JPS6224730B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6224730B2 JPS6224730B2 JP11534882A JP11534882A JPS6224730B2 JP S6224730 B2 JPS6224730 B2 JP S6224730B2 JP 11534882 A JP11534882 A JP 11534882A JP 11534882 A JP11534882 A JP 11534882A JP S6224730 B2 JPS6224730 B2 JP S6224730B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- light source
- reflected
- section
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 13
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000001479 atomic absorption spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/21—Polarisation-affecting properties
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は偏光解析モニタの調整方法に関する
ものである。
ものである。
膜厚モニタとして発光分光法、原子吸光法、電
圧変化法、反射率変化法或いは質量分析法等が従
来広く実施されてきたが、より高い測定精度を得
る観点から最近ではこれらの方法に代つて偏光解
析法（エリプソメトリー）が使用されるようにな
つてきた。しかしながら今日まで偏光解析法を膜
厚モニタとして利用した装置は、光源部と受光部
と試料モルダとが精密加工された架台によつて一
体的に構成されており、光軸調整もその上で行な
われている。従つてこのような装置を真空プロセ
ス装置に組み込む際に全体を一体化することやそ
の調整を行なうことは実質的に困難であり、また
モニタ装置全体を一体化して組み込むと、モニタ
装置は大がかりとなり、そして測定上正確さも悪
くなる。さらに真空プロセス装置においてもモニ
タ装置を組み込むことを考慮して予じめ設計しな
ければならず、場合によつては組み込むことがで
きない場合も生じ得る。このように通常の一体構
成の偏光解析装置を真空プロセス装置にモニタ装
置として組み込むことは、調整操作が困難な点や
真空プロセス装置の設計変更を必要とする点等で
実用的でない。
圧変化法、反射率変化法或いは質量分析法等が従
来広く実施されてきたが、より高い測定精度を得
る観点から最近ではこれらの方法に代つて偏光解
析法（エリプソメトリー）が使用されるようにな
つてきた。しかしながら今日まで偏光解析法を膜
厚モニタとして利用した装置は、光源部と受光部
と試料モルダとが精密加工された架台によつて一
体的に構成されており、光軸調整もその上で行な
われている。従つてこのような装置を真空プロセ
ス装置に組み込む際に全体を一体化することやそ
の調整を行なうことは実質的に困難であり、また
モニタ装置全体を一体化して組み込むと、モニタ
装置は大がかりとなり、そして測定上正確さも悪
くなる。さらに真空プロセス装置においてもモニ
タ装置を組み込むことを考慮して予じめ設計しな
ければならず、場合によつては組み込むことがで
きない場合も生じ得る。このように通常の一体構
成の偏光解析装置を真空プロセス装置にモニタ装
置として組み込むことは、調整操作が困難な点や
真空プロセス装置の設計変更を必要とする点等で
実用的でない。
従つてこの発明は、光源部と受光部とを全体の
高さおよび傾きを調整できるように一体化した測
定部、および真空中に取付けられる試料ホルダを
分離して真空プロセス装置に組み込む際に光軸調
整を容易に行なうことができる偏光解析モニタの
調整方法を提供することを目的とするものであ
る。このためこの発明による調整方法は、試料ホ
ルダにミラーを置き、光源部からのレーザ光線が
ミラーで反射しそして受光部の検光子表面で反射
し再びミラー上の入射位置と同じ位置で反射して
入射レーザ光線の光路に沿つて光源部へ戻るよう
にすることにより光軸を調整することを特徴とし
ている。
高さおよび傾きを調整できるように一体化した測
定部、および真空中に取付けられる試料ホルダを
分離して真空プロセス装置に組み込む際に光軸調
整を容易に行なうことができる偏光解析モニタの
調整方法を提供することを目的とするものであ
る。このためこの発明による調整方法は、試料ホ
ルダにミラーを置き、光源部からのレーザ光線が
ミラーで反射しそして受光部の検光子表面で反射
し再びミラー上の入射位置と同じ位置で反射して
入射レーザ光線の光路に沿つて光源部へ戻るよう
にすることにより光軸を調整することを特徴とし
ている。
この発明の方法においては好ましくは一部を反
射、一部を散乱、一部を透過するミラーが用いら
れ、光源部からの入射レーザ光線によるミラー上
の光点と反射光線が鏡面を有する素子の表面で反
射して戻つてきたレーザ光線によるミラー上の光
点とを一致させるようにして調整操作が行なわれ
得る。
射、一部を散乱、一部を透過するミラーが用いら
れ、光源部からの入射レーザ光線によるミラー上
の光点と反射光線が鏡面を有する素子の表面で反
射して戻つてきたレーザ光線によるミラー上の光
点とを一致させるようにして調整操作が行なわれ
得る。
またこの発明においては完全反射型のミラーを
用いて検光子表面で反射したレーザ光線が再び光
源部側の入射レーザ光線の光路に戻つてくること
を確認することにより調整を行なつてもよい。
用いて検光子表面で反射したレーザ光線が再び光
源部側の入射レーザ光線の光路に戻つてくること
を確認することにより調整を行なつてもよい。
以下この発明を添附図面を参照してその実施例
について説明する。
について説明する。
第１図には真空装置に偏光解析モニタを組み込
んだ一例を概略的に示し、真空装置１内には試料
２を支持する試料ホルダ３が設けられ、また真空
装置１の外部には測定部４が設けられ、この測定
部４は枠体５に一体に取付けられた光源部６と受
光部７とから成り、光源部６および受光部７の両
光軸間の角度は加工、組立て上一定の角度（入射
角の２倍）になるように予じめ設定されてい
る。また測定部４には全体の高さおよび傾きを調
整できるように微調整ねじ等８が設けられてい
る。また第１図においては６ａ，７ａはそれぞれ
光源部６および受光部７の前端の光軸上に設けら
れたピンホール部材を表わす。
んだ一例を概略的に示し、真空装置１内には試料
２を支持する試料ホルダ３が設けられ、また真空
装置１の外部には測定部４が設けられ、この測定
部４は枠体５に一体に取付けられた光源部６と受
光部７とから成り、光源部６および受光部７の両
光軸間の角度は加工、組立て上一定の角度（入射
角の２倍）になるように予じめ設定されてい
る。また測定部４には全体の高さおよび傾きを調
整できるように微調整ねじ等８が設けられてい
る。また第１図においては６ａ，７ａはそれぞれ
光源部６および受光部７の前端の光軸上に設けら
れたピンホール部材を表わす。
次にこの発明の調整方法ついて説明する。真空
装置１内に取付けられた試料ホルダ３に試料２の
代わりに一部を反射、一部を散乱、一部を透過す
るミラー９を置く。測定部４における受光部７に
は検光子（図示されてない）又は表面が鏡面であ
る素子がその端面を光軸に対して垂直とするよう
に設けられている。そのため検光子表面で反射し
た光線は第２図に示すように検光子に垂直に入射
した場合を除き、同じ光路を通つて戻ることはな
い。従つて常に受光部７のピンホール７ａを通る
ように注意しながらミラーを上方または下方より
観察しながら光源部６からの入射レーザ光線によ
る光点Ａ（第３図）と反射光が一度検光子表面で
反射して戻つてまたレーザ光線による光点Ｂ（第
３図）とが一致するように枠体５に取付けられた
微調整ねじ８を操作して測定部４の高さおよび
（または）傾きを調整する。これによつて光源部
６の光軸と受光部７の光軸とをミラー表面で一致
させしかもミラー表面に対して等角度にさせるこ
とができる。
装置１内に取付けられた試料ホルダ３に試料２の
代わりに一部を反射、一部を散乱、一部を透過す
るミラー９を置く。測定部４における受光部７に
は検光子（図示されてない）又は表面が鏡面であ
る素子がその端面を光軸に対して垂直とするよう
に設けられている。そのため検光子表面で反射し
た光線は第２図に示すように検光子に垂直に入射
した場合を除き、同じ光路を通つて戻ることはな
い。従つて常に受光部７のピンホール７ａを通る
ように注意しながらミラーを上方または下方より
観察しながら光源部６からの入射レーザ光線によ
る光点Ａ（第３図）と反射光が一度検光子表面で
反射して戻つてまたレーザ光線による光点Ｂ（第
３図）とが一致するように枠体５に取付けられた
微調整ねじ８を操作して測定部４の高さおよび
（または）傾きを調整する。これによつて光源部
６の光軸と受光部７の光軸とをミラー表面で一致
させしかもミラー表面に対して等角度にさせるこ
とができる。
また配置の関係でミラー面が見にくいときには
完全反射型のミラーを使用して調整は検光子表面
で反射したレーザ光線が再び光源部側のピンホー
ル６ａに戻つてくることで確認するようにするこ
とができる。
完全反射型のミラーを使用して調整は検光子表面
で反射したレーザ光線が再び光源部側のピンホー
ル６ａに戻つてくることで確認するようにするこ
とができる。
以上説明してきたようにこの発明の方法を用い
れば、真空プロセス装置に対する偏光解析モニタ
の組み込みを面倒な調整操作や真空プロセス装置
自体の実質的な設計変更または改造なしに（すな
わちレーザ光線を入出させる覗窓を二つ設けるだ
けで）容易に行なうことができる。
れば、真空プロセス装置に対する偏光解析モニタ
の組み込みを面倒な調整操作や真空プロセス装置
自体の実質的な設計変更または改造なしに（すな
わちレーザ光線を入出させる覗窓を二つ設けるだ
けで）容易に行なうことができる。
第１図はこの発明の方法を実施している偏光解
析モニタを示す概略図、第２，３図は方法の説明
図である。 図中、１…真空装置、３…試料ホルダ、４…測
定部、９…ミラー。
析モニタを示す概略図、第２，３図は方法の説明
図である。 図中、１…真空装置、３…試料ホルダ、４…測
定部、９…ミラー。
Claims (1)
- １ 光源部と受光部とを全体の高さおよび傾きを
調整できるように一体化した測定部と、真空中に
取付けられる試料ホルダとを分離して真空プロセ
ス装置に組込むようにした偏光解析モニタの調整
方法において、上記試料ホルダにミラーを置き、
光源部からのレーザ光線がミラーで反射しそして
受光部の表面が鏡面である素子で反射し再びミラ
ー上の入射位置と同じ位置で反射して入射レーザ
光線の光路に沿つて光源部へ戻るようにすること
により光軸を調整することを特徴とする偏光解析
モニタの調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11534882A JPS597225A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 偏光解析モニタの調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11534882A JPS597225A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 偏光解析モニタの調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS597225A JPS597225A (ja) | 1984-01-14 |
| JPS6224730B2 true JPS6224730B2 (ja) | 1987-05-29 |
Family
ID=14660296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11534882A Granted JPS597225A (ja) | 1982-07-05 | 1982-07-05 | 偏光解析モニタの調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS597225A (ja) |
-
1982
- 1982-07-05 JP JP11534882A patent/JPS597225A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS597225A (ja) | 1984-01-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Kao et al. | Spectrophotometric studies of ultra low loss optical glasses I: single beam method | |
| JP2004504590A (ja) | コンパクトな分光エリプソメータ | |
| JPH0153401B2 (ja) | ||
| JPH10510365A (ja) | 赤外微量分光計付属装置 | |
| US5278413A (en) | Infrared microscopic spectrometer | |
| EP0396409A3 (en) | High resolution ellipsometric apparatus | |
| JPH0131130B2 (ja) | ||
| US4976543A (en) | Method and apparatus for optical distance measurement | |
| US4972092A (en) | Apparatus for determining the effective surface roughness of polished optical samples by measuring the integral scattered radiation | |
| JPH0554902B2 (ja) | ||
| FR2485189A1 (fr) | Spectroscope optique a reseaux et miroirs pour microscope electronique a balyage | |
| US4171910A (en) | Retroreflectance measurement system | |
| US6788398B1 (en) | Far-field scanning apparatus and method for rapid measurement of light source characteristics with high dynamic range | |
| JPS6224730B2 (ja) | ||
| US4659933A (en) | Surface analyzer and method | |
| JP2985745B2 (ja) | レーザ回折式粒度分布測定装置 | |
| WO1991014935A1 (en) | A method and an apparatus for cleaning control | |
| US4571084A (en) | Tube end squareness projector apparatus | |
| US3498720A (en) | Concave grating ultraviolet vacuum spectrometer | |
| EP0065429A1 (fr) | Procédé et dispositif de mesure optique de déplacement et application aux photorépéteurs sur tranche | |
| JPS6237330B2 (ja) | ||
| US3751171A (en) | Apparatus for adapting a spectrophotometer to perform the function of a densitometer | |
| EP0204090B1 (en) | Spectrophotometer | |
| US3369446A (en) | Reflectance accessory | |
| JPH10142055A (ja) | 分光光度計 |