JPS597225A - 偏光解析モニタの調整方法 - Google Patents
偏光解析モニタの調整方法Info
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- JPS597225A JPS597225A JP11534882A JP11534882A JPS597225A JP S597225 A JPS597225 A JP S597225A JP 11534882 A JP11534882 A JP 11534882A JP 11534882 A JP11534882 A JP 11534882A JP S597225 A JPS597225 A JP S597225A
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- Japan
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- light source
- light
- monitor
- reflected
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/21—Polarisation-affecting properties
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は偏光解析モニタの調整方法Ｋ Ｉｉ、Ｊする
ものである。
ものである。
膜厚モニタとして発光分光法、原子吸光法、電圧変化法
、反射率変化法或いは質量分析法等が従来広〈実施さｎ
たきたが、よル高い測定精度を得る観点から最近ではこ
れらの方法に代って偏光解析法（エリシソメトリー）が
使用きれるようになってきた。しかしながら今日まで偏
光解析法を膜厚モニタとして利用した装置は、光源部と
受光部と試料ホルダとが精密加工された架台によって一
体的に構成されておシ、光軸調整もその上で行なわれて
いる。従ってこのような装置管真空プロセス装置に組み
込む際に全体を一体化することやその調整を行なうこと
は実質的に困難であシ、またモニタ装置全体を一体化し
て組み込むと、モニタ装置は大がかシとなル、そして測
定上正確さも悪くなる。さらに真空プロセス装置におい
てもモニタ装置を組み込むことを考慮して予じめ設計し
なければならず、場合によっては組み込むことができな
い場合も生じ得る。このように通常の一体構成の偏光解
析装置を真空プロセス装置にモニタ装動″とＬ７て組み
込むことは、調整操作が困難な点や真空プロセス装置の
設計変更を必要とする点等で実用的でない。
、反射率変化法或いは質量分析法等が従来広〈実施さｎ
たきたが、よル高い測定精度を得る観点から最近ではこ
れらの方法に代って偏光解析法（エリシソメトリー）が
使用きれるようになってきた。しかしながら今日まで偏
光解析法を膜厚モニタとして利用した装置は、光源部と
受光部と試料ホルダとが精密加工された架台によって一
体的に構成されておシ、光軸調整もその上で行なわれて
いる。従ってこのような装置管真空プロセス装置に組み
込む際に全体を一体化することやその調整を行なうこと
は実質的に困難であシ、またモニタ装置全体を一体化し
て組み込むと、モニタ装置は大がかシとなル、そして測
定上正確さも悪くなる。さらに真空プロセス装置におい
てもモニタ装置を組み込むことを考慮して予じめ設計し
なければならず、場合によっては組み込むことができな
い場合も生じ得る。このように通常の一体構成の偏光解
析装置を真空プロセス装置にモニタ装動″とＬ７て組み
込むことは、調整操作が困難な点や真空プロセス装置の
設計変更を必要とする点等で実用的でない。
従ってこの発明は、光源部と受光部とを全体の高さおよ
び知きを調整できるように一体化した測定部、および真
空中に取付りられる試料ホルタを分離して真やプロセス
装置に組み込む際に光軸σ４整金谷易に行なうことがで
きる偏光解析モニタの調整方法を提供することを目的と
するものである。
び知きを調整できるように一体化した測定部、および真
空中に取付りられる試料ホルタを分離して真やプロセス
装置に組み込む際に光軸σ４整金谷易に行なうことがで
きる偏光解析モニタの調整方法を提供することを目的と
するものである。
このためこの発明による調整方法は、試料ホルダにミラ
ーを置き、光源部からのレーザ光線がミラーで反則しぞ
し、て受光部の検光子表面で反射し町ひミラー上の入射
音装置と同じ位置で反射して入射レーザ光線の光路に沿
って光源部へ戻るように測定部の高さおよび傾きを調整
することを特徴としていし この発明の方法においては好ましくは一部を反射、一部
を散乱、一部を透過するミラーが用いられ、光源部から
の入射レーザ光線によるミラー上の光点と反射光線が鏡
面を有する素子の表面で反射［２て戻ってきたレーザ光
線によるミラー上の光点とを一致させるようにして調整
操作が行なわ１゜イ４する。
ーを置き、光源部からのレーザ光線がミラーで反則しぞ
し、て受光部の検光子表面で反射し町ひミラー上の入射
音装置と同じ位置で反射して入射レーザ光線の光路に沿
って光源部へ戻るように測定部の高さおよび傾きを調整
することを特徴としていし この発明の方法においては好ましくは一部を反射、一部
を散乱、一部を透過するミラーが用いられ、光源部から
の入射レーザ光線によるミラー上の光点と反射光線が鏡
面を有する素子の表面で反射［２て戻ってきたレーザ光
線によるミラー上の光点とを一致させるようにして調整
操作が行なわ１゜イ４する。
またこの発明においてＶｉ兄全反射型のミラーを用いて
検光子表面で反射したレーザ光線が再び光源部側の入射
レーザ光線の光路に戻ってくることを確認する仁とによ
り調整を行なってもよい。
検光子表面で反射したレーザ光線が再び光源部側の入射
レーザ光線の光路に戻ってくることを確認する仁とによ
り調整を行なってもよい。
以下この発明を添附図面を参照してその実施例について
説明する。
説明する。
第１図には真空装置に偏光解析モニタを組み込んだ一例
を概略的に示し、真空装＠／内には試別コを支拐する試
料ホルダ３が設けらｎｌ、また真空装置ｌの外部には測
定部ｑが設けられ、この測定部ケは枠体Ｓに一体に取付
けらＶた光源部６と受光部７とから成シ、光源部６およ
び受光部７の両光軸間の角度は加工、組立て上一定の角
度（入射角ψの２倍）になるように予じめ設定されてい
る。
を概略的に示し、真空装＠／内には試別コを支拐する試
料ホルダ３が設けらｎｌ、また真空装置ｌの外部には測
定部ｑが設けられ、この測定部ケは枠体Ｓに一体に取付
けらＶた光源部６と受光部７とから成シ、光源部６およ
び受光部７の両光軸間の角度は加工、組立て上一定の角
度（入射角ψの２倍）になるように予じめ設定されてい
る。
捷だ測足部グには全体の高きおよび傾きを調整できるよ
うに微訃１整ねじ等ｇが設けられている。また４７図に
おいてｔｔ４ａ、７ａはそｎぞれ光源部６および受光部
７の曲端の光軸上に設けられたピンホール部杓を表わす
。
うに微訃１整ねじ等ｇが設けられている。また４７図に
おいてｔｔ４ａ、７ａはそｎぞれ光源部６および受光部
７の曲端の光軸上に設けられたピンホール部杓を表わす
。
次にこの発明の調整方法について説明する。＾空装置Ｆ
Ｉ′ｌ内に取付けられた試料ホルダ３に試別コの代わり
に一部を反射、一部を散乱、一部を透過するミラータを
直ぐ。測定部グにおける受光部７Ｋ ＶＪ検光子（図示
されてない）又は表面が細菌である素子がその端面を光
軸に対して垂直とするように設けられている。そのため
検光子表向で反射しまた光Ｆ・１け１２図に示すように
検光子に垂直に入射した場合を除き、同じ光路を通って
戻ることにない。従って常に受光部７のビンホールクａ
を辿るように注意しながらミラーを土万オたは下方よシ
観察しながら光源部６からの入射レーザ光線による光点
ＡＣｔｌ’、３ｒ５ｔ’）と反射光が一度検光子表面で
反射して戻ってまたレーザ光線による光点Ｂ（第３図）
とが一致するように枠体Ｓｒ／Ｃ取付りらｎた微調整ね
じｇを操作して測定部ｑの高さおよび（甘たは）傾きを
調整する。これによって光源部乙の光軸と受光部７の光
軸とをミラー表面で一致きせしかもミラー表面に対して
等角度にきせることができる。
Ｉ′ｌ内に取付けられた試料ホルダ３に試別コの代わり
に一部を反射、一部を散乱、一部を透過するミラータを
直ぐ。測定部グにおける受光部７Ｋ ＶＪ検光子（図示
されてない）又は表面が細菌である素子がその端面を光
軸に対して垂直とするように設けられている。そのため
検光子表向で反射しまた光Ｆ・１け１２図に示すように
検光子に垂直に入射した場合を除き、同じ光路を通って
戻ることにない。従って常に受光部７のビンホールクａ
を辿るように注意しながらミラーを土万オたは下方よシ
観察しながら光源部６からの入射レーザ光線による光点
ＡＣｔｌ’、３ｒ５ｔ’）と反射光が一度検光子表面で
反射して戻ってまたレーザ光線による光点Ｂ（第３図）
とが一致するように枠体Ｓｒ／Ｃ取付りらｎた微調整ね
じｇを操作して測定部ｑの高さおよび（甘たは）傾きを
調整する。これによって光源部乙の光軸と受光部７の光
軸とをミラー表面で一致きせしかもミラー表面に対して
等角度にきせることができる。
また配置の関係でミラー面が見にくいときには完全反射
型のミラーを使用して調整は検光子表面で反射しまたレ
ーザ光が）″が再び光源部器のビン７１（−ル４ａＫ戻
ってくることで確認するようにすることができる。
型のミラーを使用して調整は検光子表面で反射しまたレ
ーザ光が）″が再び光源部器のビン７１（−ル４ａＫ戻
ってくることで確認するようにすることができる。
以上説明してきたようにこの発明σ］方力法用いれは、
真空プロセス装置に対する偏光解析モニタの組み込みを
面倒な調整操作や真空プロセス装置ｒ（自体の実質的な
設計変更または改造なし、に（′ｔなわちレーザ光線を
人出烙せる覗窓を二つ設けるたけて）容易に行なうこと
ができる。
真空プロセス装置に対する偏光解析モニタの組み込みを
面倒な調整操作や真空プロセス装置ｒ（自体の実質的な
設計変更または改造なし、に（′ｔなわちレーザ光線を
人出烙せる覗窓を二つ設けるたけて）容易に行なうこと
ができる。
第１■１はこの発明の方法を実施し、ている偏光解析モ
ニタを示す概略図、第２，３図は方法の説明図である。 図中、／：真空装置、３：試料ホルダ、１１．：測定部
、９：ミラー。 第３図
ニタを示す概略図、第２，３図は方法の説明図である。 図中、／：真空装置、３：試料ホルダ、１１．：測定部
、９：ミラー。 第３図
Claims (1)
- 光源部と受光部とを全体の高さおよび傾きを調整できる
ように一体化した測定部、および真空中に取付けらねる
試別ホルダを分離して真空プロセス装置に組込むように
した偏光解相モニタの調整方法において、上記試料ホル
ダにミラーを置き、光源部からのレーザ光線がミラーで
反射しそして受光部の表面が鏡面である素子で反射し、
再びミラー上の入射位置と同じ位置で反射して入射レー
ザ光線の光路に沿って光源部へ戻るように測定部の高さ
および傾きを調整することを％徴とする偏光解析モニタ
の調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11534882A JPS597225A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 偏光解析モニタの調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11534882A JPS597225A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 偏光解析モニタの調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS597225A true JPS597225A (ja) | 1984-01-14 |
| JPS6224730B2 JPS6224730B2 (ja) | 1987-05-29 |
Family
ID=14660296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11534882A Granted JPS597225A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 偏光解析モニタの調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS597225A (ja) |
-
1982
- 1982-07-05 JP JP11534882A patent/JPS597225A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6224730B2 (ja) | 1987-05-29 |
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