JPH049293A - 投影装置及び光照射方法 - Google Patents
投影装置及び光照射方法Info
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- JPH049293A JPH049293A JP2110474A JP11047490A JPH049293A JP H049293 A JPH049293 A JP H049293A JP 2110474 A JP2110474 A JP 2110474A JP 11047490 A JP11047490 A JP 11047490A JP H049293 A JPH049293 A JP H049293A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は投影装置に関し、特に光束をマスクへと入射さ
せ該入射光に基づき該マスクの光通過部パターンを投影
するのに用いられる投影装置に関する。
せ該入射光に基づき該マスクの光通過部パターンを投影
するのに用いられる投影装置に関する。
本発明は、例えばプラスチック材料をレーザにより微細
加工する装置において有効に利用される。
加工する装置において有効に利用される。
［従来の技術及び発明が解決しようとする課題］従来、
半導体装置製造プロセスにおいて、所望の光通過部パタ
ーンを有するマスクに対し光源からの光束を入射させ、
投影光学系により半導体材料の表面に上記マスクの光通
過部パターンを投影して、表面加工することがなされて
いる。
半導体装置製造プロセスにおいて、所望の光通過部パタ
ーンを有するマスクに対し光源からの光束を入射させ、
投影光学系により半導体材料の表面に上記マスクの光通
過部パターンを投影して、表面加工することがなされて
いる。
この光学系では、フライアイレンズの如き結像光学素子
群からなるオプチカルインテグレータ及びコンデンサー
レンズを用い、光量分布を均一化させて光束をマスクへ
と入射させている。
群からなるオプチカルインテグレータ及びコンデンサー
レンズを用い、光量分布を均一化させて光束をマスクへ
と入射させている。
以上の様な加工方法は、その他の種々のレーザ加工にも
適用することができ、たとえばプラスチック材料を微細
加工するのに利用することができる。該プラスチック材
料加工の一例として、コンピュータやワードプロセッサ
に接続され配録手段として用いられるインクジェットプ
リンタのヘッド部のインク吐出孔の穴あけ加工を挙げる
ことができる。
適用することができ、たとえばプラスチック材料を微細
加工するのに利用することができる。該プラスチック材
料加工の一例として、コンピュータやワードプロセッサ
に接続され配録手段として用いられるインクジェットプ
リンタのヘッド部のインク吐出孔の穴あけ加工を挙げる
ことができる。
ところで、以上の様な従来のレーザ加工では、光源から
の光は上記マスクの遮光部で一部遮光されるのであるが
、該マスクの光通過部のパターンによっては上記光源か
らの光の大半が遮光される場合がある。特に、上記イン
クジェットプリンタのヘッド部のインク吐出孔のパター
ンは微細な、申をライン状に配列してなるものであるた
め、遮光される光量の割合が著しく大きくなる。かくし
て、従来の方法では、光エネルギーの損失が大きく、加
工効率も十分でない。これが、短時間での高効率加工を
目指す場合の障害となっている。
の光は上記マスクの遮光部で一部遮光されるのであるが
、該マスクの光通過部のパターンによっては上記光源か
らの光の大半が遮光される場合がある。特に、上記イン
クジェットプリンタのヘッド部のインク吐出孔のパター
ンは微細な、申をライン状に配列してなるものであるた
め、遮光される光量の割合が著しく大きくなる。かくし
て、従来の方法では、光エネルギーの損失が大きく、加
工効率も十分でない。これが、短時間での高効率加工を
目指す場合の障害となっている。
そこで、本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、光源
からの光をできるだけマスクの光通過部へと導き、光エ
ネルギーを有効に利用するとともにマスク通過光束のエ
ネルギー密度を向上させ、か（して加工効率を向上させ
、更に加工に高エネルギー密度を要する材料の加工をも
可能とする投影装置を提供することを目的とするもので
ある。
からの光をできるだけマスクの光通過部へと導き、光エ
ネルギーを有効に利用するとともにマスク通過光束のエ
ネルギー密度を向上させ、か（して加工効率を向上させ
、更に加工に高エネルギー密度を要する材料の加工をも
可能とする投影装置を提供することを目的とするもので
ある。
［課題を解決するための手段］
本発明によれば、上記目的を達成するものとして、
複数の結像光学素子を第１方向に沿って並べた結像光学
素子列を該第１方向と直交する第２方向に沿って複数個
配列してあるオプチカルインテグレータを設け、光照射
手段により該オプチカルインテグレータに光を照射し、
該オプチカルインテグレータから射出する複数個の光束
をマスクへ入射させ、該マスク上で上記第１方向に延び
る帯状の領域を形成する光通過部パターンを投影する装
置であって、上記光照射手段が、上記第１方向に延びる
帯状の光束を複数個形成し、該複数個の帯状光束の各々
を上記複数個の結像光学素子列の対応する列に照射せし
めるよう構成してあることを特徴とする、投影装置、 が提供される。
素子列を該第１方向と直交する第２方向に沿って複数個
配列してあるオプチカルインテグレータを設け、光照射
手段により該オプチカルインテグレータに光を照射し、
該オプチカルインテグレータから射出する複数個の光束
をマスクへ入射させ、該マスク上で上記第１方向に延び
る帯状の領域を形成する光通過部パターンを投影する装
置であって、上記光照射手段が、上記第１方向に延びる
帯状の光束を複数個形成し、該複数個の帯状光束の各々
を上記複数個の結像光学素子列の対応する列に照射せし
めるよう構成してあることを特徴とする、投影装置、 が提供される。
本発明においては、上記第１方向に延びる帯状光束の各
々が該第１方向に不連続な複数の部分からなり、該部分
の各々が上記結像光学素子列内の対応する結像光学素子
に照射せしめられる、態様がある。
々が該第１方向に不連続な複数の部分からなり、該部分
の各々が上記結像光学素子列内の対応する結像光学素子
に照射せしめられる、態様がある。
本発明においては、上記マスクの光通過部パターンがラ
イン状の開口よりなる、態様がある。
イン状の開口よりなる、態様がある。
本発明においては、上記マスクの光通過部パターンが点
状開口を複数個ライン状に配列したものよりなる、態様
がある。
状開口を複数個ライン状に配列したものよりなる、態様
がある。
本発明においては、上記光照射手段がプリズム及びミラ
ーのうちの少なくとも１種を用いて上記複数個の帯状光
束を形成する光分割器を含むものである、態様がある。
ーのうちの少なくとも１種を用いて上記複数個の帯状光
束を形成する光分割器を含むものである、態様がある。
本発明においては、上記光分割器が上記複数個の帯状光
束を互いに平行な光束となすものである、態様がある。
束を互いに平行な光束となすものである、態様がある。
本発明においては、上記光照射手段が上記オプチカルイ
ンテグレータへの入射光束を該オプチカルインテグレー
タの全体的形状に対応する様に整形する整形手段を含ん
でいる、態様がある。
ンテグレータへの入射光束を該オプチカルインテグレー
タの全体的形状に対応する様に整形する整形手段を含ん
でいる、態様がある。
本発明においては、上記光照射手段が上記オプチカルイ
ンテグレータへの入射光束を該オプチカルインテグレー
タの全体的大きさに対応する様に拡縮する拡縮手段を含
んでいる、態様がある。
ンテグレータへの入射光束を該オプチカルインテグレー
タの全体的大きさに対応する様に拡縮する拡縮手段を含
んでいる、態様がある。
本発明においては、上記光がコヒーレント光である、態
様がある。
様がある。
本発明においては、上記光がレーザ光である、態様があ
る。
る。
［実施例コ
以下、図面を参照しながら本発明の具体的実施例を説明
する。
する。
第１図〜第５図は本発明による投影装置の第１の実施例
を示す模式図である。
を示す模式図である。
第１図において、２は光源であるところのレーザである
。該レーザとしては例えばＫｒＦレーザ等のエキシマレ
ーザが用いられる。３は該レーザ２から出射される光束
であり、３°はその光軸である。該光軸と垂直な平面内
の互いに直交する２つの方向をＸ方向及びＸ方向とする
。
。該レーザとしては例えばＫｒＦレーザ等のエキシマレ
ーザが用いられる。３は該レーザ２から出射される光束
であり、３°はその光軸である。該光軸と垂直な平面内
の互いに直交する２つの方向をＸ方向及びＸ方向とする
。
上言己光束３はＸ方向２０〜３５ｍｍ程度でＸ方向３〜
１０ｍｍ程度のほぼ長方形の断面形状を有する平行光束
である。
１０ｍｍ程度のほぼ長方形の断面形状を有する平行光束
である。
４は結像光学素子群たるフライアイレンズ（オプチカル
インテグレータ）であり、４−０．４−１．４＋１はそ
のＸ方向の光学素子列である。本実施例では、結像光学
素子としてレンズエレメントを使用している。また、フ
ライアイレンズ４のＸ方向に関する寸法は光束３の寸誌
より大きい。
インテグレータ）であり、４−０．４−１．４＋１はそ
のＸ方向の光学素子列である。本実施例では、結像光学
素子としてレンズエレメントを使用している。また、フ
ライアイレンズ４のＸ方向に関する寸法は光束３の寸誌
より大きい。
第４図に示さｔている様に、光学素子列４−〇はＸ方向
に配列された３つの結像光学素子４−Ｏａ、４−Ｏｂ、
４−Ｏｃからなり、Ｘ方向に関し列４−０に隣接する光
学素子列４−１はＸ方向に配列された２つの結像光学素
子４−１ａ、４−１しからなり、Ｘ方向に関し列４−０
に隣接する光学素子列４＋１はＸ方向に配列された２つ
の結像光学素子４＋１ａ、４＋１ｂからなる。
に配列された３つの結像光学素子４−Ｏａ、４−Ｏｂ、
４−Ｏｃからなり、Ｘ方向に関し列４−０に隣接する光
学素子列４−１はＸ方向に配列された２つの結像光学素
子４−１ａ、４−１しからなり、Ｘ方向に関し列４−０
に隣接する光学素子列４＋１はＸ方向に配列された２つ
の結像光学素子４＋１ａ、４＋１ｂからなる。
第１図において、６−１．６＋１は光分割器６を構成せ
るプリズムであり、これらはＸ方向に所定の距離だけ隔
てられて配置されている。各プリズムにはそれぞれ上記
光束３の一部が入射せしめられる様になっており、該プ
リズムの光入射面と光出射面とは平行であり且つｘ−ｙ
面に対し傾いている。
るプリズムであり、これらはＸ方向に所定の距離だけ隔
てられて配置されている。各プリズムにはそれぞれ上記
光束３の一部が入射せしめられる様になっており、該プ
リズムの光入射面と光出射面とは平行であり且つｘ−ｙ
面に対し傾いている。
光束３の一部は上記プリズム６−１．６＋１の間の間隙
を通過して、Ｘ方向に延びた第１の帯状（ライン状）光
束３−０として上記光学素子列４−０のＸ方向に関する
中央部に平行光束として入射する（第１図及び第４図参
照）。また、光束３の一部は上記プリズム６−１により
Ｘ方向に適宜の距離平行移動せしめられて、Ｘ方向に延
びた第２の帯状（ライン状）光束３−１として上記光学
素子列４−１のＸ方向に関する中央部に平行光束として
入射する（第１図及び第４図参照）。同様に、光束３の
一部は上記プリズム６＋１によりＸ方向に適宜の距離平
行移動せしめられて、Ｘ方向に延びた第３の帯状（ライ
ン状）光束３＋１として上記光学素子列４＋１のＸ方向
に関する中央部に平行光束として入射する（第１図及び
第４図参照）。ここで、第１、第２及び第３の帯状光束
の各々の幅は互いにほぼ等しく且つ各結像光学素子の径
より小さ（設定しである。上記プリズム６−１．６＋１
による平行移動の距離は、該プリズムの屈折率、厚さ及
び該プリズムへの入射角により適宜設定することができ
る。
を通過して、Ｘ方向に延びた第１の帯状（ライン状）光
束３−０として上記光学素子列４−０のＸ方向に関する
中央部に平行光束として入射する（第１図及び第４図参
照）。また、光束３の一部は上記プリズム６−１により
Ｘ方向に適宜の距離平行移動せしめられて、Ｘ方向に延
びた第２の帯状（ライン状）光束３−１として上記光学
素子列４−１のＸ方向に関する中央部に平行光束として
入射する（第１図及び第４図参照）。同様に、光束３の
一部は上記プリズム６＋１によりＸ方向に適宜の距離平
行移動せしめられて、Ｘ方向に延びた第３の帯状（ライ
ン状）光束３＋１として上記光学素子列４＋１のＸ方向
に関する中央部に平行光束として入射する（第１図及び
第４図参照）。ここで、第１、第２及び第３の帯状光束
の各々の幅は互いにほぼ等しく且つ各結像光学素子の径
より小さ（設定しである。上記プリズム６−１．６＋１
による平行移動の距離は、該プリズムの屈折率、厚さ及
び該プリズムへの入射角により適宜設定することができ
る。
第２図は上記フライアイレンズ以降の光学系を示すもの
であり、８は光軸３°と直交する様に配置されたマスク
である。第５図に示されている様に、該マスク８は所定
パターンの光通過部８ａと遮光部８ｂとからなる。光通
過部８ａはＸ方向に延びたライン状（帯状）の開口より
なり、この開口はマスク８の透明基板に対応する。また
、遮光部８ｂはこの透明基板上にバターニングされたク
ロム膜等の金属膜よりなる。
であり、８は光軸３°と直交する様に配置されたマスク
である。第５図に示されている様に、該マスク８は所定
パターンの光通過部８ａと遮光部８ｂとからなる。光通
過部８ａはＸ方向に延びたライン状（帯状）の開口より
なり、この開口はマスク８の透明基板に対応する。また
、遮光部８ｂはこの透明基板上にバターニングされたク
ロム膜等の金属膜よりなる。
第２図において、ｌＯはコンデンサーレンズであり、フ
ライアイレンズ４から比射した光束は各結像光学素子の
作用で一旦集光し、光軸３°に垂直な平面内に多数個の
２次光源を形成し、コンデンサーレンズ１０を経て上記
マスク８へと入射する。これら多数個の２次光源の総数
は、フライアイレンズ４を構成する結像光学素子の数と
一致している。
ライアイレンズ４から比射した光束は各結像光学素子の
作用で一旦集光し、光軸３°に垂直な平面内に多数個の
２次光源を形成し、コンデンサーレンズ１０を経て上記
マスク８へと入射する。これら多数個の２次光源の総数
は、フライアイレンズ４を構成する結像光学素子の数と
一致している。
コンデンサーレンズ１０はその光出射側焦点位置がマス
ク８のパターン面と一致する様に設けられており、この
様に構成することにより多数個の２次光源からなる各光
束がマスク８上で互いに正確に重なりあう。また、この
時、これらの光束がマスク８上に形成する光スポットの
形状は帯状（ライン状）となる。そして、この光スポッ
トの長手方向とマスク８の光通過部８ａの長手方向とが
一致している。
ク８のパターン面と一致する様に設けられており、この
様に構成することにより多数個の２次光源からなる各光
束がマスク８上で互いに正確に重なりあう。また、この
時、これらの光束がマスク８上に形成する光スポットの
形状は帯状（ライン状）となる。そして、この光スポッ
トの長手方向とマスク８の光通過部８ａの長手方向とが
一致している。
第３図は上記マスク以降の光学系を示すものであり、１
２は光軸３ と直交する様に配置された被加工部材であ
る。１４は上記マスク８と上記被加工部材１２との間に
配置された投影レンズ系であり、該投影レンズ系１４に
より上記マスク８のパターン（光通過部８ａ）の像が被
加工部材１２に投影せしめられる。そして、このパター
ン像の形状に応じてレーザ光の光エネルギーにより被加
工部材１２が加工され、具体的には穴があけられる。
２は光軸３ と直交する様に配置された被加工部材であ
る。１４は上記マスク８と上記被加工部材１２との間に
配置された投影レンズ系であり、該投影レンズ系１４に
より上記マスク８のパターン（光通過部８ａ）の像が被
加工部材１２に投影せしめられる。そして、このパター
ン像の形状に応じてレーザ光の光エネルギーにより被加
工部材１２が加工され、具体的には穴があけられる。
本実施例では、マスクパターンは、上記第５図に示され
ている様に、Ｘ方向に関し中央部にのみ光通過部８ａが
存在し、該光通過部の面積の全マスク面積（即ち光通過
部８ａの面積と遮光部８ｂの面積との和）に対する割合
がかなり小さい。そして、該マスクの光通過部８ａの上
記フライアイレンズの各結像光学素子における光学的対
応領域が、第４図において８ａ’で示される様になって
いる。第４図に示されている様に、全結像光学素子の領
域８ａ’は、上記光束３−０．３−１３＋１のいずれか
が入射する領域に含まれている。
ている様に、Ｘ方向に関し中央部にのみ光通過部８ａが
存在し、該光通過部の面積の全マスク面積（即ち光通過
部８ａの面積と遮光部８ｂの面積との和）に対する割合
がかなり小さい。そして、該マスクの光通過部８ａの上
記フライアイレンズの各結像光学素子における光学的対
応領域が、第４図において８ａ’で示される様になって
いる。第４図に示されている様に、全結像光学素子の領
域８ａ’は、上記光束３−０．３−１３＋１のいずれか
が入射する領域に含まれている。
以上の様に、本実施例では、マスク８の光通過部８ａの
形状とほぼ相似のＸ方向に延びる帯状の３個の光束３−
０．３−１．３＋１を形成し、該帯状光束の各々を３個
の結像光学素子列４−０７４−１．４＋１の対応する列
に照射せしめることにより、マスク８の光通過部８ａに
入射する光束の光エネルギー密度が著しく高められ、か
くして加工速度及び加工効率を向上させることができる
、また従来と同等の加工速度及び加工効率を十分低いレ
ーザ８カにて実現でき、低コスト化が可能である。更に
、加工に高いエネルギー密度を要する材料を加工するこ
とも可能となる。
形状とほぼ相似のＸ方向に延びる帯状の３個の光束３−
０．３−１．３＋１を形成し、該帯状光束の各々を３個
の結像光学素子列４−０７４−１．４＋１の対応する列
に照射せしめることにより、マスク８の光通過部８ａに
入射する光束の光エネルギー密度が著しく高められ、か
くして加工速度及び加工効率を向上させることができる
、また従来と同等の加工速度及び加工効率を十分低いレ
ーザ８カにて実現でき、低コスト化が可能である。更に
、加工に高いエネルギー密度を要する材料を加工するこ
とも可能となる。
第６図は上記マスクのパターンの変形例を示す模式図で
ある。
ある。
上記第５図のマスク８では光通過部ａとしてライン状の
開口が用いられているが、第６図に示される様に、点状
の開口８ａを複数個ライン状に配列し、破線で示す如く
マスク上で帯状の領域をなすマスクパターンを用いて同
様の投影装置を構成することもできる。この場合も、マ
スク８上での光スポットの長手方向は開口８ａの配列方
向と一致している。
開口が用いられているが、第６図に示される様に、点状
の開口８ａを複数個ライン状に配列し、破線で示す如く
マスク上で帯状の領域をなすマスクパターンを用いて同
様の投影装置を構成することもできる。この場合も、マ
スク８上での光スポットの長手方向は開口８ａの配列方
向と一致している。
尚、本発明において、マスク８としては金属板に穴をあ
けて光通過部パターンを形成したもの等、各種の形態の
ものを使用することができる。
けて光通過部パターンを形成したもの等、各種の形態の
ものを使用することができる。
第７図は上記実施例の変形例を説明するための模式図で
ある。
ある。
第７図において、２０は楕円マスクであり、２２は凹シ
リンドリカルレンズであり、２４は凸シリンドリカルレ
ンズであり、２６は凸球面レンズであり、２８は凹球面
レンズである。これらは、上記第１図のレーザ２と上記
プリズム６−１６＋１との間に、楕円マスク２０から順
次配置される。上記楕円マスク２０、凹シリンドリカル
レンズ２２及び凸シリンドリカルレンズ２４は、光束３
をフライアイレンズ４の全体的形状（即ちほぼ円形）に
対応する様に整形するための整形手段を構成する光学素
子である。また、上記凸球面レンズ２６及び凹球面レン
ズ２８は上記フライアイレンズ４への入射光束を該フラ
イアイレンズの全体的大きさに対応する様に拡縮するた
めの拡縮手段を構成する光学素子である。
リンドリカルレンズであり、２４は凸シリンドリカルレ
ンズであり、２６は凸球面レンズであり、２８は凹球面
レンズである。これらは、上記第１図のレーザ２と上記
プリズム６−１６＋１との間に、楕円マスク２０から順
次配置される。上記楕円マスク２０、凹シリンドリカル
レンズ２２及び凸シリンドリカルレンズ２４は、光束３
をフライアイレンズ４の全体的形状（即ちほぼ円形）に
対応する様に整形するための整形手段を構成する光学素
子である。また、上記凸球面レンズ２６及び凹球面レン
ズ２８は上記フライアイレンズ４への入射光束を該フラ
イアイレンズの全体的大きさに対応する様に拡縮するた
めの拡縮手段を構成する光学素子である。
第８図は本発明による光学系の第２の実施例を示す模式
図である。本図において、上記第１図におけると同様の
部材には同一の符号が付されている。
図である。本図において、上記第１図におけると同様の
部材には同一の符号が付されている。
本実施例では、複数の結像光学素子なＸ方向に並べてな
る光学素子列がＸ方向に（２ｎ＋１ ）列設けられてい
る。ここでｎは正の整数である。
る光学素子列がＸ方向に（２ｎ＋１ ）列設けられてい
る。ここでｎは正の整数である。
尚、ｎ＝１の場合が上記第１の実施例に相当することに
なる。
なる。
第８図に示されている様に、プリズム６−１゜６＋１と
同様のプリズムが合計２０個配列されており、各プリズ
ムの配列を適宜設定することにより、プリズム６−１〜
６−ｎ、６＋１〜６＋ｎを通過した平行光束の少なくと
も一部がそれぞれフライアイレンズの光学素子列４−１
〜４−ｎ。
同様のプリズムが合計２０個配列されており、各プリズ
ムの配列を適宜設定することにより、プリズム６−１〜
６−ｎ、６＋１〜６＋ｎを通過した平行光束の少なくと
も一部がそれぞれフライアイレンズの光学素子列４−１
〜４−ｎ。
４＋１〜４＋ｎのＸ方向に関する中央部に入射する様に
できる。
できる。
尚、Ｘ方向の光学素子列が２ｎ列の場合には、先ずハー
フミラ−等を用いて光束を２分割し、２つの光束の一方
を上記プリズム６−１に入射させ他方を上記プリズム６
＋１に入射させて、同様にして光束分割を行うことがで
きる。
フミラ−等を用いて光束を２分割し、２つの光束の一方
を上記プリズム６−１に入射させ他方を上記プリズム６
＋１に入射させて、同様にして光束分割を行うことがで
きる。
上記実施例では光分割器としてプリズムを用いているが
、プリズムの代わりにミラーを用いて同様の光分割を行
うことができ、プリズムとミラーとの組合わせを用いる
こともできる。
、プリズムの代わりにミラーを用いて同様の光分割を行
うことができ、プリズムとミラーとの組合わせを用いる
こともできる。
また、上記実施例ではＸ方向に関してのみ光分割を行っ
ているが、該Ｘ方向の光分割後の光束を同様にしてＸ方
向に分割することができる。これにより、更に光エネル
ギー利用効率を高めることが可能である。この様な形態
は、特にオプチカルインテグレータを構成する結像光学
素子がｘ−ｙマトリックス状に配列されている場合に極
めて有利である。
ているが、該Ｘ方向の光分割後の光束を同様にしてＸ方
向に分割することができる。これにより、更に光エネル
ギー利用効率を高めることが可能である。この様な形態
は、特にオプチカルインテグレータを構成する結像光学
素子がｘ−ｙマトリックス状に配列されている場合に極
めて有利である。
［発明の効果コ
以上説明した様に、本発明によれば、光照射手段を用い
て、第１方向に延びる帯状の光束を複数個形成し、該複
数個の帯状光束の各々を、上記第１方向に沿って並べた
複数個の結像光学素子列の対応する列に照射せしめるこ
とにより、光エネルギーを有効に利用でき且つマスク通
過光束のエネルギー密度を向上させることができ、か（
して加工時間を短縮し加工効率を向上させコストダウン
が実現され、更に加工に高エネルギー密度を要する材料
の加工が可能となる。
て、第１方向に延びる帯状の光束を複数個形成し、該複
数個の帯状光束の各々を、上記第１方向に沿って並べた
複数個の結像光学素子列の対応する列に照射せしめるこ
とにより、光エネルギーを有効に利用でき且つマスク通
過光束のエネルギー密度を向上させることができ、か（
して加工時間を短縮し加工効率を向上させコストダウン
が実現され、更に加工に高エネルギー密度を要する材料
の加工が可能となる。
第１図〜第５図は本発明による投影装置の第１の実施例
を示す模式図である。 第６図はマスクのパターンの変形例を示す模式第７図は
上記実施例の変形例を説明するための模式図である。 第８図は本発明による投影装置の第２の実施例を示す模
式図である。 ２：レーザ、 ３．３−０．３−１．３＋１ ：光束、４：フライアイ
レンズ、 ４−０〜４−ｎ、 ４＋ｌ〜４＋ｎ ：結像光学素子
列、 ４−Ｏａ 〜４−Ｏｃ、 ４−１ａ、 ４−１ｂ４＋１
ａ、４＋１ｂ：結像光学素子、 ６：光分割器、 ６−１〜６−ｎ、６＋１〜６＋ｎニブリズム、８：マス
ク、 ８ａ：光通過部、８ｂ：遮光部、 １０：コンデンサーレンズ、 １２：被加工部材、 １４：投影レンズ系、２０：楕
円マスク、 ２２：凹シリンドリカルレンズ、 ２４：凸シリンドリカルレンズ、 ２６：凸球面レンズ、 ２８：凹球面レンズ。 代理人 弁理士 山 下 穣 平 第 図 第 図 第 図
を示す模式図である。 第６図はマスクのパターンの変形例を示す模式第７図は
上記実施例の変形例を説明するための模式図である。 第８図は本発明による投影装置の第２の実施例を示す模
式図である。 ２：レーザ、 ３．３−０．３−１．３＋１ ：光束、４：フライアイ
レンズ、 ４−０〜４−ｎ、 ４＋ｌ〜４＋ｎ ：結像光学素子
列、 ４−Ｏａ 〜４−Ｏｃ、 ４−１ａ、 ４−１ｂ４＋１
ａ、４＋１ｂ：結像光学素子、 ６：光分割器、 ６−１〜６−ｎ、６＋１〜６＋ｎニブリズム、８：マス
ク、 ８ａ：光通過部、８ｂ：遮光部、 １０：コンデンサーレンズ、 １２：被加工部材、 １４：投影レンズ系、２０：楕
円マスク、 ２２：凹シリンドリカルレンズ、 ２４：凸シリンドリカルレンズ、 ２６：凸球面レンズ、 ２８：凹球面レンズ。 代理人 弁理士 山 下 穣 平 第 図 第 図 第 図
Claims (10)
- （１）複数の結像光学素子を第１方向に沿って並べた結
像光学素子列を該第１方向と直交する第２方向に沿って
複数個配列してあるオプチカルインテグレータを設け、
光照射手段により該オプチカルインテグレータに光を照
射し、該オプチカルインテグレータから射出する複数個
の光束をマスクへ入射させ、該マスク上で上記第１方向
に延びる帯状の領域を形成する光通過部パターンを投影
する装置であって、上記光照射手段が、上記第１方向に
延びる帯状の光束を複数個形成し、該複数個の帯状光束
の各々を上記複数個の結像光学素子列の対応する列に照
射せしめるよう構成してあることを特徴とする、投影装
置。 - （２）上記第１方向に延びる帯状光束の各々が該第１方
向に不連続な複数の部分からなり、該部分の各々が上記
結像光学素子列内の対応する結像光学素子に照射せしめ
られる、請求項１に記載の投影装置。 - （３）上記マスクの光通過部パターンがライン状の開口
よりなる、請求項１に記載の投影装置。 - （４）上記マスクの光通過部パターンが点状開口を複数
個ライン状に配列したものよりなる、請求項１に記載の
投影装置。 - （５）上記光照射手段がプリズム及びミラーのうちの少
なくとも１種を用いて上記複数個の帯状光束を形成する
光分割器を含むものである、請求項１に記載の投影装置
。 - （６）上記光分割器が上記複数個の帯状光束を互いに平
行な光束となすものである、請求項５に記載の投影装置
。 - （７）上記光照射手段が上記オプチカルインテグレータ
への入射光束を該オプチカルインテグレータの全体的形
状に対応する様に整形する整形手段を含んでいる、請求
項１に記載の投影装置。 - （８）上記光照射手段が上記オプチカルインテグレータ
への入射光束を該オプチカルインテグレータの全体的大
きさに対応する様に拡縮する拡縮手段を含んでいる、請
求項１に記載の投影装置。 - （９）上記光がコヒーレント光である、請求項１に記載
の投影装置。 - （１０）上記光がレーザ光である、請求項９に記載の投
影装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2110474A JP2657957B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 投影装置及び光照射方法 |
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| DE69124712T DE69124712T2 (de) | 1990-04-27 | 1991-04-26 | Verfahren zur Herstellung einer Düsenplatte eines Farbstrahldruckers |
| AT91106818T ATE149021T1 (de) | 1990-04-27 | 1991-04-26 | Verfahren zur herstellung einer düsenplatte eines farbstrahldruckers |
| EP91106818A EP0454152B1 (en) | 1990-04-27 | 1991-04-26 | Method of manufacturing nozzle plate for ink jet printer |
| US08/229,133 US5517000A (en) | 1990-04-27 | 1994-04-18 | Apparatus for forming a workpiece using plural light beams |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2110474A JP2657957B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 投影装置及び光照射方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH049293A true JPH049293A (ja) | 1992-01-14 |
| JP2657957B2 JP2657957B2 (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=14536628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2110474A Expired - Fee Related JP2657957B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 投影装置及び光照射方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5263250A (ja) |
| EP (1) | EP0454152B1 (ja) |
| JP (1) | JP2657957B2 (ja) |
| AT (1) | ATE149021T1 (ja) |
| DE (1) | DE69124712T2 (ja) |
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