JPS61198210A - レ−ザ加工用光学装置 - Google Patents
レ−ザ加工用光学装置Info
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- JPS61198210A JPS61198210A JP60039391A JP3939185A JPS61198210A JP S61198210 A JPS61198210 A JP S61198210A JP 60039391 A JP60039391 A JP 60039391A JP 3939185 A JP3939185 A JP 3939185A JP S61198210 A JPS61198210 A JP S61198210A
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- laser
- beams
- gaussian
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- laser beam
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Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
産業上の利用分野
本発明は、レーザ加工用の光学装置に関するものである
。
。
従来の技術
集積回路用フォトマスクあるいは、液晶表示デバイスの
金属薄膜や透明導電性薄膜の除去加工においては、それ
らの薄膜を除去する際レーザ出力を高めすぎると、ガラ
ス基板に損傷を与えることがある。
金属薄膜や透明導電性薄膜の除去加工においては、それ
らの薄膜を除去する際レーザ出力を高めすぎると、ガラ
ス基板に損傷を与えることがある。
従来、このような損傷を防ぐため、レーザビームの時間
幅を10ナノ秒程度まで短くする方法がとられている。
幅を10ナノ秒程度まで短くする方法がとられている。
この程度の時間幅のレーザビームを使用する□と、加工
薄膜物質を瞬時に蒸散できるため、溶融した薄膜物質が
ガラス基板に熱損傷を与えたり、ガラス基板と化学反応
を起こしたりしにくくなる。
薄膜物質を瞬時に蒸散できるため、溶融した薄膜物質が
ガラス基板に熱損傷を与えたり、ガラス基板と化学反応
を起こしたりしにくくなる。
しかしながら、これだけではガラス基板の損傷防止策と
しては不充分である。なぜなら、短形のレーザビーム照
射部分の中央部分と周辺部分ではビームパワーが異なる
ため、周辺部分のパワーを薄膜物質の蒸散に必要なしき
い値まで高めると、中央部分では基板ガラスに照射損傷
を与えるパワーに達するからである。
しては不充分である。なぜなら、短形のレーザビーム照
射部分の中央部分と周辺部分ではビームパワーが異なる
ため、周辺部分のパワーを薄膜物質の蒸散に必要なしき
い値まで高めると、中央部分では基板ガラスに照射損傷
を与えるパワーに達するからである。
これを防止するため、従来、ガウシアンビームの中心軸
部分のみを加工に利用している。
部分のみを加工に利用している。
発明が解決しようとする問題点
上記従来技術では、ガウシアンビームの中心軸部分のみ
加工に利用しているため、レーザパワーの利用効率が低
下するという問題がある。
加工に利用しているため、レーザパワーの利用効率が低
下するという問題がある。
発明の構成
問題点を解決するための手段
本発明のレーザ加工用光学装置は、ガウシアンビームを
そのまま開口に導くのではなく、一旦仮想的に4本のガ
ウシアンビームに分解し、再びそれぞれの中心をずらし
て重ねあわせたのち開口に導くことにより、ビーム中心
部の平坦部分を拡大し、その分レーザパワーの利用効率
を高めるように構成されている。
そのまま開口に導くのではなく、一旦仮想的に4本のガ
ウシアンビームに分解し、再びそれぞれの中心をずらし
て重ねあわせたのち開口に導くことにより、ビーム中心
部の平坦部分を拡大し、その分レーザパワーの利用効率
を高めるように構成されている。
上記中心をずらして重ねあわされた強度分布をもつレー
ザビームをつくるため、適宜な光学軸の方向を持った2
個の複屈折結晶と、1/2波長板と、位相差補償板から
なる部分光学系が備えられる。
ザビームをつくるため、適宜な光学軸の方向を持った2
個の複屈折結晶と、1/2波長板と、位相差補償板から
なる部分光学系が備えられる。
作用
この光学系の作用は次の通りである。
まず、第1の複屈折結晶により、ガウシアンビームを水
平面内でガウシアンビームのスポットサイズだけ離れた
鉛直方向および水平方向に偏光した2つのレーザビーム
に分解する。次に、この複合ビームを1/2波長板に通
し、その偏光方向を鉛直方向に対して逆向きに45度ず
つ傾いた2方向に変換する。さらにこのビームを位相差
補償板に通し、2つの偏光の位相差をπ/2とする。こ
のビームを第2の複屈折結晶に通し、そのビームに垂直
な鉛直面内でもとのガウシアンビームのスポットサイズ
だけの間隔を有するビームに分解する。
平面内でガウシアンビームのスポットサイズだけ離れた
鉛直方向および水平方向に偏光した2つのレーザビーム
に分解する。次に、この複合ビームを1/2波長板に通
し、その偏光方向を鉛直方向に対して逆向きに45度ず
つ傾いた2方向に変換する。さらにこのビームを位相差
補償板に通し、2つの偏光の位相差をπ/2とする。こ
のビームを第2の複屈折結晶に通し、そのビームに垂直
な鉛直面内でもとのガウシアンビームのスポットサイズ
だけの間隔を有するビームに分解する。
このようにして得られるレーザビームは、4本のガウシ
アンビームがそのガウシアンビームのスポットサイズだ
け移動した中心軸をもつように重ねあわされたものと同
じ強度分布をもっている。
アンビームがそのガウシアンビームのスポットサイズだ
け移動した中心軸をもつように重ねあわされたものと同
じ強度分布をもっている。
実施例
以下、本発明の一実施例を、図面を参照して、説明する
。
。
第1図は、本発明の一実施例のレーザ加工用光学装置の
構成を示す図であ、る。
構成を示す図であ、る。
lは水平方向に偏光したガウシアンモードのQスイッチ
レーザパルスを発生させるNd:Y’AGレーザ発振器
である。2は直線偏光を円偏光に変換するための水晶の
174波長板である。3は入射ビームに垂直に置かれた
方解石の平行平板であり、その光学軸は水平面内にあり
、入射ビームに対して48度傾いている。この結晶を通
過したレーザビームは水平方向の偏光を持つガウシアン
ビームと鉛直方向の偏光をもつガウシアンビームを水平
方向でずらせて重ねあわせたものとなる。
レーザパルスを発生させるNd:Y’AGレーザ発振器
である。2は直線偏光を円偏光に変換するための水晶の
174波長板である。3は入射ビームに垂直に置かれた
方解石の平行平板であり、その光学軸は水平面内にあり
、入射ビームに対して48度傾いている。この結晶を通
過したレーザビームは水平方向の偏光を持つガウシアン
ビームと鉛直方向の偏光をもつガウシアンビームを水平
方向でずらせて重ねあわせたものとなる。
4は水晶の1/2波長板であり、その光学軸は鉛直方向
から22.5度傾いた方向に設定されている。この1/
2波長板により、水平方向と鉛直方向の偏光は鉛直方向
から逆むきに45度ずつ傾いた2つの偏光に変換される
。
から22.5度傾いた方向に設定されている。この1/
2波長板により、水平方向と鉛直方向の偏光は鉛直方向
から逆むきに45度ずつ傾いた2つの偏光に変換される
。
5はバビネ=ソレイユの補償板であり、鉛直方向から逆
向きに45度ずつ傾いた2つの偏光の位相差がπ/2に
なるように調整されている。
向きに45度ずつ傾いた2つの偏光の位相差がπ/2に
なるように調整されている。
6は入射ビームに対して垂直に設置された方解石の平行
平板であり、その光学軸はビーム入射面に垂直な面内に
ありビーム入射面の垂線に対して48度傾いている。こ
の結晶を通過したレーザビームは、4本のガウシアンビ
ームを重ねあわせたもので、そのうちの2本のガウシア
ンビームは鉛直方向の偏光を有し、残りの2本のガウシ
アンビームは水平方向の偏光を有している。また同一方
向の偏光を有する2本のガウシアンビームの位相差は
+π/2となっている。
平板であり、その光学軸はビーム入射面に垂直な面内に
ありビーム入射面の垂線に対して48度傾いている。こ
の結晶を通過したレーザビームは、4本のガウシアンビ
ームを重ねあわせたもので、そのうちの2本のガウシア
ンビームは鉛直方向の偏光を有し、残りの2本のガウシ
アンビームは水平方向の偏光を有している。また同一方
向の偏光を有する2本のガウシアンビームの位相差は
+π/2となっている。
その重ねあわせの様子は、第2図に示すように、もとの
ガウシアンビームのスポットサイズの大きさを一辺とす
る正方形ABCDの角に中心を持つ4本のガウシアンビ
ームが重ねあわせられたものとなる。
ガウシアンビームのスポットサイズの大きさを一辺とす
る正方形ABCDの角に中心を持つ4本のガウシアンビ
ームが重ねあわせられたものとなる。
このような4本のレーザビームをずらして重ねあわせた
強度を持つレーザビームにおいては、第3図に示すよう
に、断面内の中央部の強度分布が単一のガウシアンビー
ムに対するものより平坦になっている。すなわち、第3
図は、第2図の直線AB上での強度分布であり、Aを原
点とした位置座標Xに 対してレーザ相対強度■が示さ
れている。
強度を持つレーザビームにおいては、第3図に示すよう
に、断面内の中央部の強度分布が単一のガウシアンビー
ムに対するものより平坦になっている。すなわち、第3
図は、第2図の直線AB上での強度分布であり、Aを原
点とした位置座標Xに 対してレーザ相対強度■が示さ
れている。
このレーザビームは、ビームエキスパンダ7によりビー
ム径が拡大され、反射鏡8で反射され、矩形開口9に導
かれ、その開口像が結像レンズ10によって被加工物1
1上に結像される。
ム径が拡大され、反射鏡8で反射され、矩形開口9に導
かれ、その開口像が結像レンズ10によって被加工物1
1上に結像される。
なお、レーザビームが方解石3に入射するときのスポッ
トサイズは0.3mmであり、方解石3と6の厚さはい
ずれも2.7mm である。
トサイズは0.3mmであり、方解石3と6の厚さはい
ずれも2.7mm である。
また、元々のレーザビーム径と矩形開口との寸法の関係
によっては、ビームエキスパンダが省略れる場合もある
。
によっては、ビームエキスパンダが省略れる場合もある
。
本発明の光学装置をレーザ薄膜加工装置に適用。
した場合の実験結果を説明する。
まず、従来の光学装置により、ガラス基板上の厚さ80
00AのITO膜を20X30μmの大きさで短形状に
除去するために、時間幅15ナノ秒、レーザ発振器出力
約1ミリジユールのレーザパルスを照射したところ、そ
のITO膜を短形状に除去することができた。しかしな
がら、ITO膜が除去されたガラス基板上の短形の中央
付近に凹凸と不透明が生じた。
00AのITO膜を20X30μmの大きさで短形状に
除去するために、時間幅15ナノ秒、レーザ発振器出力
約1ミリジユールのレーザパルスを照射したところ、そ
のITO膜を短形状に除去することができた。しかしな
がら、ITO膜が除去されたガラス基板上の短形の中央
付近に凹凸と不透明が生じた。
これに対して、本発明の光学装置で、時間幅15ナノ秒
、レーザ発振器出力約1ミリジユールのレーザパルスを
照射することにより、ITO膜を短形状に取り除き、ガ
ラス基板の損傷を検査したところ、そのような照射損傷
が全く発生しないことが確認された。
、レーザ発振器出力約1ミリジユールのレーザパルスを
照射することにより、ITO膜を短形状に取り除き、ガ
ラス基板の損傷を検査したところ、そのような照射損傷
が全く発生しないことが確認された。
発明の効果
以上詳細に説明したように、本発明の光学装置は、ガウ
シアンビームを4本ずらして重ねあわせものを開口に導
く構成であるから、ビーム中心部の平坦部分が拡大され
、その分レーザパワーの利用効率を低下させることなく
、ガラス基板に損傷を与えることもなく薄膜の除去等の
加工を行うことができる。
シアンビームを4本ずらして重ねあわせものを開口に導
く構成であるから、ビーム中心部の平坦部分が拡大され
、その分レーザパワーの利用効率を低下させることなく
、ガラス基板に損傷を与えることもなく薄膜の除去等の
加工を行うことができる。
第1図は本発明の一実施例の構成を示すブロック図、第
2図と第3図は短形開口に導かれるレーザビームの断面
内強度分布を示す図である。 1・・レーザ発振器、2・・1/4波長板、3・・方解
石の平行平板、4・・1/2波長板、5・・バビネ=ソ
レイユの補償板、6・・方解石の平行平板、7・・ビー
ムエキスパンダ、8・・反射鏡、9・・短形開口、10
・・結像レンズ、11・・被加工物、ABCD・・・4
本のガウシアンビームの中心軸。
2図と第3図は短形開口に導かれるレーザビームの断面
内強度分布を示す図である。 1・・レーザ発振器、2・・1/4波長板、3・・方解
石の平行平板、4・・1/2波長板、5・・バビネ=ソ
レイユの補償板、6・・方解石の平行平板、7・・ビー
ムエキスパンダ、8・・反射鏡、9・・短形開口、10
・・結像レンズ、11・・被加工物、ABCD・・・4
本のガウシアンビームの中心軸。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ガウシァンビームを発生させるレーザ光源、ビーム断面
内に挿入される開口及びこの開口の像を被加工物上に結
像させる結像レンズを備えたレーザ加工用光学装置にお
いて、 光路内に2個の複屈折結晶、1/2波長板及び位相差補
償板を有し前記ガウシァンビームの中心をその断面内で
水平及び垂直方向にずらした4本のガウシァンビームの
重ね合わせに変換する手段を備えたことを特徴とするレ
ーザ加工用光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60039391A JPS61198210A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | レ−ザ加工用光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60039391A JPS61198210A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | レ−ザ加工用光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61198210A true JPS61198210A (ja) | 1986-09-02 |
Family
ID=12551700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60039391A Pending JPS61198210A (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | レ−ザ加工用光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61198210A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03210520A (ja) * | 1990-01-13 | 1991-09-13 | Matsushita Electric Works Ltd | レーザ光学系装置 |
| US12607891B2 (en) | 2019-03-19 | 2026-04-21 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Optical device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5969728A (ja) * | 1982-10-14 | 1984-04-20 | Fujitsu Ltd | 楕円ビ−ムの形成方法 |
-
1985
- 1985-02-28 JP JP60039391A patent/JPS61198210A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5969728A (ja) * | 1982-10-14 | 1984-04-20 | Fujitsu Ltd | 楕円ビ−ムの形成方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03210520A (ja) * | 1990-01-13 | 1991-09-13 | Matsushita Electric Works Ltd | レーザ光学系装置 |
| US12607891B2 (en) | 2019-03-19 | 2026-04-21 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Optical device |
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