査に代って、レーザ
光を利用した自動検査方法が提案されている。
（（３） 従来技術と問題点
このようなレーザ光を用いた従来のプリント基板のパタ
ーンの自！ｌｌｂ検査方法について第１図を用いながら
説明する。第１図は従来のパターンの検査方法を示す概
略図でＨｅ−Ｎｅレーザ光源１より出射したレーデ光は
平面鏡２によってビームの方向を曲げられ、ビーム拡大
器８でビームを拡大されたのち、ハーフミラ−４を通過
し、回転ミラー５で走査され、偏向されてヌギーＶニン
グレンズ６で走査された光が、銅箔パターン７が形成さ
れたプリント基板８Ｊ：に投射される。
ーンの自！ｌｌｂ検査方法について第１図を用いながら
説明する。第１図は従来のパターンの検査方法を示す概
略図でＨｅ−Ｎｅレーザ光源１より出射したレーデ光は
平面鏡２によってビームの方向を曲げられ、ビーム拡大
器８でビームを拡大されたのち、ハーフミラ−４を通過
し、回転ミラー５で走査され、偏向されてヌギーＶニン
グレンズ６で走査された光が、銅箔パターン７が形成さ
れたプリント基板８Ｊ：に投射される。
そして銅箔パターン７あるいはプリント基板上より反射
された光が再びスキャニングレンズ６゜回転ミラー５と
逆行してハーフミラ−４に至り、ハーフミラ−４で反射
され゛Ｃ結像レンズ９．直経数１００μｍのビンホー／
ｌ’ｌＯが設けられたピンホールマスク１１を通過して
、光増倍管１２により光強度が検知される。
された光が再びスキャニングレンズ６゜回転ミラー５と
逆行してハーフミラ−４に至り、ハーフミラ−４で反射
され゛Ｃ結像レンズ９．直経数１００μｍのビンホー／
ｌ’ｌＯが設けられたピンホールマスク１１を通過して
、光増倍管１２により光強度が検知される。
このビンホー／Ｌ’ｌＯを反射ビームが通過する際。
銅箔パターン７上より反射した反射光と銅箔パターン７
以外のプリント基板上より反射した反射光との光の強度
比が大きく現われる。そしてこのようにして得られた強
度の異なる反射光を光増倍管等を用いて検知してＴＩＬ
気信秒信号る。そしてこの電気信号と銅箔パターン、プ
リント基板より反射される標準の光信号を電気１ｄ号に
斐換して設定した基準紙圧と比較検討することで銅箔パ
ターンの設計寸法とのずれを検知するようにしている。
以外のプリント基板上より反射した反射光との光の強度
比が大きく現われる。そしてこのようにして得られた強
度の異なる反射光を光増倍管等を用いて検知してＴＩＬ
気信秒信号る。そしてこの電気信号と銅箔パターン、プ
リント基板より反射される標準の光信号を電気１ｄ号に
斐換して設定した基準紙圧と比較検討することで銅箔パ
ターンの設計寸法とのずれを検知するようにしている。
ところでスキャニングレンズ６を用いてＭＫパターン７
を形成したプリント基板８上を走査する際、走査回数を
減少させかつ効果的に銅箔パターンの位１ｆ’ｌにレー
ザ光を照射して反射強度を高めるために楕円形状のビー
ムで走査することが有効である。ところでこの楕円形状
のビームとしては形成される楕円状のビームの長軸と短
軸との比が小さい即ちその比が４〜１０となるような楕
円ビームを用いると走査回数が減少し反射される光強度
比が大となって精度良くパターンが検査できることが実
験的に確められている。
を形成したプリント基板８上を走査する際、走査回数を
減少させかつ効果的に銅箔パターンの位１ｆ’ｌにレー
ザ光を照射して反射強度を高めるために楕円形状のビー
ムで走査することが有効である。ところでこの楕円形状
のビームとしては形成される楕円状のビームの長軸と短
軸との比が小さい即ちその比が４〜１０となるような楕
円ビームを用いると走査回数が減少し反射される光強度
比が大となって精度良くパターンが検査できることが実
験的に確められている。
いた。然しこのようなシリンＦリカルレンズハ製造が回
帰で調整が難しく前述した如く１ぐ軸と短軸との比の小
さい楕円ビームを容易に形成することが困帷であるとい
った矢はを生じていた。
帰で調整が難しく前述した如く１ぐ軸と短軸との比の小
さい楕円ビームを容易に形成することが困帷であるとい
った矢はを生じていた。
μ）ブｉ明の目的
本イ６明けお述した問題φ、欠解決するもので、ｉｌ１
記した銅箔パターンを形成したフ゛リント基板をレーザ
ビームで走査して光の反射強庶を利用してプリンｌ糸板
の銅箔パターンを検介する揚重において、ＭＬｆ己レー
ザビームの形状が短軸と長軸との比の小さい楕円状ビー
ムとなるような新規な楕円ビームの形成方法の提供を目
的とするものである。
記した銅箔パターンを形成したフ゛リント基板をレーザ
ビームで走査して光の反射強庶を利用してプリンｌ糸板
の銅箔パターンを検介する揚重において、ＭＬｆ己レー
ザビームの形状が短軸と長軸との比の小さい楕円状ビー
ムとなるような新規な楕円ビームの形成方法の提供を目
的とするものである。
（ｅ）＠明の構成
かかる目的を達成するための本開明の楕円ビームの形成
方法は、厚さの異なる複屈折結晶板と、該複屈折結晶板
に入射して出側されるレーザ光の（社）内面を回転せし
める外波長板とをそれぞれ交互に組み合せたものを複数
個設置し、前記複屈折結晶板にレーザ光を照射して出射
される光を楕円ビームとすることを特徴とするものであ
る。
方法は、厚さの異なる複屈折結晶板と、該複屈折結晶板
に入射して出側されるレーザ光の（社）内面を回転せし
める外波長板とをそれぞれ交互に組み合せたものを複数
個設置し、前記複屈折結晶板にレーザ光を照射して出射
される光を楕円ビームとすることを特徴とするものであ
る。
（ｆ）＠明の実施例
以Ｆ図面ケ用いて本発明の一実施例につき詳利１に説明
する。第２図は本発明の楕円ビームの形成方法を説明す
るための概略図である。
する。第２図は本発明の楕円ビームの形成方法を説明す
るための概略図である。
図示するように本発明の楕円ビームの形成方法に用いる
光学系は厚さｔが１００μｍの方解石よりなる複屈折結
晶板２１と厚さｔが５０μｍの方解石よりなる複屈折結
晶板２２との間に雲母等により形成した外波長板が設け
られている。このような光学系の複屈折結晶板２１にＨ
ｅ −Ｎ Ｃｌレーザ光源よりＩ１１′径２０μｍのレ
ーザ光２４を入射すると、複屈折結晶板２１によってビ
ームの中心位置が２０μｍｌｌ距り偏向面が９０異った
二つの光ビーム２５゜２６に分離される。次にこのよう
に分離された光ビーム２５．２６（ｉｌ−外波長板２８
に入射させ、光ビーム２５．２６の偏向面を４５斐化さ
せて、光ビーム２７．２８を出射させる。次にこの光ビ
ーム２？、２８を複屈折結晶板２２に入射させて、更に
中心の位置が１０１１ｍ距りた光ビーム２９．８０゜８
１．８２を得る。
光学系は厚さｔが１００μｍの方解石よりなる複屈折結
晶板２１と厚さｔが５０μｍの方解石よりなる複屈折結
晶板２２との間に雲母等により形成した外波長板が設け
られている。このような光学系の複屈折結晶板２１にＨ
ｅ −Ｎ Ｃｌレーザ光源よりＩ１１′径２０μｍのレ
ーザ光２４を入射すると、複屈折結晶板２１によってビ
ームの中心位置が２０μｍｌｌ距り偏向面が９０異った
二つの光ビーム２５゜２６に分離される。次にこのよう
に分離された光ビーム２５．２６（ｉｌ−外波長板２８
に入射させ、光ビーム２５．２６の偏向面を４５斐化さ
せて、光ビーム２７．２８を出射させる。次にこの光ビ
ーム２？、２８を複屈折結晶板２２に入射させて、更に
中心の位置が１０１１ｍ距りた光ビーム２９．８０゜８
１．８２を得る。
このようにして最初に複屈折結晶板２１に入射しだ光ビ
ーム２４け、ビームの中心位１ρが始めのビームより８
０μｍ変位した四つの光ビームが得られ、この光ビーム
は偏向面が外波長板２８によって４５分階されているの
で、相互に干渉を持たずそれぞれの光強度の和の強度を
持つ楕円ビームが形を戊される。
ーム２４け、ビームの中心位１ρが始めのビームより８
０μｍ変位した四つの光ビームが得られ、この光ビーム
は偏向面が外波長板２８によって４５分階されているの
で、相互に干渉を持たずそれぞれの光強度の和の強度を
持つ楕円ビームが形を戊される。
ここで複屈折結晶板２１．２２の厚坏をそれぞれ変化さ
せることで、この複屈折結晶板によって分離される光ビ
ームの中・し位置が適宜調節できるので、この複屈折結
晶板の厚さを個室変化させて組み合せて用いることで長
軸と短軸の１しか所望の貌の楕円ビームが得られる。
せることで、この複屈折結晶板によって分離される光ビ
ームの中・し位置が適宜調節できるので、この複屈折結
晶板の厚さを個室変化させて組み合せて用いることで長
軸と短軸の１しか所望の貌の楕円ビームが得られる。
このように厚さの異なる複屈折結晶板と外波長板とを組
み合せることで、この複屈折結晶板の有する光分離作用
と外波長板の持つ光ビームの偏向作用とによって所定の
長軸と短軸の比が４〜１０となるような光ビームが容易
に得られ、このような元ビームをｔＨいてプリント基板
上に形成されている銅箔パターンを検査すれば走査回数
を減少させ得るような短軸と長軸との比が４〜１０の楕
円ビームが得られるため検査工数が減少でき得る。
み合せることで、この複屈折結晶板の有する光分離作用
と外波長板の持つ光ビームの偏向作用とによって所定の
長軸と短軸の比が４〜１０となるような光ビームが容易
に得られ、このような元ビームをｔＨいてプリント基板
上に形成されている銅箔パターンを検査すれば走査回数
を減少させ得るような短軸と長軸との比が４〜１０の楕
円ビームが得られるため検査工数が減少でき得る。
（２）つｄ明の効果
以Ｊ二述べたように不発明の方法によれば、所望の長軸
と短軸の比を有する楕円ビームがｌ’ＩＩｉ Ｑｉな光
学系で容易に得られ、このような楕円ビームを用イテ７
’ ｉント基根上に形成されている銅箔パターン嵜の舎
属パターンの形状を検査すれば（ψ査情度の白玉した＋
Ｍｉ信頼曳のパターン検査を実施できる利点を生じる。
と短軸の比を有する楕円ビームがｌ’ＩＩｉ Ｑｉな光
学系で容易に得られ、このような楕円ビームを用イテ７
’ ｉント基根上に形成されている銅箔パターン嵜の舎
属パターンの形状を検査すれば（ψ査情度の白玉した＋
Ｍｉ信頼曳のパターン検査を実施できる利点を生じる。
第１図は従来のプリント基板の検査方法を示す概略図、
第２７ Ｉｉ＄、発明の楕円ビーム形成方法に用いる光
学系の概略図である。 図において１はＨｅ−Ｎｅレーザ、２は平面鏡、８ｅよ
ビーム拡大器、４はハーフミラ−１５は回転ミラー、６
はスキャニングレンズ、７は銅箔パターン、８はプリン
ト基板、９は結像レンズ、１０はピンホール、１１はマ
スク、【２は光増倍管、２１．２２は複屈折結晶板、２
３は１／１波長板、２４はレーザ光、２５．２６．２７
．２８．２９．８０．８１．８２は光ビームを示す。
第２７ Ｉｉ＄、発明の楕円ビーム形成方法に用いる光
学系の概略図である。 図において１はＨｅ−Ｎｅレーザ、２は平面鏡、８ｅよ
ビーム拡大器、４はハーフミラ−１５は回転ミラー、６
はスキャニングレンズ、７は銅箔パターン、８はプリン
ト基板、９は結像レンズ、１０はピンホール、１１はマ
スク、【２は光増倍管、２１．２２は複屈折結晶板、２
３は１／１波長板、２４はレーザ光、２５．２６．２７
．２８．２９．８０．８１．８２は光ビームを示す。
Claims (1)
- 厚さの異なる複屈折結晶板と該複屈折結晶板に入射して
出射されるレーザ光の偏向面を回転せしめる％波長板と
をそれぞれ父互に組み合せたものを複数個設置し、前記
複屈折結晶板にレーザ光を照射して出射される光を楕円
ビームとすることを特徴とする楕円ビームの形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18118282A JPS5969728A (ja) | 1982-10-14 | 1982-10-14 | 楕円ビ−ムの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18118282A JPS5969728A (ja) | 1982-10-14 | 1982-10-14 | 楕円ビ−ムの形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5969728A true JPS5969728A (ja) | 1984-04-20 |
Family
ID=16096300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18118282A Pending JPS5969728A (ja) | 1982-10-14 | 1982-10-14 | 楕円ビ−ムの形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5969728A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61198210A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-02 | Nec Corp | レ−ザ加工用光学装置 |
| JPH02212747A (ja) * | 1989-02-13 | 1990-08-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 実装基板検査装置 |
-
1982
- 1982-10-14 JP JP18118282A patent/JPS5969728A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61198210A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-02 | Nec Corp | レ−ザ加工用光学装置 |
| JPH02212747A (ja) * | 1989-02-13 | 1990-08-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 実装基板検査装置 |
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