JPS5979200A - 低レベル放射性廃液の除染処理方法 - Google Patents

低レベル放射性廃液の除染処理方法

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JPS5979200A
JPS5979200A JP18945682A JP18945682A JPS5979200A JP S5979200 A JPS5979200 A JP S5979200A JP 18945682 A JP18945682 A JP 18945682A JP 18945682 A JP18945682 A JP 18945682A JP S5979200 A JPS5979200 A JP S5979200A
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activated carbon
adsorption
resin
zinc
treatment
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大塚 勝幸
仁 宮崎
正 佐藤
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Doryokuro Kakunenryo Kaihatsu Jigyodan
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Doryokuro Kakunenryo Kaihatsu Jigyodan
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  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ウラン、プルトニウム等を含む放射性廃液の
うち10 μCi/mfJ程1衰の低レベル廃液を10
−7μCi/mj!以下の極低レベルまで容易に除染覆
ることのできる方法に関する。
ウラン、プルトニウム、あるいは核分裂生成物等を含む
放射性廃液の処理法としては、蒸発濃縮法、凝集沈澱法
、浮上分離法がある。しかし、これらの処理法は、1μ
Ci/mρ程度のレベルの廃液を処理し10 μCi/
mρ程度に覆ることは可能であるが、それ以下の低レベ
ルまで除染することはできない。
また、上記以外の方法として活性炭やイオン交換樹脂に
よる吸着法がある。これらの方法はそれなりに除染効果
はあるが、必要な吸着時間が極端に長くなるとともに必
要な活性炭量、樹脂量も多く、現在までのところ実用化
されていない。また、これら活性炭やイオン交換樹脂に
よる吸着法では、10 μCi/n+、Il以下の極低
レベルにまで除染することはできなかった。
本発明は上記のような従来技術の実情に鑑みなされたも
ので、その目的は、必要な吸着体の量が少なく、吸着処
理に要りる時間も短く、しかも10 μC1/I11ρ
以下の極低レベルまで除染することのできる低レベル放
射性廃液の処理方法を提供することにある。
かかる目的を達成づべく案出された本発明は、亜鉛活性
炭による吸着処理と、キレート樹脂による吸着処理をそ
の順序で組合けることを特徴とするものである。
以下、本発明について更に詳しく説明する。
本発明は低レベル放射性廃液をpH1〜3程度に調整し
亜鉛活性炭で吸着処理した後、引き続いてその処理液を
pH3〜6程度に調整しキレ−1〜樹脂に吸着させるよ
うにした低レベル放射性廃液の除染処理方法である。
図面は、本発明に係る除染処理法の一例についての処理
フローである。ウラン、プル1ヘニウム等を含む放射性
廃液を中和処理し!、:後、濾過し中和残渣を除去する
。中和残渣は乾燥され保管される。濾液は1μCi/m
fJ程度である。この濾液を塩化第2鉄、ポリ塩化アル
ミニウム、高分子凝集剤(通常はポリアクリルアミドを
主成分どしたものが用いられる)等の凝集沈澱剤により
凝集沈澱処理することにより、放射性レベルを10 μ
Ci/n+J)程度に除染した上澄液を得る。なお、同
時に1qられたスラッジは乾燥保管される。
その後、」1記の上澄液を硝酸でpH1・−3程度に調
整し、吸着速度を5v=io以下で亜鉛活性炭で吸着処
理づる。引続き、吸着処理液に硫酸を添加し、再度1)
H調整し、pHを3〜6程度にして吸着速度を5V=1
0以下でキレ−を一樹脂で吸着処uiるのである。かく
して得ら7 れる処理液の放射性レベルは1×10 μCi/mρ以
下となる。
ここで使用覆る活性炭としては如何なる秤類のものでも
よく、例えばヤシ殻活性炭を用いることができるし、そ
の伯、石炭系、石油系のいずれでもよい。亜鉛活性炭は
、その目的からして亜鉛粉末と活性炭の混合体でもよい
が、比重差からカラム充填が困難であるため、活性炭表
面に亜鉛を電着きlたものが好ましい。活性炭処理て 
p t−1を1〜3程度に調整する理由は、活性炭の除
染係数を比較した場合、p(−1依存性があり、il+
−14以上よりはpH1〜3の方が高い除染係数が得ら
れるためC′ある。叶1の調整は特に硝酸を用いずとも
よいが、塩vi亡硫酸等は高腐食性であるためI)t−
11〜3で扱うには実用上問題があり、硝酸を用いるの
が最適である。
キレートによる吸着処理で01−1を3〜6程度に1■
る理由も除染係数に01−1依存性があるためである。
なお、亜鉛活性炭で処理した処理液は覆べて pt−1
7程度になり、それ故、キレ−1・による吸着処理に際
して再び酸によるp[−1調整か必10なのである。使
用する酸としては、取(及い上は硝酸が好ましいが、使
用したキレ−1〜樹脂が硝酸C′劣化づる性質のもので
あったためflA酸が使用されている。そのような問題
のない”ル−ト樹脂を用いるのであれば硝酸を用いる方
がI17ましい。しかし、硫酸も高温度の場合は腐食等
の問題が生じるが、pH3〜6程度であれば十分に実用
に耐えるため、特に問題は生じない。
本発明Cは亜鉛活性炭吸着工程の後にキレ−1−樹脂吸
着工程が組合させており、この順序ら重要である。各種
実験の結果判明したことは、後述の実施例、比較例で説
明されるように、このような二段階処理の方がそれぞれ
単独処理の場合より除染係数が大きいこと、一段目に亜
鉛活性炭吸着処理りることによりキレ−1〜樹脂の吸着
性能が上ること、および一段目の除染係数としてはキレ
ート樹脂よりも亜鉛活性炭の方が良いことである。これ
は、両眼着体を比較した場合、吸着性能そのものは亜鉛
活性炭がすぐれており、一段目に亜鉛活性炭@着処理J
ることにより、キレート樹脂の吸着を阻害りる物質(例
えば、Pu、Uよりも吸着し・1′Jすく、吸着するこ
とによりPu、tJの吸着できる全体量を少なくするよ
うなもの)が事前に亜鉛活性炭に吸着されるため、キレ
ート樹脂の吸着性能が上り、総合的な除染係数が向上す
るからCある。
もし、処理順序を逆にづると、キレ−1〜樹脂の性能向
上がないため、総合的な除染係数はさほど向上しない。
つまり、一段目に亜鉛活性炭にJ:る吸着、その後、ル
ート いう順序が重要なのである。
次に本発明の実施例について説明覆る。
〔実施例〕
図面のフローに従い、凝集沈澱処理した上澄液(全α重
量としての放射能レベルがi x i o’−’μCi
/mρ)の原液を硝酸によりpl−1を1に調整し、亜
鉛活性炭54.BQに5 mjl / u+in (7
,)速度で吸着させたところ、処理液は3,6X 1Q
−7μCi/mρとなり、除染係数2.8が得られた。
なお、使用した亜鉛活性炭の使用は次の通りである。
次に、得られた処理液を硫酸により pHを3に調整し
てから処理液に対して1/3の容積のキレ−1−樹脂7
0gにビーカ攪拌しながら1時間Pi!度吸着させたと
ころ処理液は9.8x 10−1tC,:/−となった
。なお、使用−したキレ−1−樹脂は次のものである。
し粒 度  :20〜50メツシュ 上記実施例の結果によれば、原液からの除染係数で10
,2となり、キレ−1・樹脂単独での除染係数について
も3.7と良好である。
比較例としてキレ−1−樹脂単独の場合の結果を以下に
示す。なお、亜鉛活性炭単独の場合については上記実施
例の前段の結果から明らかであるのでそれについての記
載(よ省略Jる。
〔比較例〕
全α線間として放射能レベルがI X 10−6μCi
/mρの原液を硫酸により pHを3とし、前記実施例
と同様の条件でキレ−1・樹脂に吸着させたところ、処
理液は5.0×10  μCi/mρどなり、除染係数
2.0が1qられIこ。
さC1上記実施例と比較例の結果から、亜鉛活性炭単独
、あるいはキレ−1−#I脂単独でも除染効果があるこ
とが確認されたが、てれだけて7 は1×10 μCi/mfJ以下の放射能レベルにする
ことができず、満足できないのに対して、亜鉛活性炭吸
着とキレ−1−樹脂吸着の二段吸着では、処理液の放射
能レベルをI X 10=μCi/mρ以下にすること
ができることが判明した。また、本発明方法の場合、キ
レ−1・樹脂単独での除染係数が3.1であり、比較例
の場合の除染係数2.0に比べ除染効果が倍増している
ことが判る。つまり、本発明方法のように亜鉛活性炭吸
着と4レ一ト樹脂吸着とをこの順序で組合せたものは、
それぞれ単独の場合よりも効果が倍増し、極めて良好な
結果が1qられるのである。
更に、通常の活性炭を用いた場合には青白が短く、活性
炭容量の5〜1018程麿の処理量で吸着性能は極端に
悪くなるが、亜鉛活性炭を用いるど(の容量の50倍以
上の処理mFも充分な除染効果が維持され、この点でも
極めr 4Er効なことが実験の結果、確認されでいる
本発明は]−記のように構成した低レベル放射性廃液の
処理方法であるから、必要な吸着体の量が少なく、吸着
処理に要する時間も短く、10−7μCi/mJ以下の
極低レベルまで容易に除染することができる点で非常に
1ぐれた効果を奏しうるちのである。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明に係る除染処即法の一例を示す処理フロー
図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、低レベル放射性廃液をpH1〜3程度に調整し亜鉛
    活性炭で吸着処理した後、引き続いてその処理液を吋1
    3〜6程度に調整しキレ−1−樹脂に吸着させることを
    特徴とする低レベル放射性廃液の除染処理方法。
JP18945682A 1982-10-28 1982-10-28 低レベル放射性廃液の除染処理方法 Granted JPS5979200A (ja)

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JPS5979200A true JPS5979200A (ja) 1984-05-08
JPS6348039B2 JPS6348039B2 (ja) 1988-09-27

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