JPS5978954A - 光学ガラスフアイバ用被覆材料 - Google Patents
光学ガラスフアイバ用被覆材料Info
- Publication number
- JPS5978954A JPS5978954A JP57186327A JP18632782A JPS5978954A JP S5978954 A JPS5978954 A JP S5978954A JP 57186327 A JP57186327 A JP 57186327A JP 18632782 A JP18632782 A JP 18632782A JP S5978954 A JPS5978954 A JP S5978954A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diamine
- coating material
- component
- optical fiber
- precursor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は光伝送用の光学ガラスファイバを被覆するた
めの耐熱性材料に関する。
めの耐熱性材料に関する。
光伝送に用いられる光学ガラスファイバ（以下、光ファ
イバという）は、脆く、傷がつきやすいうえに可とう性
に乏しいので、このような傷が原因となってわずかな外
力によっても容易に破壊する。
イバという）は、脆く、傷がつきやすいうえに可とう性
に乏しいので、このような傷が原因となってわずかな外
力によっても容易に破壊する。
したがって、従来より、光ファイバはガラス母材から紡
糸した直後にその表面に樹脂被覆が施されている。
糸した直後にその表面に樹脂被覆が施されている。
このような樹脂被覆材料としては、従来、エポキシ樹脂
やウレタン樹脂などが用いられているが、これらは耐熱
性の点で満足できるものではない。
やウレタン樹脂などが用いられているが、これらは耐熱
性の点で満足できるものではない。
この点を改善するために、耐熱性被覆材料として、ポリ
イミドが提案されているが、この種の材料は光ファイバ
との密着性か悪く、耐湿性などの面で長期信頼性に欠け
るなどの問題点がある。
イミドが提案されているが、この種の材料は光ファイバ
との密着性か悪く、耐湿性などの面で長期信頼性に欠け
るなどの問題点がある。
この発明は、上記の問題点を解決するためになされたも
のであって、とくに耐熱性にすぐれるとともに、光ファ
イバとの密着性にすぐれる被覆材料を提供することを目
的としている。
のであって、とくに耐熱性にすぐれるとともに、光ファ
イバとの密着性にすぐれる被覆材料を提供することを目
的としている。
すなわち、この発明は、テトラカルボン酸またはその酸
無水物ないし低級アルキルエステルと分子両末端にアミ
ン基を有するシリコン系ジアミンを一成分として含むジ
アミンとを略等モル反応させて得られるポリイミド前駆
体およびこの前駆体を溶解する有機溶剤を含むことを特
徴とする光フアイバ用被覆材料に係るものである。
無水物ないし低級アルキルエステルと分子両末端にアミ
ン基を有するシリコン系ジアミンを一成分として含むジ
アミンとを略等モル反応させて得られるポリイミド前駆
体およびこの前駆体を溶解する有機溶剤を含むことを特
徴とする光フアイバ用被覆材料に係るものである。
この発明の被覆材料によれば、これを光ファイバの表面
に塗布して有機溶剤を揮散除去したのち、さらに高温下
で加熱処理することによりポリイミド前駆体が閉環（イ
ミド化）して耐熱性にすぐれるポリイミド被膜を与える
。この被膜は、上記前駆体の合成原料であるジアミンの
一成分として分子両末端にアミン基を有するシリコン系
ジアミンを用いていることから、光ファイバに対する密
着性か著しく改善されたものとなり、常態下はもちろん
のこと高湿条件下においても光ファイバの強度を高めて
、長期信頼性の向上に大きく寄与する。
に塗布して有機溶剤を揮散除去したのち、さらに高温下
で加熱処理することによりポリイミド前駆体が閉環（イ
ミド化）して耐熱性にすぐれるポリイミド被膜を与える
。この被膜は、上記前駆体の合成原料であるジアミンの
一成分として分子両末端にアミン基を有するシリコン系
ジアミンを用いていることから、光ファイバに対する密
着性か著しく改善されたものとなり、常態下はもちろん
のこと高湿条件下においても光ファイバの強度を高めて
、長期信頼性の向上に大きく寄与する。
この発明のポリイミド前駆体を合成するために用いられ
るテトラカルボン酸成分としては、たとえばピロメリッ
ト酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテ
トラカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、シクロ
ペンタンテトラカルボン酸、１・２・３・４−ブタンテ
トラカルボン酸などの各種テトラカルボン酸およびその
酸無水物ないし低級アルキルエステルなどがある。
るテトラカルボン酸成分としては、たとえばピロメリッ
ト酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテ
トラカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、シクロ
ペンタンテトラカルボン酸、１・２・３・４−ブタンテ
トラカルボン酸などの各種テトラカルボン酸およびその
酸無水物ないし低級アルキルエステルなどがある。
上記テトラカルボン酸成分と反応させるジアミン成分と
しては、分子両末端にアミノ基を有するシリコン系ジア
ミンと、これ以外の脂肪族、芳香族、脂環族、異節環族
などの種々のジアミンとが用いられ、後者のジアミンと
してはとくに芳香族ジアミンが好ましく用いられる。
しては、分子両末端にアミノ基を有するシリコン系ジア
ミンと、これ以外の脂肪族、芳香族、脂環族、異節環族
などの種々のジアミンとが用いられ、後者のジアミンと
してはとくに芳香族ジアミンが好ましく用いられる。
分子両末端にアミン基を有するシリコン系ジアミンとし
ては、一般に下記の構造式； ％式％ （式中、ｋｌはメチレン基、フェニレン基または置換フ
ェニレン基、ｋ２はメチル基、フェニル基または置換フ
ェニル基、Ｘは酸素原子、フェニレン基または置換フェ
ニレン基、ｎは整数でに１がメチレン基の場合は３また
は４、フェニレン基もしくは置換フェニレン基の場合は
１である）で表わされるものが好ましく用いられる。そ
の具体例を挙げれば下記の如くである。
ては、一般に下記の構造式； ％式％ （式中、ｋｌはメチレン基、フェニレン基または置換フ
ェニレン基、ｋ２はメチル基、フェニル基または置換フ
ェニル基、Ｘは酸素原子、フェニレン基または置換フェ
ニレン基、ｎは整数でに１がメチレン基の場合は３また
は４、フェニレン基もしくは置換フェニレン基の場合は
１である）で表わされるものが好ましく用いられる。そ
の具体例を挙げれば下記の如くである。
ＣＨ３ＣＨ３
ＣＨａ ＣＨｓ
ＣＨ３ＣＨ３
ＣＨａ ＣＨ３
ＣｅＨｓ ＣａＢ６
１
ＣｅＨｓ ＣｅＨｓ
ＣｅＨｓ ＣａＢ６
ＣＨ３ＣＨ３
ＣＨ３ＣＨａ
ＣＨａ ＣＨａ
ＣＨ３ＣＨ３
ＣＨ３ＣＨ３
上記のシリコン系ジアミンの使用量は、ジアミン成分全
体の０．１〜３０モル％、好ましくは１〜２０モル％と
するのが望ましい。この量が少なすぎては光ファイバに
対する密着性改善効果を得にくく、また多くなりすぎる
と耐熱性などを損なう結果となり、いずれも好ましくな
い。
体の０．１〜３０モル％、好ましくは１〜２０モル％と
するのが望ましい。この量が少なすぎては光ファイバに
対する密着性改善効果を得にくく、また多くなりすぎる
と耐熱性などを損なう結果となり、いずれも好ましくな
い。
シリコン系ジアミンと併用される他のジアミン成分とし
ては、前述したとおり芳香族ジアミンが好ましいが、そ
の具体例としては、ｍ−フェニレンジアミン、Ｐ−フェ
ニレンジアミン、４・４′−ジジ アミノフェニルプロパン、４・４′−ジアミノジフエ△ ニルエタン、４・４′−ジアミノジフェニルメタン、ベ
ンジジン、３・３′−ジメトキシベンジジン、４・４′
−ジアミノジフエニルスルフイド、Ｐ−ビス（４−アミ
ノフェノキシベンゼン）、ｍ−ビス（４−Ｐ−アミノフ
ェノキシ）ベンゼン、４・４′−ジアミノジフェニルエ
ーテル、４・４′−ジアミノジフェニルスルホン、ｍ−
キシレンジアミン、Ｐ−キシレンジアミン、４・４′−
ジアミノシクロヘキシルメタン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン
、ノナメチレンジアミン、４・４′−ジメチルへブタメ
チレンジアミン、３−メトキシへブタメチレンジアミン
、２・１１−ジアミノドデカン、１・４−ジアミノシク
ロヘキサン、２・２′−ジアミノジエチルエーテル、２
・２′−ジアミノジエチルチオエーテノペ３・３′−ジ
アミノジプロポキシエタン、２・６−シアミツピリジン
、グアナミン、２・５−ジアミノ−１・３・４−オキサ
シアソール、２−（３’−アミノフェニル）−５−アミ
ノベンゾオキサゾール、ビス（４−アミノフェニル）ホ
スフィンなどが挙げられる。
ては、前述したとおり芳香族ジアミンが好ましいが、そ
の具体例としては、ｍ−フェニレンジアミン、Ｐ−フェ
ニレンジアミン、４・４′−ジジ アミノフェニルプロパン、４・４′−ジアミノジフエ△ ニルエタン、４・４′−ジアミノジフェニルメタン、ベ
ンジジン、３・３′−ジメトキシベンジジン、４・４′
−ジアミノジフエニルスルフイド、Ｐ−ビス（４−アミ
ノフェノキシベンゼン）、ｍ−ビス（４−Ｐ−アミノフ
ェノキシ）ベンゼン、４・４′−ジアミノジフェニルエ
ーテル、４・４′−ジアミノジフェニルスルホン、ｍ−
キシレンジアミン、Ｐ−キシレンジアミン、４・４′−
ジアミノシクロヘキシルメタン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン
、ノナメチレンジアミン、４・４′−ジメチルへブタメ
チレンジアミン、３−メトキシへブタメチレンジアミン
、２・１１−ジアミノドデカン、１・４−ジアミノシク
ロヘキサン、２・２′−ジアミノジエチルエーテル、２
・２′−ジアミノジエチルチオエーテノペ３・３′−ジ
アミノジプロポキシエタン、２・６−シアミツピリジン
、グアナミン、２・５−ジアミノ−１・３・４−オキサ
シアソール、２−（３’−アミノフェニル）−５−アミ
ノベンゾオキサゾール、ビス（４−アミノフェニル）ホ
スフィンなどが挙げられる。
テトラカルボン酸成分とジアミン成分との反応は、両成
分を略等モル使用して有機溶剤中０−２００℃で１〜１
０時間反応させることにより行なわれる。ここで用いる
有機溶剤としては、たとえばＮ・Ｉ’Ｊ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、フェノ
ール、キシレノール、クレゾールなどが挙げられる。
分を略等モル使用して有機溶剤中０−２００℃で１〜１
０時間反応させることにより行なわれる。ここで用いる
有機溶剤としては、たとえばＮ・Ｉ’Ｊ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、フェノ
ール、キシレノール、クレゾールなどが挙げられる。
このようにして得られるポリイミド前駆体の分子量とし
ては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン中０．５９ ／ １
００ｍ１Ｖ、３０°Ｃでの固有粘度〔η〕が０．３〜３
程度のものである。この前駆体は光ファイバへ塗布後の
高温加熱処理によって閉環（イミド化）して不溶不融の
ポリイミドに変換される。
ては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン中０．５９ ／ １
００ｍ１Ｖ、３０°Ｃでの固有粘度〔η〕が０．３〜３
程度のものである。この前駆体は光ファイバへ塗布後の
高温加熱処理によって閉環（イミド化）して不溶不融の
ポリイミドに変換される。
この発明の光ファイバ用被覆拐料は、このようにして得
られるポリイミド前駆体の有機溶剤溶液からなるもので
あるが、ポリイミド前駆体の濃度としては、一般に５〜
３０重量％程度となるように調整するのが望ましい。こ
の溶剤溶液には、必要に応じて従来公知の各種の添加剤
を添加しても差し支えない。
られるポリイミド前駆体の有機溶剤溶液からなるもので
あるが、ポリイミド前駆体の濃度としては、一般に５〜
３０重量％程度となるように調整するのが望ましい。こ
の溶剤溶液には、必要に応じて従来公知の各種の添加剤
を添加しても差し支えない。
以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。なお、以下において、ポリイミド前駆体の固有粘
度とは、Ｎ−メチル−２−ピロリドン中０．５ ｆ／１
００ｍ／、３０″Ｃで測定した値を意味するものである
。
する。なお、以下において、ポリイミド前駆体の固有粘
度とは、Ｎ−メチル−２−ピロリドン中０．５ ｆ／１
００ｍ／、３０″Ｃで測定した値を意味するものである
。
実施例１
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた３００ＣＣの
四つロフラスコに、無水ピロメリット酸２１，８１０．
１モル）、ジアミノジフェニルメタン１７．８９ （０
，０９モル）、ビス（３−アミノプロピル）テトラメチ
ルジシロキサン２．５９ （０，０１モル）およびジメ
チルホルムアミド１６８ｇを仕込み、２０〜２５°Ｃで
１０時間反応させて、固有粘度０．５、樹脂濃度２０重
量％のポリイミド前駆体溶液を得、これをこの発明の光
フアイバ用被覆材料とした。
四つロフラスコに、無水ピロメリット酸２１，８１０．
１モル）、ジアミノジフェニルメタン１７．８９ （０
，０９モル）、ビス（３−アミノプロピル）テトラメチ
ルジシロキサン２．５９ （０，０１モル）およびジメ
チルホルムアミド１６８ｇを仕込み、２０〜２５°Ｃで
１０時間反応させて、固有粘度０．５、樹脂濃度２０重
量％のポリイミド前駆体溶液を得、これをこの発明の光
フアイバ用被覆材料とした。
実施例２
実施例１と同様の四つ目フラスコに、無水ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸３３’、２ ｆｌ （０，１モル）
、ジアミノジフェニルエーテル１７．０ｇ（０，０８５
モル）、ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシ
ロキサン３．７９ （０，０１５モル）およびＮ−メチ
ル−２−ピロリドン２１６ｇを仕込み、２０〜２５°Ｃ
て１０時間反応させて、固有粘度１．３、樹；脂濃度２
０重址％のポリイミド前駆体溶液を得、これをこの発明
の光フアイバ用被覆材料とした。
ンテトラカルボン酸３３’、２ ｆｌ （０，１モル）
、ジアミノジフェニルエーテル１７．０ｇ（０，０８５
モル）、ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシ
ロキサン３．７９ （０，０１５モル）およびＮ−メチ
ル−２−ピロリドン２１６ｇを仕込み、２０〜２５°Ｃ
て１０時間反応させて、固有粘度１．３、樹；脂濃度２
０重址％のポリイミド前駆体溶液を得、これをこの発明
の光フアイバ用被覆材料とした。
実施例３
実施例１と同様の四つロフラスコに、無水３・３′・４
・４′−ビフェニルテトラカルボン酸１４．７ｇ（０，
０５モル）、無水２・３・３′・４′−ビフェニルテト
ラカルボン酸１４．７ｇ（０，０５モル）、ジアミノジ
フェニルエーテル１９．８９ （０，０８モル）、ビス
（３−アミノプロピル）テトラフェニルジシロキサン５
．０９ （０，０２モル）およびクレゾール２１７ｇを
仕込み、１８０〜１９０’Ｃで５時間反応させて、固有
粘度１．８、樹脂濃度２０亀量％のポリイミド用 前駆体溶液を得、これをこの発明の光ファイバ被△ 覆材材とした。
・４′−ビフェニルテトラカルボン酸１４．７ｇ（０，
０５モル）、無水２・３・３′・４′−ビフェニルテト
ラカルボン酸１４．７ｇ（０，０５モル）、ジアミノジ
フェニルエーテル１９．８９ （０，０８モル）、ビス
（３−アミノプロピル）テトラフェニルジシロキサン５
．０９ （０，０２モル）およびクレゾール２１７ｇを
仕込み、１８０〜１９０’Ｃで５時間反応させて、固有
粘度１．８、樹脂濃度２０亀量％のポリイミド用 前駆体溶液を得、これをこの発明の光ファイバ被△ 覆材材とした。
比較例
ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン
を使用せず、ジアミノジフェニルメタンの使用量を０．
１モルとした以外は、実施例１と全く同様にしてポリイ
ミド前駆体の溶液を得、これを光フアイバ用被覆材料と
した。
を使用せず、ジアミノジフェニルメタンの使用量を０．
１モルとした以外は、実施例１と全く同様にしてポリイ
ミド前駆体の溶液を得、これを光フアイバ用被覆材料と
した。
上記各実施例および比較例の被覆材料を用いて実際に以
下の方法で光ファイバを被覆し、その性能を調べた結果
は、下記のとおりであった。
下の方法で光ファイバを被覆し、その性能を調べた結果
は、下記のとおりであった。
〈試験例〉
５０ｍ／分の速度で紡糸した直径１２５μｍの光ファイ
バの表面に紡糸工程に引き続く工程において、実施例１
〜３および比較例に係る各被覆材料を塗布したのち、長
さ５ Ｑ Ｃｍの赤外線加熱炉中、４５０”Ｃて焼杆け
た。被覆後のファイバの外径はいずれも１４０μｎｌで
あり、破断強度はいずれも５ ｋＯてあった。
バの表面に紡糸工程に引き続く工程において、実施例１
〜３および比較例に係る各被覆材料を塗布したのち、長
さ５ Ｑ Ｃｍの赤外線加熱炉中、４５０”Ｃて焼杆け
た。被覆後のファイバの外径はいずれも１４０μｎｌで
あり、破断強度はいずれも５ ｋＯてあった。
つきに、これらの被覆ファイバを２００°Ｃの雰囲気中
に１６８時間放置したのちに再度破断強度を調べてみた
ところ、いずれも初期の強度と変らなかった。一方、８
０°Ｃの温水中に１６８時間浸漬させたのちに、上記同
様に破断強度を調べてみたところ、実施例１〜３の場合
はいずれも初期と変らない５ｋｑの強度てあったのに対
し、比較例の場合は２に９に低下していた。
に１６８時間放置したのちに再度破断強度を調べてみた
ところ、いずれも初期の強度と変らなかった。一方、８
０°Ｃの温水中に１６８時間浸漬させたのちに、上記同
様に破断強度を調べてみたところ、実施例１〜３の場合
はいずれも初期と変らない５ｋｑの強度てあったのに対
し、比較例の場合は２に９に低下していた。
」二記の試験結果から明らかなように、この発明の被覆
桐材によれは、耐熱性にすぐれると共に光ファイバに対
する密着性にすぐれる樹脂被覆を達成でき、光ファイバ
の長期信頼性を著しく向上させうるものであることがわ
かる。
桐材によれは、耐熱性にすぐれると共に光ファイバに対
する密着性にすぐれる樹脂被覆を達成でき、光ファイバ
の長期信頼性を著しく向上させうるものであることがわ
かる。
Claims (1)
- （１）テトラカルボン酸またはその酸無水物ないし低級
アルキルエステルと分子両末端にアミノ基を有するシリ
コン系ジアミンを一成分として含むジアミンとを略等モ
ル反応させて得られるポリイミド前駆体およびこの前駆
体を溶解する有機溶剤を含むことを特徴とする光学ガラ
スファイバ用被覆利料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57186327A JPS5978954A (ja) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57186327A JPS5978954A (ja) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5978954A true JPS5978954A (ja) | 1984-05-08 |
| JPS636506B2 JPS636506B2 (ja) | 1988-02-10 |
Family
ID=16186399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57186327A Granted JPS5978954A (ja) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5978954A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0939064A3 (en) * | 1998-02-25 | 1999-11-17 | Hitachi, Ltd. | Optical fiber and fiber-optic sensing system using the same |
| JP2015101729A (ja) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | 三星電子株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | ポリイミド製造用組成物、ポリイミド、該ポリイミドを含む成形品、および該成形品を含む光学装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50125754A (ja) * | 1974-03-20 | 1975-10-03 | ||
| JPS5228266A (en) * | 1975-08-04 | 1977-03-03 | Gen Electric | Semiconductor element and method of manufacture thereof |
| JPS57143327A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-04 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Production of siloxane-modified polyimide precursor |
| JPS57143328A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-04 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Production of siloxane-modified polyimide precursor |
-
1982
- 1982-10-22 JP JP57186327A patent/JPS5978954A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50125754A (ja) * | 1974-03-20 | 1975-10-03 | ||
| JPS5228266A (en) * | 1975-08-04 | 1977-03-03 | Gen Electric | Semiconductor element and method of manufacture thereof |
| JPS57143327A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-04 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Production of siloxane-modified polyimide precursor |
| JPS57143328A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-04 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Production of siloxane-modified polyimide precursor |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0939064A3 (en) * | 1998-02-25 | 1999-11-17 | Hitachi, Ltd. | Optical fiber and fiber-optic sensing system using the same |
| US6418260B1 (en) | 1998-02-25 | 2002-07-09 | Hitachi, Ltd. | Optical fiber and fiber-optic sensing system using the same |
| JP2015101729A (ja) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | 三星電子株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | ポリイミド製造用組成物、ポリイミド、該ポリイミドを含む成形品、および該成形品を含む光学装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS636506B2 (ja) | 1988-02-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5747625A (en) | Silicate group-containing polyimide | |
| US4794157A (en) | Polyetherimide copolymers, and method for making | |
| US4672099A (en) | Soluble polyimide-siloxane precursor, process for producing same and cross-linked polyimide-siloxane | |
| JPS61118424A (ja) | 可溶性シリコ−ン−イミドコポリマ− | |
| JPH0749482B2 (ja) | 低吸湿性かつ高接着性のシリコン含有ポリイミド及びその前駆体の製造方法 | |
| US5041513A (en) | Polyimide resin compositions | |
| JPS5813087B2 (ja) | シロキサン変性ポリイミド前駆体の製造方法 | |
| US4338426A (en) | Intermediate, copolymer resin and production thereof | |
| JPS63317554A (ja) | 液状ポリイミド樹脂組成物 | |
| JPS5827721A (ja) | ポリアミド酸シリコン型中間体及びポリイミドシリコン共重合体樹脂の製造法 | |
| US4511681A (en) | Process for producing a polyimide solution | |
| JP2624724B2 (ja) | ポリイミドシロキサン組成物 | |
| US4499252A (en) | Process for producing polyimide precursor | |
| JPH047333A (ja) | 新規ポリイミド | |
| JPS5978954A (ja) | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 | |
| JP2766640B2 (ja) | 新規ポリイミド共重合体とその製造方法 | |
| KR100351627B1 (ko) | 무색 투명의 고접착성 지방족 폴리이미드 수지와 이를이용한 폴리이미드/무기물 복합 소재 | |
| KR920004605B1 (ko) | 가용성 이미드올리고머의 제조방법 | |
| JPS6076533A (ja) | ポリイミド前駆体の製造方法 | |
| JPH0423879A (ja) | 耐熱性イミド接着剤 | |
| JPS5953287B2 (ja) | ポリイミド前駆体の製造法 | |
| JPH0565342A (ja) | ポリイミド前駆体及びポリイミド硬化物 | |
| JPS59176321A (ja) | ポリイミド前駆体の製造法 | |
| JPS63241030A (ja) | 溶媒可溶ポリイミドの製造法 | |
| JP2653401B2 (ja) | ポリアミドイミドシリコン重合体の製造法 |