JPS597360A - 光源発生装置 - Google Patents
光源発生装置Info
- Publication number
- JPS597360A JPS597360A JP58044618A JP4461883A JPS597360A JP S597360 A JPS597360 A JP S597360A JP 58044618 A JP58044618 A JP 58044618A JP 4461883 A JP4461883 A JP 4461883A JP S597360 A JPS597360 A JP S597360A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- array
- optical fiber
- lens
- lens array
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0911—Anamorphotic systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
- G02B27/0961—Lens arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0075—Arrays characterized by non-optical structures, e.g. having integrated holding or alignment means
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/04—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings formed by bundles of fibres
- G02B6/06—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings formed by bundles of fibres the relative position of the fibres being the same at both ends, e.g. for transporting images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[本発明の技術分野]
本発明は、光学的映像装置に係り、更に具体的に云えば
、コリメー1へさ汎た光ビー11を任意の形状及び開[
−1数を有する自己発光源に変換させる光学装置に係る
。
、コリメー1へさ汎た光ビー11を任意の形状及び開[
−1数を有する自己発光源に変換させる光学装置に係る
。
し従来技術]
超小型電T−素了に於ける回路密度が増すとともに、よ
り高い解像度のパターンをより速い処理速度で生し得る
主々の高解像度リソグラフィ技術が必要とされている。
り高い解像度のパターンをより速い処理速度で生し得る
主々の高解像度リソグラフィ技術が必要とされている。
光学的リソグラフィに於て、より短い波長を用いること
により解像度が改良され得ることは周知である。そのた
めに、遠紫外線スペクトル領域に於ける露光を必要とす
る方法及び材料を開発する試みが成されている。それら
の従来技術に於て伝統的に用いられている)1(J源は
、ジューテリウムナJ又はキセノン−水銀アーク灯のい
ずれかであった。その様な光源を用いた場合の問題は、
所望のスペクトル領域に於てそれから充分なパワーが得
られないことである。成る典型的装置に於る成る典型的
光源に於ては、使用に於て集められ得る遠紫外線領域の
全パワーが数十ミリワラ1〜の範囲であり、従って遠紫
外線領域に於て敏感なレンズ1〜のための露光時間は典
型的には数分間である。
により解像度が改良され得ることは周知である。そのた
めに、遠紫外線スペクトル領域に於ける露光を必要とす
る方法及び材料を開発する試みが成されている。それら
の従来技術に於て伝統的に用いられている)1(J源は
、ジューテリウムナJ又はキセノン−水銀アーク灯のい
ずれかであった。その様な光源を用いた場合の問題は、
所望のスペクトル領域に於てそれから充分なパワーが得
られないことである。成る典型的装置に於る成る典型的
光源に於ては、使用に於て集められ得る遠紫外線領域の
全パワーが数十ミリワラ1〜の範囲であり、従って遠紫
外線領域に於て敏感なレンズ1〜のための露光時間は典
型的には数分間である。
従来の投影装置においては、開1−1の一イ法を変える
ことにより、照射の円錐角度か変えられ、従って部分的
コヒーレンス及びそれにイ゛rう端部解像度も変えられ
る様に、開11絞りか設しづられている。
ことにより、照射の円錐角度か変えられ、従って部分的
コヒーレンス及びそれにイ゛rう端部解像度も変えられ
る様に、開11絞りか設しづられている。
しかしながら、その間]」絞りは叉、該投影装置に入る
金光叶を限定するので、より良い端部M像を達成するた
めには、より長い露光時間が必要とされる。
金光叶を限定するので、より良い端部M像を達成するた
めには、より長い露光時間が必要とされる。
[本発明の概要]
従って、本発明の目的は、コリメ−1へされた光を任意
の形状及び開1」数を有する自己発光源に変換させる光
学装置を提供することである。
の形状及び開1」数を有する自己発光源に変換させる光
学装置を提供することである。
本発明は、コリメーとされた光を所定の径路に沿って方
向づけるための第1光学手段と;」−記のコリメーとさ
れた光を受取る様に上記所定の径路にd−1つて配置さ
れ、所定の開ri数を有する複数の点光源を形成するレ
ンズ配列体を含む、第2光学手段と;」二記レンズ配列
体に於ける異なる1つのレンズから光を受取る様に配置
された各光ファイバの入力端部、及び所定の形状を有す
る自己発光源(seJf −Jumj nous 5o
urc、e)を発生する様に配置された各光ファイバの
出力端部を有している光フアイバ配列体とを含む;コリ
メー1−された光から所定の形状及び開11数を有する
光源を発生させるための装置を提供する。
向づけるための第1光学手段と;」−記のコリメーとさ
れた光を受取る様に上記所定の径路にd−1つて配置さ
れ、所定の開ri数を有する複数の点光源を形成するレ
ンズ配列体を含む、第2光学手段と;」二記レンズ配列
体に於ける異なる1つのレンズから光を受取る様に配置
された各光ファイバの入力端部、及び所定の形状を有す
る自己発光源(seJf −Jumj nous 5o
urc、e)を発生する様に配置された各光ファイバの
出力端部を有している光フアイバ配列体とを含む;コリ
メー1−された光から所定の形状及び開11数を有する
光源を発生させるための装置を提供する。
[本発明の実施例コ
第1図に示されている本発明の1実施例による光源発生
装置は、好ましくはエクシクマ・レーザである、レーザ
10の如き適当な源からの光を用いている。エフシマ・
レーザは、略コリメートされた略矩形の出カビ−111
2を発生する。それから、ビームI2は、コリメー1−
さ]した状態を維持してビーム4゛法を変えるレンズ1
4及びIGより成る円柱(即ち、アナモルフィック)≦
〃遠鏡により、その矩形の形状が変えられる。次に、該
ビームは、成る選択された開「1数を有する複数の焦結
された点を形成する複眼レンズ(1’]、y ′s e
ye 1ens)配列体20に入射する。レンズ配列体
20の後には、該レンズ配列体20からの焦結されたビ
ームを受取る様に矩形の構造をめする入力端部24を有
している光フアイバ配列体22か配置されている。光フ
アイバ配列体22は、その出力端部26に於て、任、育
、の所望の構造を有し得る。第5図に示されている特定
の実施例に於ては、光ファイ八配列体22が、従来のノ
第1〜リソグラフィ投影装置の必要条件に適合する様な
構造に形成さitでおり、光ファイバ配列体22の出力
端部2Gが、該投影装置への光入力に適合する様に、弧
状に配列されている。
装置は、好ましくはエクシクマ・レーザである、レーザ
10の如き適当な源からの光を用いている。エフシマ・
レーザは、略コリメートされた略矩形の出カビ−111
2を発生する。それから、ビームI2は、コリメー1−
さ]した状態を維持してビーム4゛法を変えるレンズ1
4及びIGより成る円柱(即ち、アナモルフィック)≦
〃遠鏡により、その矩形の形状が変えられる。次に、該
ビームは、成る選択された開「1数を有する複数の焦結
された点を形成する複眼レンズ(1’]、y ′s e
ye 1ens)配列体20に入射する。レンズ配列体
20の後には、該レンズ配列体20からの焦結されたビ
ームを受取る様に矩形の構造をめする入力端部24を有
している光フアイバ配列体22か配置されている。光フ
アイバ配列体22は、その出力端部26に於て、任、育
、の所望の構造を有し得る。第5図に示されている特定
の実施例に於ては、光ファイ八配列体22が、従来のノ
第1〜リソグラフィ投影装置の必要条件に適合する様な
構造に形成さitでおり、光ファイバ配列体22の出力
端部2Gが、該投影装置への光入力に適合する様に、弧
状に配列されている。
第1図に於ける複眼レンズ配列体20と光ファイバ配列
体22との関係が、第2図に於てより詳8・1■に示さ
れている。レンズ14及びj6により修正さイシたレー
ザ10からの矩形の光ビー11は、複眼レンズ配列体2
0の略全体に入射する。第3Δ図に示されているレンズ
配列体20は、円形のレンズ素子の100%よりも低い
実装密度によ−〕で生しる効率の損失を除くために、正
方形の断面を有するレンズの配列体28より成る。第3
B図に示されている他のレンズ配列体20’は、六角形
の断面を有するレンズの配列体28′より成る。
体22との関係が、第2図に於てより詳8・1■に示さ
れている。レンズ14及びj6により修正さイシたレー
ザ10からの矩形の光ビー11は、複眼レンズ配列体2
0の略全体に入射する。第3Δ図に示されているレンズ
配列体20は、円形のレンズ素子の100%よりも低い
実装密度によ−〕で生しる効率の損失を除くために、正
方形の断面を有するレンズの配列体28より成る。第3
B図に示されている他のレンズ配列体20’は、六角形
の断面を有するレンズの配列体28′より成る。
配列体20を構成するレンズ28又は配列体20’を構
成するレンズ28′の開[二1数は、光ファイバ配列体
22を構成する個々の光ファイバr)0のコア32(第
4図)の全体に光か入射しない様に選択される。第4図
に示されている如く、その様な入射は、光ファイバのク
ララF 36 J:に入η・jすることにより光が損失
されることがない様に、コア32を100%よりも少な
く照射する。光ファイバ30の出力端部26(第1図)
に於ける発散(開口数)は、該光ファイバにより、複眼
レンズ配列体20に於けるレンズ28の開1」数と同一
である様に維持される。光ファイバ30の長さに7Qつ
て生じる多重内部反射及び異なる光ファイバからの光の
分布間の重複によって、光ファイバ配列体22の出力端
部26に於ける分布が自己発光源、即ち各々良好に限定
された冊【−1数を牛しる照射中心の連続的集合体とし
て働く。
成するレンズ28′の開[二1数は、光ファイバ配列体
22を構成する個々の光ファイバr)0のコア32(第
4図)の全体に光か入射しない様に選択される。第4図
に示されている如く、その様な入射は、光ファイバのク
ララF 36 J:に入η・jすることにより光が損失
されることがない様に、コア32を100%よりも少な
く照射する。光ファイバ30の出力端部26(第1図)
に於ける発散(開口数)は、該光ファイバにより、複眼
レンズ配列体20に於けるレンズ28の開1」数と同一
である様に維持される。光ファイバ30の長さに7Qつ
て生じる多重内部反射及び異なる光ファイバからの光の
分布間の重複によって、光ファイバ配列体22の出力端
部26に於ける分布が自己発光源、即ち各々良好に限定
された冊【−1数を牛しる照射中心の連続的集合体とし
て働く。
上述の如き構造に形成された光ファイバ配列体を用いる
ことにより、それらの)℃ファイバは、その出力端部に
於て、例えは半円形、楕円形、放物線状又は他の住方、
の形状の如き特定の要求に適合する様に住方、の所望の
構造に111分41さ汎得るので著しい融通性か得られ
る。第5図に示されている構造は、従来のフオI〜リソ
クラフイ投影装置のための光源としてエフシマ・レーザ
を用いることを可能にする。その結果、該投影装置に必
要とされた露光時間よりも約2桁分速い露光時間が実現
される。この変化は、その様な適用例に於ける処理速度
を著しく増加させ得る。
ことにより、それらの)℃ファイバは、その出力端部に
於て、例えは半円形、楕円形、放物線状又は他の住方、
の形状の如き特定の要求に適合する様に住方、の所望の
構造に111分41さ汎得るので著しい融通性か得られ
る。第5図に示されている構造は、従来のフオI〜リソ
クラフイ投影装置のための光源としてエフシマ・レーザ
を用いることを可能にする。その結果、該投影装置に必
要とされた露光時間よりも約2桁分速い露光時間が実現
される。この変化は、その様な適用例に於ける処理速度
を著しく増加させ得る。
第6図に示されている他の実施例に於ては、複数のイン
デックス可能な位置に回転され得る様に適当なフレーム
部材41により支持されている円板421:に、複数の
レンズ配列体40が装着されている。各レンズ配列体4
0は、複眼レンズ配列体20と同様な構成の複眼レンズ
配列体より成る。
デックス可能な位置に回転され得る様に適当なフレーム
部材41により支持されている円板421:に、複数の
レンズ配列体40が装着されている。各レンズ配列体4
0は、複眼レンズ配列体20と同様な構成の複眼レンズ
配列体より成る。
しかしながら、レンズ配列体40に於ける各レンズの焦
点距離は、適当に配置されることにより、選択されたレ
ンズ配列体40a乃至40d (第7図)が光フアイバ
配列体中に入射する選択された開口数を生しる様に、レ
ンズ配列体40a乃至40dの各々に於けるレンズに於
て異なっている。
点距離は、適当に配置されることにより、選択されたレ
ンズ配列体40a乃至40d (第7図)が光フアイバ
配列体中に入射する選択された開口数を生しる様に、レ
ンズ配列体40a乃至40dの各々に於けるレンズに於
て異なっている。
フレーム部材44は、光フアイバ配列体22の入力端部
24に関して横方向へ複数の位置に選択可能に移動され
得る。そのフレーム部材44の横方向位置は、フレー1
1部材44を装置フレーl\48に関して選択的に位置
づけるティテン1ル機構4Gによって調節され、横方向
位置の各々にディテント・ノツチ46a乃至46dが設
けられている。
24に関して横方向へ複数の位置に選択可能に移動され
得る。そのフレーム部材44の横方向位置は、フレー1
1部材44を装置フレーl\48に関して選択的に位置
づけるティテン1ル機構4Gによって調節され、横方向
位置の各々にディテント・ノツチ46a乃至46dが設
けられている。
選択されたレンズ配列体40a乃至/lodの1つを動
作位置に移動させるために、円板42をその放射状の位
置の1つにロックさせる様に、ディテン1−・ノツチ4
7a乃至47dと協働し得る、第2のディテント機構4
7が設けられている。この機構により、投影装置に必要
な開[」数の各々に対して、成る特定のレンズ配列体4
o及びディテント位置が与えられる。その選択は、任意
の適当な機械的、電気的、又は電気機械的手段によって
行われ得る。
作位置に移動させるために、円板42をその放射状の位
置の1つにロックさせる様に、ディテン1−・ノツチ4
7a乃至47dと協働し得る、第2のディテント機構4
7が設けられている。この機構により、投影装置に必要
な開[」数の各々に対して、成る特定のレンズ配列体4
o及びディテント位置が与えられる。その選択は、任意
の適当な機械的、電気的、又は電気機械的手段によって
行われ得る。
次に示す表は、成る特定の投影装置に於て用いらAしる
ために適している一連のレンズ配列体を用いた、1つの
特定の実施例を示している。
ために適している一連のレンズ配列体を用いた、1つの
特定の実施例を示している。
未−
一吃イヌー酔歿俸 −元ゑ元ン上囮号 4一致 風旦
数40a 716a 3.5
0.11140b /16b
4.2 0.12/lOc
46c 5.8 0.0940
d /16d 8.1 0.0
6投影装置のために成る特定の開口数が選択され得るも
う1つの実施例が第8図に示されている。
数40a 716a 3.5
0.11140b /16b
4.2 0.12/lOc
46c 5.8 0.0940
d /16d 8.1 0.0
6投影装置のために成る特定の開口数が選択され得るも
う1つの実施例が第8図に示されている。
この実施例に於ては、複数のインデックス可能な位置に
回転され得る様に適当なフレー11部月54により支持
されている円板52上に装着されている複数のレンズ配
列体50(50a乃至50d)とともに、レンズ配列体
20が用いられている。
回転され得る様に適当なフレー11部月54により支持
されている円板52上に装着されている複数のレンズ配
列体50(50a乃至50d)とともに、レンズ配列体
20が用いられている。
この実施例に於ては、複数のレンズ配列体50の1つと
配列体20との組合せによって、所望の開L1数が得ら
肛る。フレーム部材54を横方向に位置づけるために、
ティテント機横46と同様なディテント機構か設けられ
賀る。又、ディテン1〜・ノツチ57a乃至57d (
第9図)と協働し得る、ディテン1−機構47と同様な
ディテン1−機構も設けられ得る。
配列体20との組合せによって、所望の開L1数が得ら
肛る。フレーム部材54を横方向に位置づけるために、
ティテント機横46と同様なディテント機構か設けられ
賀る。又、ディテン1〜・ノツチ57a乃至57d (
第9図)と協働し得る、ディテン1−機構47と同様な
ディテン1−機構も設けられ得る。
更にもう1つの実施例に於ては、複数のインテックスI
IJ能な位置に回転され得る様に適当なフレー11部材
により支持されている円板上に装着されている複数のレ
ンズが、複眼レンズ配列体20とともに用いられる。こ
の実施例に於ける上記円板」二のレンズは各々、複眼レ
ンズ配列体40又は50てなく、1つの球面レンズより
成っている。円板−J二の各レンズは、適当に配置され
ることにより、選択されたレンズが複眼レンズ配列体2
0とともに光フアイバ配列体に選択された開に1数を生
じる様に、異なる焦点距離を有している。所望であれは
、フレー11部材を横方向に位置づけるために、ディテ
ント機構が設けられ得る。この実施例に於ては、光ファ
イバの入力端部が、それらをレンズ配列体20の軸と整
合させるために、調節可能にされてもよい。
IJ能な位置に回転され得る様に適当なフレー11部材
により支持されている円板上に装着されている複数のレ
ンズが、複眼レンズ配列体20とともに用いられる。こ
の実施例に於ける上記円板」二のレンズは各々、複眼レ
ンズ配列体40又は50てなく、1つの球面レンズより
成っている。円板−J二の各レンズは、適当に配置され
ることにより、選択されたレンズが複眼レンズ配列体2
0とともに光フアイバ配列体に選択された開に1数を生
じる様に、異なる焦点距離を有している。所望であれは
、フレー11部材を横方向に位置づけるために、ディテ
ント機構が設けられ得る。この実施例に於ては、光ファ
イバの入力端部が、それらをレンズ配列体20の軸と整
合させるために、調節可能にされてもよい。
第6図、第7図、第8図及び第9図に示されている各実
施例は、投影装置に入射する光全体を実質的に変えずに
、選択的に変更可能な開L−1数を有するリソグラフィ
投影装置を達成する。従って、本発明の装置は、光量及
び照射の円錐角度(開「J数)が相互に依存しない装置
の利点を達成し、その結果端部解像度と露光時間との間
のバランスをとる必要がなくなる。
施例は、投影装置に入射する光全体を実質的に変えずに
、選択的に変更可能な開L−1数を有するリソグラフィ
投影装置を達成する。従って、本発明の装置は、光量及
び照射の円錐角度(開「J数)が相互に依存しない装置
の利点を達成し、その結果端部解像度と露光時間との間
のバランスをとる必要がなくなる。
第1図は本発明の1好実施例による光源発生装置を示す
概略図、第2図は第1図に於ける複眼レンズ配列体及び
光フアイバ配列体を一部断面図により更に詳細に示す図
、第3A図は第2図の線3−3に於ける断面図、第3B
図はレンズ配列体20の他の実施例の端部を示す図、第
4図は第2図の線4−/Iに於ける断面図、第5図は第
1図の光フアイバ配列体に於ける出力端部を示す図、第
6図は開1−1数を調節するために選択的に動作されろ
様に複数の複眼レンズ配列体か′!A、若さIl、でい
る、本発明の他の実施例を示す概略図、第7図は第6図
の回転円板を示す平面図、第8図は開11数を調節する
ために選択的に動作される+U数の+51眼レンズ配列
体と組合わ仕で、定置された複眼レンズ配列体が用いら
れている、本発明のもう1つの実施例を示す概略図、第
9図は第8図の回11す;円板を示す平面図である。 10・・・・レーザ、12・・・・ビー11.14.1
G・・・・レンズ、20.20′、40a乃至40()
、50a乃至50(1・・・・複眼レンズ配列体、22
・・・・光フアイバ配列体、24・・・・光ファイバ(
配列体)の入力端部、26・・・光ファイバ(配列体)
の出力端部、28・・・正方形の断面を有するレンズの
配列体、28′・・・・六角形の断面を有するレンズの
配列体、30・・・・光ファイバ、32・・・・光ファ
イバのコア、36・・・・光ファイバのクラッド、40
.50・・・・複数の複眼レンズ配列体、42.52・
・・・円板、44.54・・・ フレー11部材、46
.47・・・・ディテン1−機構、/I G ri乃至
4 (5d、47a乃至47d、57a乃至57d・・
・・ディテン1〜・ノツチ、48・・・・装置フレー1
1゜出願人 インターナショナル・ビジネス・マシーン
ズ・コーポレーション 代理人 復代理士 合 ITI 潔−
:
概略図、第2図は第1図に於ける複眼レンズ配列体及び
光フアイバ配列体を一部断面図により更に詳細に示す図
、第3A図は第2図の線3−3に於ける断面図、第3B
図はレンズ配列体20の他の実施例の端部を示す図、第
4図は第2図の線4−/Iに於ける断面図、第5図は第
1図の光フアイバ配列体に於ける出力端部を示す図、第
6図は開1−1数を調節するために選択的に動作されろ
様に複数の複眼レンズ配列体か′!A、若さIl、でい
る、本発明の他の実施例を示す概略図、第7図は第6図
の回転円板を示す平面図、第8図は開11数を調節する
ために選択的に動作される+U数の+51眼レンズ配列
体と組合わ仕で、定置された複眼レンズ配列体が用いら
れている、本発明のもう1つの実施例を示す概略図、第
9図は第8図の回11す;円板を示す平面図である。 10・・・・レーザ、12・・・・ビー11.14.1
G・・・・レンズ、20.20′、40a乃至40()
、50a乃至50(1・・・・複眼レンズ配列体、22
・・・・光フアイバ配列体、24・・・・光ファイバ(
配列体)の入力端部、26・・・光ファイバ(配列体)
の出力端部、28・・・正方形の断面を有するレンズの
配列体、28′・・・・六角形の断面を有するレンズの
配列体、30・・・・光ファイバ、32・・・・光ファ
イバのコア、36・・・・光ファイバのクラッド、40
.50・・・・複数の複眼レンズ配列体、42.52・
・・・円板、44.54・・・ フレー11部材、46
.47・・・・ディテン1−機構、/I G ri乃至
4 (5d、47a乃至47d、57a乃至57d・・
・・ディテン1〜・ノツチ、48・・・・装置フレー1
1゜出願人 インターナショナル・ビジネス・マシーン
ズ・コーポレーション 代理人 復代理士 合 ITI 潔−
:
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 コリメー1〜された光を所定の径路にa(って方行づけ
るための第1光学手段と、 Lll先光受取る様に上記所定の径路に沿って然るべき
位置に配置され、所定の開1−1数を有する複数の源を
形成するレンズ配列体を含む、第2光学手段と、 1ユ記しンズ配列体に於ける異なる1つのレンズから光
を受取る様に配置された各光ファイバの入力端部、及び
所定の形状を右する自己発光源を有する様に配置されな
各光ファイバの出力端部を有している光フアイバ配列体
とを含む。 コリメートされた光から所定の形状及び開にl数を有す
る光源を発生させるための装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/391,099 US4516832A (en) | 1982-06-23 | 1982-06-23 | Apparatus for transformation of a collimated beam into a source of _required shape and numerical aperture |
| US391099 | 1982-06-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS597360A true JPS597360A (ja) | 1984-01-14 |
| JPH0360105B2 JPH0360105B2 (ja) | 1991-09-12 |
Family
ID=23545236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58044618A Granted JPS597360A (ja) | 1982-06-23 | 1983-03-18 | 光源発生装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4516832A (ja) |
| EP (1) | EP0097250B1 (ja) |
| JP (1) | JPS597360A (ja) |
| DE (1) | DE3365603D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62284340A (ja) * | 1986-06-02 | 1987-12-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 照射光学系 |
| JP2007293271A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-11-08 | Asml Holding Nv | 開口数を変化させる光学系 |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4521087A (en) * | 1983-05-23 | 1985-06-04 | International Business Machines Corporation | Optical system with diffuser for transformation of a collimated beam into a self-luminous arc with required curvature and numerical aperture |
| US4678332A (en) * | 1984-02-21 | 1987-07-07 | Dan Rock | Broadband spectrometer with fiber optic reformattor |
| US4750802A (en) * | 1986-08-08 | 1988-06-14 | Corning Glass Works | Optical fiber dispersion compensator |
| FR2611926B1 (fr) * | 1987-03-03 | 1989-05-26 | Thomson Csf | Dispositif de visualisation collimatee en relief |
| US5310624A (en) * | 1988-01-29 | 1994-05-10 | Massachusetts Institute Of Technology | Integrated circuit micro-fabrication using dry lithographic processes |
| US5033814A (en) * | 1989-04-10 | 1991-07-23 | Nilford Laboratories, Inc. | Line light source |
| WO1990013158A1 (en) * | 1989-04-18 | 1990-11-01 | Phased Array Lasers Pty Ltd | Close packed, end face, diode pumped, fibre laser bundle, phased-array laser oscillator |
| US5235581A (en) | 1990-08-09 | 1993-08-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording/reproducing apparatus for optical disks with various disk substrate thicknesses |
| GB2251700B (en) * | 1990-11-30 | 1994-08-24 | Combined Optical Ind Ltd | Multiple array lens |
| DE4105719A1 (de) * | 1991-02-23 | 1992-09-03 | Aesculap Ag | Vorrichtung zur uebertragung medizinisch wirksamer laserstrahlung sowie verfahren zur uebertragung von laserstrahlung |
| JPH0557475A (ja) * | 1991-09-04 | 1993-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ光学装置 |
| US5377287A (en) * | 1991-12-19 | 1994-12-27 | Hughes Aircraft Company | Fiber optic corporate power divider/combiner and method |
| FR2688889B1 (fr) * | 1992-03-23 | 1996-04-26 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de mesure de la vitesse de deplacement d'un objet. |
| US5619245A (en) * | 1994-07-29 | 1997-04-08 | Eastman Kodak Company | Multi-beam optical system using lenslet arrays in laser multi-beam printers and recorders |
| US5823662A (en) * | 1994-08-25 | 1998-10-20 | Lightware, Inc. | High efficiency illumination system |
| US5724122A (en) * | 1995-05-24 | 1998-03-03 | Svg Lithography Systems, Inc. | Illumination system having spatially separate vertical and horizontal image planes for use in photolithography |
| US5684566A (en) * | 1995-05-24 | 1997-11-04 | Svg Lithography Systems, Inc. | Illumination system and method employing a deformable mirror and diffractive optical elements |
| US5631721A (en) * | 1995-05-24 | 1997-05-20 | Svg Lithography Systems, Inc. | Hybrid illumination system for use in photolithography |
| FR2737786B1 (fr) * | 1995-08-11 | 1997-09-12 | Soc D Production Et De Rech Ap | Dispositif optique pour homogeneiser un faisceau laser |
| US5815624A (en) * | 1996-08-30 | 1998-09-29 | Rosenberg; Gary J. | Optical fiber viewing apparatus |
| US5844727A (en) * | 1997-09-02 | 1998-12-01 | Cymer, Inc. | Illumination design for scanning microlithography systems |
| US6072631A (en) * | 1998-07-09 | 2000-06-06 | 3M Innovative Properties Company | Diffractive homogenizer with compensation for spatial coherence |
| JP3940504B2 (ja) * | 1998-10-30 | 2007-07-04 | 株式会社東芝 | 光ファイバ伝送式レーザ装置、パルスレーザ発振器および光ファイバ導光装置 |
| TW508653B (en) | 2000-03-24 | 2002-11-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus and integrated circuit manufacturing method |
| DE10053670A1 (de) * | 2000-10-28 | 2002-05-08 | Daimler Chrysler Ag | Optisches Signalübertragungssystem |
| US20030156819A1 (en) * | 2002-02-15 | 2003-08-21 | Mark Pruss | Optical waveguide |
| US7099528B2 (en) * | 2004-01-07 | 2006-08-29 | International Business Machines Corporation | Methods and devices for coupling electromagnetic radiation using diffractive optical elements |
| JP4291230B2 (ja) * | 2004-08-06 | 2009-07-08 | 株式会社日本製鋼所 | 結晶化膜の形成方法及びその装置 |
| CN100403093C (zh) * | 2006-06-30 | 2008-07-16 | 西安电子科技大学 | 一种空间三维沙盘 |
| DE102007018354A1 (de) * | 2007-04-18 | 2008-10-30 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und Verfahren zur Einkopplung von Licht in eine Faser |
| US20120050724A1 (en) * | 2010-08-31 | 2012-03-01 | Dean Bruce H | Phase retrieval system for assessing diamond-turning and other optical surface artifacts |
| US20120224172A1 (en) * | 2010-12-10 | 2012-09-06 | Nikon Corporation | Optical components for use in measuring projection lens distortion or focus of an optical imaging system that images a substrate |
| PL3360319T3 (pl) | 2015-10-11 | 2020-02-28 | Dolby Laboratories Licensing Corporation | Ulepszony system optyczny dla projektorów obrazu |
| CN112764323A (zh) * | 2021-01-04 | 2021-05-07 | 无锡物联网创新中心有限公司 | 无掩模激光直写系统及无掩模激光直写方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5150577A (ja) * | 1974-08-29 | 1976-05-04 | Siemens Ag | |
| JPS54111832A (en) * | 1978-02-22 | 1979-09-01 | Hitachi Ltd | Exposure device |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3547546A (en) * | 1966-05-04 | 1970-12-15 | Sprague Electric Co | Multiple image forming device |
| US3556636A (en) * | 1968-01-30 | 1971-01-19 | Brunswick Corp | Collimated hole structure with mask for producing high resolution images |
| GB1265087A (ja) * | 1968-08-27 | 1972-03-01 | ||
| DE2039440A1 (de) * | 1970-08-07 | 1972-02-10 | Klemt Kg Arthur | Optische Vorrichtung zur getrennten und vollstaendigen Abbildung sich lueckenlos beruehrender Rasterfelder |
| US3716287A (en) * | 1971-10-04 | 1973-02-13 | Trw Inc | Fourier transform holographic memory with random phase shifting produced by random size variations in a lens array |
| US3827075A (en) * | 1973-07-09 | 1974-07-30 | O Baycura | Solid state television camera |
| DE2454996A1 (de) * | 1974-11-20 | 1976-05-26 | Siemens Ag | Einrichtung zur ankopplung von lichtfuehrungselementen an eine lichtquelle |
| US4076978A (en) * | 1975-07-07 | 1978-02-28 | Baird-Atomic, Inc. | Fiber optic bundle beam expander with image intensifier |
| US4156555A (en) * | 1977-04-29 | 1979-05-29 | Sperry Rand Corporation | Apparatus and method for providing unblurred images with a continuously scanned light beam |
| US4170400A (en) * | 1977-07-05 | 1979-10-09 | Bert Bach | Wide angle view optical system |
| US4345833A (en) * | 1981-02-23 | 1982-08-24 | American Optical Corporation | Lens array |
| US4409477A (en) * | 1981-06-22 | 1983-10-11 | Sanders Associates, Inc. | Scanning optical system |
-
1982
- 1982-06-23 US US06/391,099 patent/US4516832A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-03-18 JP JP58044618A patent/JPS597360A/ja active Granted
- 1983-05-19 DE DE8383104963T patent/DE3365603D1/de not_active Expired
- 1983-05-19 EP EP83104963A patent/EP0097250B1/en not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5150577A (ja) * | 1974-08-29 | 1976-05-04 | Siemens Ag | |
| JPS54111832A (en) * | 1978-02-22 | 1979-09-01 | Hitachi Ltd | Exposure device |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62284340A (ja) * | 1986-06-02 | 1987-12-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 照射光学系 |
| JP2007293271A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-11-08 | Asml Holding Nv | 開口数を変化させる光学系 |
| US7859756B2 (en) | 2006-02-06 | 2010-12-28 | Asml Holding N.V. | Optical system for transforming numerical aperture |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0097250B1 (en) | 1986-08-27 |
| EP0097250A3 (en) | 1984-02-01 |
| DE3365603D1 (en) | 1986-10-02 |
| JPH0360105B2 (ja) | 1991-09-12 |
| US4516832A (en) | 1985-05-14 |
| EP0097250A2 (en) | 1984-01-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS597360A (ja) | 光源発生装置 | |
| US4497013A (en) | Illuminating apparatus | |
| JP4169374B2 (ja) | 投影マイクロリソグラフィ装置の照明手段 | |
| US5777342A (en) | Method and apparatus for microlithography | |
| US5675401A (en) | Illuminating arrangement including a zoom objective incorporating two axicons | |
| US5420417A (en) | Projection exposure apparatus with light distribution adjustment | |
| US4242588A (en) | X-ray lithography system having collimating optics | |
| US5302999A (en) | Illumination method, illumination apparatus and projection exposure apparatus | |
| JPH04225214A (ja) | 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法 | |
| JPH07169677A (ja) | プラズマ誘導x線描画を伴う装置製作方法 | |
| JPH049293A (ja) | 投影装置及び光照射方法 | |
| JP2002203784A (ja) | 照明の設定が変更可能な照明系 | |
| TW200900733A (en) | Optical integrator system, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| US6225027B1 (en) | Extreme-UV lithography system | |
| WO2005081372A2 (en) | Laser multiplexing | |
| US5359388A (en) | Microlithographic projection system | |
| KR20020033059A (ko) | 낮은 열 부하를 갖는 조명시스템 | |
| JPS62115718A (ja) | 照明光学系 | |
| JPS59216118A (ja) | 弓形の発光を生じる装置 | |
| US5912725A (en) | Illumination optical system to be used in an exposure apparatus and a method of manufacturing a semiconductor structure using the exposure apparatus | |
| JP3293917B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| TW200825634A (en) | Diffractive optical element, exposure apparatus and device manufacturing method | |
| KR20120079011A (ko) | 조명 광학 시스템, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
| JPH03116718A (ja) | 拡張電子源電子ビームマスク映像システム | |
| CN118672062A (zh) | 极紫外光源滤波装置、方法以及光源输出系统 |