JPS5984836A - 2−ヒドロキシ−3,4−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体の製造方法 - Google Patents
2−ヒドロキシ−3,4−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体の製造方法Info
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- JPS5984836A JPS5984836A JP19420182A JP19420182A JPS5984836A JP S5984836 A JPS5984836 A JP S5984836A JP 19420182 A JP19420182 A JP 19420182A JP 19420182 A JP19420182 A JP 19420182A JP S5984836 A JPS5984836 A JP S5984836A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は2〜ヒドロキシ−3,弘−ジアルコキシヘンズ
アルデヒド類の製造方法に関するものであシ、詳しくは
、ピロガロール類を直接アルキル化し位置選択的に2,
3−ジアルコキシフェノール類を得、次いで水酸幕に隣
接する位置にホルミルit−導入して、λ−ヒr゛ロキ
シー3.a−ジアルコキシベンズアルデ畔ド類を製造す
る製造方法に関するものである。
アルデヒド類の製造方法に関するものであシ、詳しくは
、ピロガロール類を直接アルキル化し位置選択的に2,
3−ジアルコキシフェノール類を得、次いで水酸幕に隣
接する位置にホルミルit−導入して、λ−ヒr゛ロキ
シー3.a−ジアルコキシベンズアルデ畔ド類を製造す
る製造方法に関するものである。
In記一般式(m )で表わされる2−ヒドロキシ−3
,≠−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体は広く化学
反応の原料として用いられる。特に医薬品の中間原料と
して、また染料、ポリマー類の光劣化防止剤としてのサ
リチルアルドキシム金属錯体(特開昭タJ−−/コ/2
り、特開昭タロー/lit!2)の中間原料として重要
な化合物である。
,≠−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体は広く化学
反応の原料として用いられる。特に医薬品の中間原料と
して、また染料、ポリマー類の光劣化防止剤としてのサ
リチルアルドキシム金属錯体(特開昭タJ−−/コ/2
り、特開昭タロー/lit!2)の中間原料として重要
な化合物である。
従来、これらの2−ヒドロキシ−3,弘−ジ−アルコキ
シベンズアルデヒド類は、コ、3.弘−トリヒドロキシ
ベンズアルデヒド類をホルミル基とそれは隣接する水酸
基との間の水素結合力による水酸基の反応性低下を利用
した直接アルキル化法によって合成されていた。しかし
、反応の選択性が著しく低く、目的とする化合物を収率
良く合成することがしばしば困難であった。
シベンズアルデヒド類は、コ、3.弘−トリヒドロキシ
ベンズアルデヒド類をホルミル基とそれは隣接する水酸
基との間の水素結合力による水酸基の反応性低下を利用
した直接アルキル化法によって合成されていた。しかし
、反応の選択性が著しく低く、目的とする化合物を収率
良く合成することがしばしば困難であった。
本発明者は、よシ選択性を上げて、上記の欠点を排除す
べく鋭意検討を重ねた結果、ピロガロール類を特定の条
件で直接アルキル化することによって2,3−ジアルコ
キシフェノール類が70%以上の収率で生成することを
見出し′、本発明に到達した。
べく鋭意検討を重ねた結果、ピロガロール類を特定の条
件で直接アルキル化することによって2,3−ジアルコ
キシフェノール類が70%以上の収率で生成することを
見出し′、本発明に到達した。
すなわち、本発明の要旨は、一般式(I)で示されるピ
ロガロール類を直接アルキル化し、一般式(…)の2,
3−ジアルコキシフェノール類得、次いで水酸基に隣接
する位置にポルミル基を導入L−c、一般式(Ill
)で示されるコーヒドロキシ−”3、弘−ジアルコキシ
ベンズアルデヒド誘導体を製造することである。
ロガロール類を直接アルキル化し、一般式(…)の2,
3−ジアルコキシフェノール類得、次いで水酸基に隣接
する位置にポルミル基を導入L−c、一般式(Ill
)で示されるコーヒドロキシ−”3、弘−ジアルコキシ
ベンズアルデヒド誘導体を製造することである。
一般式(1)
一般式(II)
■1
−R2
一般式(In)
〇−几2
R2は炭素数l〜20のアルキルが好ましい。
一般式(1)であられされる化合物の具体例は以下の通
シである。
シである。
(1) (2)
(3) (41
0H0H
(51(6)
1
本発明によって合成される一般式(III)であられさ
れる化合物は例えば以下のものがある。
れる化合物は例えば以下のものがある。
(11(21
QC2H5Q
(i)C4H9
+3) l、)
(5) (6)
C2H3−C−C4H9
以下に本発明の詳細な説明する。
/、、2.J )リヒドqキシベンゼン誘導体を3倍
からj倍モルのアルキルハライドでアルキル化L タ時
K、’ m J * j−Fジアルコキシベンゼン誘導
体や/、3−ジアルコキシベンゼン誘導体が極めて少量
しか生成せずに2,3−ジアルコキシフェノールが70
97.以上の収率で生成することを見出した事が本発明
の最大のポイントである。
からj倍モルのアルキルハライドでアルキル化L タ時
K、’ m J * j−Fジアルコキシベンゼン誘導
体や/、3−ジアルコキシベンゼン誘導体が極めて少量
しか生成せずに2,3−ジアルコキシフェノールが70
97.以上の収率で生成することを見出した事が本発明
の最大のポイントである。
/、2.!−トリヒドロキシベンゼン誘導体を7 k
:ff −k系ffJ媒(好ましくはプロパツール、イ
ンプロパツール、またはn−ブタノール、メチルセルン
ルブ等のto”に以上の沸点を有するアルコール類)、
または非プロトン−極性溶媒(好ましくはアセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)
に溶解し、塩基触媒(好ましくは無水炭酸カリウム)を
1.2.3−トリヒドロキシベンゼン誘導体に対し/、
t〜10倍モル(好ましくは3〜夕倍モル)添加し、反
応温度2!0〜2.00 °C(好ましくは10−10
0 ’C)で加熱攪拌する事によって目゛的とするλ、
3−ジアルコキシフェノールが高収率に得られる。反応
時間を短縮するために、さらに反応加速触媒(例えば、
ポリエチレングリコール(平均分子量≠00)、フッ化
カリウムテトラアルキルアンモニウム塩等)t−/、、
2* 3− ト+)ヒドロキシベンゼンに対10.7〜
70倍モル(好ましくは0,1〜7倍モル)添加するこ
とは極めて有効である。コ、3−ジアルコキシフェノー
ルの生成率は、用いる出発原料、アルキル化剤によって
若干異なるかはぼ7o−a’ o%に達する。これらの
生成物を精製する方法として減圧蒸留が有点である。減
圧蒸留操作によって、目的物をりtq6以上の純度で得
ることができる。これらの詳細は実施例で明らかになる
であろう。
:ff −k系ffJ媒(好ましくはプロパツール、イ
ンプロパツール、またはn−ブタノール、メチルセルン
ルブ等のto”に以上の沸点を有するアルコール類)、
または非プロトン−極性溶媒(好ましくはアセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)
に溶解し、塩基触媒(好ましくは無水炭酸カリウム)を
1.2.3−トリヒドロキシベンゼン誘導体に対し/、
t〜10倍モル(好ましくは3〜夕倍モル)添加し、反
応温度2!0〜2.00 °C(好ましくは10−10
0 ’C)で加熱攪拌する事によって目゛的とするλ、
3−ジアルコキシフェノールが高収率に得られる。反応
時間を短縮するために、さらに反応加速触媒(例えば、
ポリエチレングリコール(平均分子量≠00)、フッ化
カリウムテトラアルキルアンモニウム塩等)t−/、、
2* 3− ト+)ヒドロキシベンゼンに対10.7〜
70倍モル(好ましくは0,1〜7倍モル)添加するこ
とは極めて有効である。コ、3−ジアルコキシフェノー
ルの生成率は、用いる出発原料、アルキル化剤によって
若干異なるかはぼ7o−a’ o%に達する。これらの
生成物を精製する方法として減圧蒸留が有点である。減
圧蒸留操作によって、目的物をりtq6以上の純度で得
ることができる。これらの詳細は実施例で明らかになる
であろう。
次に2,3−ジアルコキシフェノール類カラ一般式(l
Il)で示されるコーヒドロキシー3.≠−ジアルコキ
シベンズアルデヒドの製造条件について述べる。フェノ
ールのホルミル化として良く知られているViIsme
ier反応、Reimer −Tiemann反応、ま
たはHC(OC2H5)21/Alct3/エーテル系
(Berichte 、 P t301 (/り4j
) )f:、用いる反応条件を試みたが、原料回収か、
多量の副生成物の生成によシ目的を達することが出来な
かった。最近になって報告されたパラホルムアルデヒド
/ 8 n C14/ B u 3 N系(J、Che
m、 Soc、、 Perkin l lll2(1
910))の反応条件を使用することによって、λ−ヒ
ドロキシー3.弘−ジアルコキシベンズアルデヒドが1
04以上の収率で得ることができた。
Il)で示されるコーヒドロキシー3.≠−ジアルコキ
シベンズアルデヒドの製造条件について述べる。フェノ
ールのホルミル化として良く知られているViIsme
ier反応、Reimer −Tiemann反応、ま
たはHC(OC2H5)21/Alct3/エーテル系
(Berichte 、 P t301 (/り4j
) )f:、用いる反応条件を試みたが、原料回収か、
多量の副生成物の生成によシ目的を達することが出来な
かった。最近になって報告されたパラホルムアルデヒド
/ 8 n C14/ B u 3 N系(J、Che
m、 Soc、、 Perkin l lll2(1
910))の反応条件を使用することによって、λ−ヒ
ドロキシー3.弘−ジアルコキシベンズアルデヒドが1
04以上の収率で得ることができた。
一般式(II)で示されるコ、3−ジアルコキシフェノ
ール類を芳香族炭化水素系溶媒(例えばベンゼン、トル
エン、キシレン等)に溶解シ、塩化第2スズO0/〜7
.0(好ましくは0.2〜θ。
ール類を芳香族炭化水素系溶媒(例えばベンゼン、トル
エン、キシレン等)に溶解シ、塩化第2スズO0/〜7
.0(好ましくは0.2〜θ。
夕)倍モル、パラホルムアルデヒド、2〜夕(好ましく
は2〜3)倍モル、3級アミン(好ましくはトリーn−
ブチルアミン)を0./−70(好ましくは0.3〜2
.0)倍モル添加し、反応温度to 0〜/!O0の範
囲で加熱攪拌することによって50%以上の収率で2−
ヒドロキシ−3゜弘−ジアルコキシベンズアルデヒド類
が生成する。
は2〜3)倍モル、3級アミン(好ましくはトリーn−
ブチルアミン)を0./−70(好ましくは0.3〜2
.0)倍モル添加し、反応温度to 0〜/!O0の範
囲で加熱攪拌することによって50%以上の収率で2−
ヒドロキシ−3゜弘−ジアルコキシベンズアルデヒド類
が生成する。
精製はカラムクロマトによることも出来るが製造的に可
能な減圧蒸留が好ましい。減圧蒸留によってり2%以上
で目的物が単離される。これらの詳細は実施例で明らか
になるであろう。
能な減圧蒸留が好ましい。減圧蒸留によってり2%以上
で目的物が単離される。これらの詳細は実施例で明らか
になるであろう。
以下の実施例にこれまでの公知の合成法との比較および
本発明で到達した製造方法の具体例を示すが、本発明は
その要旨を超えない限シ、下記実施例により何等の限定
を受けるものではない。
本発明で到達した製造方法の具体例を示すが、本発明は
その要旨を超えない限シ、下記実施例により何等の限定
を受けるものではない。
実施例 l。
サリチルアルデヒドの水酸基に隣接する水酸基のみを選
択的にアルキル化するために、ホルミル基とそれに隣接
する水酸基との間の水素結合力による反応性の低下を予
想し、以下の方法で2−ヒドロキシ−J、44−ジー(
−一エチルへキシルオキシ)ベンズアルデヒドの合成を
試みた。
択的にアルキル化するために、ホルミル基とそれに隣接
する水酸基との間の水素結合力による反応性の低下を予
想し、以下の方法で2−ヒドロキシ−J、44−ジー(
−一エチルへキシルオキシ)ベンズアルデヒドの合成を
試みた。
λ、J、4L−トリヒドロキシベンズアルデヒド30.
19(0,2モル)、無Ij<炭酸カリウム、t t
、 2 ? (0、≠モル)に、窒素気流下で、ジメチ
ルホルムアミド300mQを加えた。これを内温13”
C−90’Cで攪拌しなからλ−エチルへキシルプロミ
ド77.29(0,uモル)ヲ徐徐に加えた。そのまま
さらに≠時間、攪拌を続けた後、冷却し、窒素気流を止
め、酢酸エチル100mQ、、飽和食塩水j00mQを
加えて、セライトで濾過をした。分液後、酢酸エチル層
を飽和食塩水j00rn(Iで2回洗浄した後、無水芒
硝にて乾燥した。芒硝を戸別後酢酸エチルを減圧留去し
、得られた油状物をカラムクロマトグラフで精製し、2
−ヒドロキシ−3,グージー(2−エチルへキシルオキ
シ)ベンズアルデヒド弘2を得た。収率!チ また上記反応条件で反応溶媒をアセトニトリル、イソプ
ロピルアルコール、メチルイソヅチルケトン、ナト2ヒ
ドロフラン等に救え、また反応湿度′ も変え、ホウ素
化合物等の添加物を加えて与だが、2−ヒドロキシ−3
,グージー (2−エチルへキシルオキシ)ベンズアル
デヒドの収率はJ−4以上とはならなかった。
19(0,2モル)、無Ij<炭酸カリウム、t t
、 2 ? (0、≠モル)に、窒素気流下で、ジメチ
ルホルムアミド300mQを加えた。これを内温13”
C−90’Cで攪拌しなからλ−エチルへキシルプロミ
ド77.29(0,uモル)ヲ徐徐に加えた。そのまま
さらに≠時間、攪拌を続けた後、冷却し、窒素気流を止
め、酢酸エチル100mQ、、飽和食塩水j00mQを
加えて、セライトで濾過をした。分液後、酢酸エチル層
を飽和食塩水j00rn(Iで2回洗浄した後、無水芒
硝にて乾燥した。芒硝を戸別後酢酸エチルを減圧留去し
、得られた油状物をカラムクロマトグラフで精製し、2
−ヒドロキシ−3,グージー(2−エチルへキシルオキ
シ)ベンズアルデヒド弘2を得た。収率!チ また上記反応条件で反応溶媒をアセトニトリル、イソプ
ロピルアルコール、メチルイソヅチルケトン、ナト2ヒ
ドロフラン等に救え、また反応湿度′ も変え、ホウ素
化合物等の添加物を加えて与だが、2−ヒドロキシ−3
,グージー (2−エチルへキシルオキシ)ベンズアル
デヒドの収率はJ−4以上とはならなかった。
実施例 2゜
ノーヒドロキシ−3,グージー (,2−エチルへキシ
ルオキシ)ベンズアルデヒドの製造法■ 中間体 λ
、3−ジー(2−エチルへキシルオキシ)フェノールの
製造法 ピロガロールtoy (O,l/−モル)、帛水炭酸カ
リウム/l’l?(/、20モル)に窒素気流下でイソ
プロピルアルコール3 j OmQ、 ;ポリエチレン
クリコール(PEG弘00)2!rnρを加えた。
ルオキシ)ベンズアルデヒドの製造法■ 中間体 λ
、3−ジー(2−エチルへキシルオキシ)フェノールの
製造法 ピロガロールtoy (O,l/−モル)、帛水炭酸カ
リウム/l’l?(/、20モル)に窒素気流下でイソ
プロピルアルコール3 j OmQ、 ;ポリエチレン
クリコール(PEG弘00)2!rnρを加えた。
これをスチーム浴上で加熱攪拌しながら、2−エチルへ
キシルプロシト2りλ?(/、30モル)な≠時間かけ
て滴下し、さらに70時間加熱攪拌を続けた。反応液を
冷却し、窒素気流を止めた後、n−ヘキサン1jOoI
ILI11飽和食塩″水10100Oを加えて分岐し、
さらにn−へキサン層を飽和食塩水/ 000 mQ、
で7回、希塩酸水10100O,で7回、飽和食塩水1
0100Oで2回洗浄した。n −ヘキサン孕減圧留去
し、得られた曲状物を減圧蒸留し、沸点/ 70 ’C
10、/ター0 、201TlnlH?(油浴温$2J
O@C)の悄分を集めると2.3−ジー(2−エチルへ
キシルオキシ)フェノールO0!2が得られた。収率7
0% 元素分析 理論値 Cニア!1.31%、H:10.93%測定値
Cニア!、4t7 、H://、07■ 2−ヒド
ロキシ−31ψ−ジー(2エチルへキシルオキシ)ベン
ズアルデヒドの製造法コ、3−ジー(2−エチルへキシ
ルオキシ)フェノール100’?(0,22モル)にト
ルエン!70m9を加え、内温iz oc以下で攪拌し
、この溶液に塩化第Jスズ10.jmg(0,017モ
ル)を加え、でらにトリブチルアミンlrOmQ(0゜
3タモル)、パラホルムアルデヒド、2J、、tf(0
,7t%k)を加え、内温70 ’C−7!”Cで3時
間加熱攪拌を続けた。次に濃塩酸30m1@氷水101
00Oに溶かした水溶液に上記反応液を攪拌しながら注
いだ。n−ヘキサンj 00 mil、を加え、セライ
ト濾過をし、n−ヘキサン層を飽オロ食塩水/θ00m
Qで2回洗浄した後、溶媒を減圧留去した。得られた油
状物を減圧蒸留し、沸点/100C〜/り0 ’C/
0 、 JrrtmH9(油浴温度2Jj”C)の留分
を集めると2−ヒドロキシ−3、弘−ジー(2−エチル
へキシルオキシ)ベンズアルデヒドtコ2が得られた。
キシルプロシト2りλ?(/、30モル)な≠時間かけ
て滴下し、さらに70時間加熱攪拌を続けた。反応液を
冷却し、窒素気流を止めた後、n−ヘキサン1jOoI
ILI11飽和食塩″水10100Oを加えて分岐し、
さらにn−へキサン層を飽和食塩水/ 000 mQ、
で7回、希塩酸水10100O,で7回、飽和食塩水1
0100Oで2回洗浄した。n −ヘキサン孕減圧留去
し、得られた曲状物を減圧蒸留し、沸点/ 70 ’C
10、/ター0 、201TlnlH?(油浴温$2J
O@C)の悄分を集めると2.3−ジー(2−エチルへ
キシルオキシ)フェノールO0!2が得られた。収率7
0% 元素分析 理論値 Cニア!1.31%、H:10.93%測定値
Cニア!、4t7 、H://、07■ 2−ヒド
ロキシ−31ψ−ジー(2エチルへキシルオキシ)ベン
ズアルデヒドの製造法コ、3−ジー(2−エチルへキシ
ルオキシ)フェノール100’?(0,22モル)にト
ルエン!70m9を加え、内温iz oc以下で攪拌し
、この溶液に塩化第Jスズ10.jmg(0,017モ
ル)を加え、でらにトリブチルアミンlrOmQ(0゜
3タモル)、パラホルムアルデヒド、2J、、tf(0
,7t%k)を加え、内温70 ’C−7!”Cで3時
間加熱攪拌を続けた。次に濃塩酸30m1@氷水101
00Oに溶かした水溶液に上記反応液を攪拌しながら注
いだ。n−ヘキサンj 00 mil、を加え、セライ
ト濾過をし、n−ヘキサン層を飽オロ食塩水/θ00m
Qで2回洗浄した後、溶媒を減圧留去した。得られた油
状物を減圧蒸留し、沸点/100C〜/り0 ’C/
0 、 JrrtmH9(油浴温度2Jj”C)の留分
を集めると2−ヒドロキシ−3、弘−ジー(2−エチル
へキシルオキシ)ベンズアルデヒドtコ2が得られた。
収率J′7qb元素分析
理論値 Cニア、2.りr H:10./2測定値
Cニア1.0! H二10,20実施例 3゜ 実施例2−■と同様な方法で、一般式(ll)cR2を
変更した化合物を合成した。表1に示すように、この2
.J−ジアルコキシフェノールノ製造法は、種々の化合
物にも適用でき良い収率を与えた。またこれらの2.3
−ジアルコキシフェノール類を実施例2−■と同様な方
法で反応させることによって2−ヒドロキシ−3,≠−
ジアルコキシベンズアルデヒドを良い収率で得ることが
できた。
Cニア1.0! H二10,20実施例 3゜ 実施例2−■と同様な方法で、一般式(ll)cR2を
変更した化合物を合成した。表1に示すように、この2
.J−ジアルコキシフェノールノ製造法は、種々の化合
物にも適用でき良い収率を与えた。またこれらの2.3
−ジアルコキシフェノール類を実施例2−■と同様な方
法で反応させることによって2−ヒドロキシ−3,≠−
ジアルコキシベンズアルデヒドを良い収率で得ることが
できた。
2Br
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式(1)で示されるピロガロール類を直接アルキル
化し、一般式(n)のλ、3−ジアルコキシフェノール
を得、次いで水酸基に隣接する位置にホルミル愚を導入
して一般式([1)で示される2−ヒドロキシ−3,≠
−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体を得る製造方法 −R2
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19420182A JPS5984836A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | 2−ヒドロキシ−3,4−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19420182A JPS5984836A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | 2−ヒドロキシ−3,4−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5984836A true JPS5984836A (ja) | 1984-05-16 |
| JPS6330294B2 JPS6330294B2 (ja) | 1988-06-17 |
Family
ID=16320629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19420182A Granted JPS5984836A (ja) | 1982-11-05 | 1982-11-05 | 2−ヒドロキシ−3,4−ジアルコキシベンズアルデヒド誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5984836A (ja) |
-
1982
- 1982-11-05 JP JP19420182A patent/JPS5984836A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6330294B2 (ja) | 1988-06-17 |
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