JPS5984945A - 安定化耐衝撃性ポリスチレン - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/37—Thiols
- C08K5/378—Thiols containing heterocyclic rings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
種々の耐衝撃性ポリスチレンのタイプが当業者に公知で
ある。耐衝撃性、靭性及び脆化傾向を改善する為に、ポ
リスチレンに、しばしばゴム、特にポリブタジェンを配
合する。この目的ノ為には、ゴムをポリスチレン母材中
に個々の粒子の形で分散させる。従来のほとんどの耐衝
撃性ポリスチレンはグラフトコポリマーまたは成分(ポ
リブレンド)の物理的混合物である。
ある。耐衝撃性、靭性及び脆化傾向を改善する為に、ポ
リスチレンに、しばしばゴム、特にポリブタジェンを配
合する。この目的ノ為には、ゴムをポリスチレン母材中
に個々の粒子の形で分散させる。従来のほとんどの耐衝
撃性ポリスチレンはグラフトコポリマーまたは成分(ポ
リブレンド)の物理的混合物である。
そのような変性ポリスチレンの製法は公知である。耐衝
撃性ポリスチレンは、例えば硬いこと、容易に製造しう
ろこと、化学薬品に耐する安定した耐性、並びに種々の
免訴及び色に染め易いことなどのポリスチレンにとって
よく知られている多くの利点をもっている。耐衝撃性ポ
リスチレンは従来池々の用途に使用されている。例えば
装置の構築、ケース、包装材料、玩其、家庭用品、工業
部品、装飾用壁クロスなどである。
撃性ポリスチレンは、例えば硬いこと、容易に製造しう
ろこと、化学薬品に耐する安定した耐性、並びに種々の
免訴及び色に染め易いことなどのポリスチレンにとって
よく知られている多くの利点をもっている。耐衝撃性ポ
リスチレンは従来池々の用途に使用されている。例えば
装置の構築、ケース、包装材料、玩其、家庭用品、工業
部品、装飾用壁クロスなどである。
耐衝撃性ポリスチレンについて訪[イ々の刊行物が知ら
れており1例えばBoundy及びBoyer lli
”F、!スチレンーそのポリマー、コポリマー及び誘導
体p Re1chold出版社、ニューヨーク中に見ら
れる。
れており1例えばBoundy及びBoyer lli
”F、!スチレンーそのポリマー、コポリマー及び誘導
体p Re1chold出版社、ニューヨーク中に見ら
れる。
it衝撃性スチレンは、酸化及び熱により分解し、着色
する傾向があるので、この安定化の為に多数の抗酸化剤
及び光安定剤が捉案されている。
する傾向があるので、この安定化の為に多数の抗酸化剤
及び光安定剤が捉案されている。
公知の化合物、例えばチアジンまだはプロピオン酸誘導
体が、耐衝撃性ポリスチレンの安定化に適している。
体が、耐衝撃性ポリスチレンの安定化に適している。
然し乍ら、ムロにより引き起される分解の防止に関して
は、完全に満足しつるものはまだ見出されて卦らず %
に熱変形については欠点がある。
は、完全に満足しつるものはまだ見出されて卦らず %
に熱変形については欠点がある。
本発明の目的は、従って、耐種1撃性ポリスチレンの為
の安定剤系を発見することである。
の安定剤系を発見することである。
耐衝撃性ポリスチレンの為に、2,4−ビス−(n−オ
クチルチオ) −6−(4’−ヒドロキシ−51,5/
−ジー第三ブチルアニリノ)−1゜5.5−)リアジン
及びトリーエチレングリコール−ビス−(3−メチル−
5−第三ブチルフェニル)−プロピオネートからなる安
定剤系が非常に良好に適することが見出された。
クチルチオ) −6−(4’−ヒドロキシ−51,5/
−ジー第三ブチルアニリノ)−1゜5.5−)リアジン
及びトリーエチレングリコール−ビス−(3−メチル−
5−第三ブチルフェニル)−プロピオネートからなる安
定剤系が非常に良好に適することが見出された。
驚くべきことに、この安定剤系は、保睦すべき暴利に対
し、各成分単独では、特に熱によりひき起される分解に
対して満足でなかったところの高い剛酸化または耐熱分
解性を与える。本発明により得られる相剰作用の外に、
この安定剤系は、とりわけ耐TERM性ポリスチレンの
加工の為には決定的に重要である高い色彩品質を示す。
し、各成分単独では、特に熱によりひき起される分解に
対して満足でなかったところの高い剛酸化または耐熱分
解性を与える。本発明により得られる相剰作用の外に、
この安定剤系は、とりわけ耐TERM性ポリスチレンの
加工の為には決定的に重要である高い色彩品質を示す。
2.4−ビス=(n−オクチルチオ)−6−(71′−
ヒドロキシ−sl、 sl−ジー第三ブチルアニリ/
) −1,3,5−トリアジンは公知化合物であり、例
えば米国特許第3,255,191号及び第3.334
,046号明細書中に記載さね、ている。
ヒドロキシ−sl、 sl−ジー第三ブチルアニリ/
) −1,3,5−トリアジンは公知化合物であり、例
えば米国特許第3,255,191号及び第3.334
,046号明細書中に記載さね、ている。
トリエチレングリコール−ビス−(3−メチル−5−第
三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート
も公知であり、例えば米国特許第3,944,594号
明細岩中に開示されている。
三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート
も公知であり、例えば米国特許第3,944,594号
明細岩中に開示されている。
前記のような特性を達成する為には、)・リアジンを好
ましくは001乃至0.04重量係の濃度で、そしてフ
ロビオネートを0.02乃至008重a%の濃度で添加
する。特に好捷しい範囲はトリアジン0.0125乃至
0.0.575重量受と、プロピオネ−)0.0375
乃至0.075重如飴である。
ましくは001乃至0.04重量係の濃度で、そしてフ
ロビオネートを0.02乃至008重a%の濃度で添加
する。特に好捷しい範囲はトリアジン0.0125乃至
0.0.575重量受と、プロピオネ−)0.0375
乃至0.075重如飴である。
本発明の安定剤系は、あらゆる種類の耐衝撃性ポリスチ
レン、及び変性ポリスチレン、例えばSDRとして知ら
れているものにも適している。
レン、及び変性ポリスチレン、例えばSDRとして知ら
れているものにも適している。
この安定剤系は公知の方法で而1 qfj IJq(性
ポリスチレンに添加することができる。まだ重合前に混
合することもできる。重合後にこれを添加する場合は、
公知の方法で溶媒、例えば塩化メチレン、ヘキサン、シ
クロヘキサンなどと混合し、その後、溶媒を蒸発させる
ことができる。
ポリスチレンに添加することができる。まだ重合前に混
合することもできる。重合後にこれを添加する場合は、
公知の方法で溶媒、例えば塩化メチレン、ヘキサン、シ
クロヘキサンなどと混合し、その後、溶媒を蒸発させる
ことができる。
更に補助添加剤をも加えることができる。補助添加剤と
1〜ては下記のものを」二げることができる。
1〜ては下記のものを」二げることができる。
1、 酸化防止剤
1.1 アルキル化された1価フェノール2.6−ジ
ー第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三プチル
−4,6−シメチルフエノール、2.6−ジー第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2,6−ジー第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2,6−ジー第三ブチル−
4−イソブチルフェノール、2゜6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノール、2 (α−メチルシクロ
ヘキシル)−4,6−シメチルフエノール、2.6−ジ
−オクタデシル−4−メチルフェノール、2゜4.6−
ドリーシクロヘキジルフエノール、2.6−ジー第三ブ
チル−4−メトキシメチルフェノール、2.6−ジフェ
ニル−4−オクタデシルオキシフェノール。
ー第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三プチル
−4,6−シメチルフエノール、2.6−ジー第三ブチ
ル−4−エチルフェノール、2,6−ジー第三ブチル−
4−n−ブチルフェノール、2,6−ジー第三ブチル−
4−イソブチルフェノール、2゜6−ジ−シクロペンチ
ル−4−メチルフェノール、2 (α−メチルシクロ
ヘキシル)−4,6−シメチルフエノール、2.6−ジ
−オクタデシル−4−メチルフェノール、2゜4.6−
ドリーシクロヘキジルフエノール、2.6−ジー第三ブ
チル−4−メトキシメチルフェノール、2.6−ジフェ
ニル−4−オクタデシルオキシフェノール。
1.2. アルキル化されたヒドロキノン2.6−ジ
ー第三ブチル−4−メトキシフェノール、2.5−ジー
第三ブチル−ヒドロキノン、2,5−ジー第三アミル−
ヒドロキノンまたは2.6−ジー第三ブチル−4−メト
キシメチルフェノール。
ー第三ブチル−4−メトキシフェノール、2.5−ジー
第三ブチル−ヒドロキノン、2,5−ジー第三アミル−
ヒドロキノンまたは2.6−ジー第三ブチル−4−メト
キシメチルフェノール。
1.5 ヒドロキシル化されたチオジフェニールエー
テル 2.2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、2.2′−チオ−ビス−(4−オクチル
フェノール)、4,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチ
ル−3−メチルフェノール)または4,4′−チオ−ビ
ス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)。
テル 2.2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4−メチル
フェノール)、2.2′−チオ−ビス−(4−オクチル
フェノール)、4,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチ
ル−3−メチルフェノール)または4,4′−チオ−ビ
ス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)。
1.4. アルキリデン−ビスフェノール2.2′−
メチレン−ビス−(6−第三ブチルー4−メチルフェノ
ール)、2,2′−メチv y −ヒス−(6−第三フ
チルー4−エチルフェノール)、2,2′−メチレン−
ビス−〔4−メチ1b−6(α−メチルシクロヘギシル
)−フェノール〕、2.27−メチレン−ビス−(4−
メチル−6−シクロヘキジルフエノール)、2,2′−
メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチルフェノール
)、2.2’−メチレン−ビス−(4,6−ジー第三ブ
チルフェノール)、2.2’−エチリテンービス−4,
6−ジー第三ブチルフェノール、2.2’−エチリデン
−ビス−(6−第三ブチル−4−インブチルフェノール
)、2,2′−メチレン−ビス−〔6−(α−メチルベ
ンジル)−4−ノニルフェノール〕、2.2′−メチレ
ン−ビス−[−(α、α−ジメチルベンジル)−4−ノ
ニルフェノール〕、2.2′−メチレン−ビス−(2,
6−ジー第三ブチルフェノール)、4.4′−メチレン
−ビス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、
1.1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェニル)−ブタン、2.6−ジー(6−第三
ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−1−
メチルフェノール、1、1.5−)リス−(5−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ブタン
、1.1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)−ろ−〇−ドデシルメルカプトブ
タン、エチレングリコールビス−〔3,3−ビス−(3
′−第三ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)−ブチレ
ート〕、ジー(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)−シシクロベンタジエンオたはジーC
2−(3’−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5’−)
エチル−ベンジル)6mmジブチル−4−メチルーフエ
ニル〕テレフタレート 1.5. ベンジル化合物 1、3.5− トリー(5,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼ
ン、ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)スルフィド、インオクチル5,5−ジー第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート
、ビス−(4−第三プチル−5−ヒドロキシ−2,6−
シメチルベンジル)−ジチオールテレフタレート、1,
3.5−トリス−(6,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)インシアヌレート、1,3.5−hリ
ス−(4−J!三ズブチル6−ヒドロキシ−2,6−シ
メチルベンジル)イソシアヌレート、ジオクタデシル3
,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル−ホス
ホネート捷だはモノエチル6.5−ジー第3ブチル−4
−ヒドロキシベンジル−ホスホネートのカルシウム塩。
メチレン−ビス−(6−第三ブチルー4−メチルフェノ
ール)、2,2′−メチv y −ヒス−(6−第三フ
チルー4−エチルフェノール)、2,2′−メチレン−
ビス−〔4−メチ1b−6(α−メチルシクロヘギシル
)−フェノール〕、2.27−メチレン−ビス−(4−
メチル−6−シクロヘキジルフエノール)、2,2′−
メチレン−ビス−(6−ノニル−4−メチルフェノール
)、2.2’−メチレン−ビス−(4,6−ジー第三ブ
チルフェノール)、2.2’−エチリテンービス−4,
6−ジー第三ブチルフェノール、2.2’−エチリデン
−ビス−(6−第三ブチル−4−インブチルフェノール
)、2,2′−メチレン−ビス−〔6−(α−メチルベ
ンジル)−4−ノニルフェノール〕、2.2′−メチレ
ン−ビス−[−(α、α−ジメチルベンジル)−4−ノ
ニルフェノール〕、2.2′−メチレン−ビス−(2,
6−ジー第三ブチルフェノール)、4.4′−メチレン
−ビス−(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、
1.1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェニル)−ブタン、2.6−ジー(6−第三
ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−1−
メチルフェノール、1、1.5−)リス−(5−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−ブタン
、1.1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)−ろ−〇−ドデシルメルカプトブ
タン、エチレングリコールビス−〔3,3−ビス−(3
′−第三ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)−ブチレ
ート〕、ジー(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)−シシクロベンタジエンオたはジーC
2−(3’−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5’−)
エチル−ベンジル)6mmジブチル−4−メチルーフエ
ニル〕テレフタレート 1.5. ベンジル化合物 1、3.5− トリー(5,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼ
ン、ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)スルフィド、インオクチル5,5−ジー第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル−メルカプトアセテート
、ビス−(4−第三プチル−5−ヒドロキシ−2,6−
シメチルベンジル)−ジチオールテレフタレート、1,
3.5−トリス−(6,5−ジー第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)インシアヌレート、1,3.5−hリ
ス−(4−J!三ズブチル6−ヒドロキシ−2,6−シ
メチルベンジル)イソシアヌレート、ジオクタデシル3
,5−ジー第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル−ホス
ホネート捷だはモノエチル6.5−ジー第3ブチル−4
−ヒドロキシベンジル−ホスホネートのカルシウム塩。
1.6. アシルアミノフェノール
4−ヒドロキシ−ラウリル酸アニリド、4−ヒドロキシ
−ステアリン酸アニリド2.4−ビス−オクチルメルカ
プト−/、−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シアニリノ)−8−トリアジン捷たはN−(3,5−ジ
ー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−力ルバミン
酸オクチルニスフル。
−ステアリン酸アニリド2.4−ビス−オクチルメルカ
プト−/、−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキ
シアニリノ)−8−トリアジン捷たはN−(3,5−ジ
ー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−力ルバミン
酸オクチルニスフル。
17 β−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオン酸の1価またハ多価アルコール、
例えばツクノール、オクタデカノール、1.6−へオサ
ン・ジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ペンタエリスリトール、トリスーヒドロキシ
エチルイソシアヌレートまたはジヒドロキシエチルオキ
ザルアミドとのエステル。
フェニル)プロピオン酸の1価またハ多価アルコール、
例えばツクノール、オクタデカノール、1.6−へオサ
ン・ジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ペンタエリスリトール、トリスーヒドロキシ
エチルイソシアヌレートまたはジヒドロキシエチルオキ
ザルアミドとのエステル。
1、 a β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
3−メチルフェニル)プロピオン酸の1価才たは多価ア
ルコール、例えばメタノール、オクタデカノール、1.
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルインシアヌレート捷だはジヒドロキシエ
チルオキサルアミドとのエステル。
3−メチルフェニル)プロピオン酸の1価才たは多価ア
ルコール、例えばメタノール、オクタデカノール、1.
6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルインシアヌレート捷だはジヒドロキシエ
チルオキサルアミドとのエステル。
1.9 β−(3,5−ジー第3ブチ/l/−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオン酸の、例えばN 、 N
’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロビオニル)へキサメチレンジアミン、N、N
’−ジー(3,5−ジー第6ブチルー4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン壕だはN。
ドロキシフェニル)プロピオン酸の、例えばN 、 N
’−ジー(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニルプロビオニル)へキサメチレンジアミン、N、N
’−ジー(3,5−ジー第6ブチルー4−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル)トリメチレンジアミン壕だはN。
N′−ジー(6,5−ジー第6プチルー4−ヒドロキシ
フェニルプロピオニル)ヒドラジンアミド。
フェニルプロピオニル)ヒドラジンアミド。
2、 紫外線吸収剤および光安定剤
2、1. 2− + 2’−ヒドロキシフェニル)−ベ
ンズトリアゾールの例えば5′−メチル、 5/、 5
/−ジー第三ブチル〜、5′−第三ブチル−15′−(
1,+、3.s−テトラメチルブチル)−15−クロロ
−5/ 、 5/−ジー第5ブチル−15−クロロ−6
′−第6ブチル−5′−メチル−16′−第2ブチル−
5′−第5ブチル−14′〜オクトキシ−16′、5−
ジー第3アミル−1j′。
ンズトリアゾールの例えば5′−メチル、 5/、 5
/−ジー第三ブチル〜、5′−第三ブチル−15′−(
1,+、3.s−テトラメチルブチル)−15−クロロ
−5/ 、 5/−ジー第5ブチル−15−クロロ−6
′−第6ブチル−5′−メチル−16′−第2ブチル−
5′−第5ブチル−14′〜オクトキシ−16′、5−
ジー第3アミル−1j′。
グージー(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−お
よびs/、 s/−ジービス(α、(ど−ジメチルベン
ジル)−の誘導体。
よびs/、 s/−ジービス(α、(ど−ジメチルベン
ジル)−の誘導体。
2.2.2−ヒドロキシベンゾフェノンの、例えば4−
ヒドロキシ−14−メトキシ−14−オクトキシ−14
−デシルオキシ−14−ドデシルオキシ−14−ベンジ
ルオキシ−14゜2’、 4’ −)リヒドロキシーお
よヒ2′−ヒドロキシー4.4′−ジメトキ/−誘導体
。
ヒドロキシ−14−メトキシ−14−オクトキシ−14
−デシルオキシ−14−ドデシルオキシ−14−ベンジ
ルオキシ−14゜2’、 4’ −)リヒドロキシーお
よヒ2′−ヒドロキシー4.4′−ジメトキ/−誘導体
。
2.3 置換および非置換安息香酸エステル、例えば
4−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリ
チレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイ
ルレゾルシノール、ビヌー(4−第三ブチルベンゾイル
)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2゜
4−ジー第三ブチル−フェニル3.5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシベンゾエート、およびヘキサデシル−
6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート
。
4−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリ
チレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイ
ルレゾルシノール、ビヌー(4−第三ブチルベンゾイル
)−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2゜
4−ジー第三ブチル−フェニル3.5−ジー第三ブチル
−4−ヒドロキシベンゾエート、およびヘキサデシル−
6,5−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート
。
24 アクリレート、例えばエチルα−シアノ−β、β
−ジンエニルーアクリレート、イソオクチルα−シアノ
−β、β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボ
メトキシ−シンナメート、メチルα−シアノルβ−メチ
ル−p−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シアノ−
β−メチル−p−メトキシ−シンナメート、メチルα−
カルボメトキシ−p−メトキシ−シンナメートおよびN
−(β−カルボメトキシ−・β−シアノビニル)−2−
メチル−インドリン。
−ジンエニルーアクリレート、イソオクチルα−シアノ
−β、β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボ
メトキシ−シンナメート、メチルα−シアノルβ−メチ
ル−p−メトキシ−シンナメート、ブチルα−シアノ−
β−メチル−p−メトキシ−シンナメート、メチルα−
カルボメトキシ−p−メトキシ−シンナメートおよびN
−(β−カルボメトキシ−・β−シアノビニル)−2−
メチル−インドリン。
25、 ニッケル化合物、例えば2,2′−チオ−ビ
ス−1’4 (1,1,3,、!l−テトラメチルブ
チル)フェノール〕の、n−ブチルアミン、トリエタノ
ールアミンまたはN−シクロヘキシル−ジェタノールア
ミンのような他の配位子を含むまたは含まない1:1錯
体または1:2錯体などのニッケル錯体、ニッケルジプ
チルジチオ−カルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−
ジー第三ブチル−ベンジル−ホスホン酸のモノアルキル
エステル例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル
塩、ケトキシムのニッケル錯体例えば2−ヒドロキシ−
4−メチル−フェニルウンデシルケトンオキシムのニッ
ケル錯体および他の配位子を含むマタtri、 含まな
い、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−
ピラゾールのニッケル錯体。
ス−1’4 (1,1,3,、!l−テトラメチルブ
チル)フェノール〕の、n−ブチルアミン、トリエタノ
ールアミンまたはN−シクロヘキシル−ジェタノールア
ミンのような他の配位子を含むまたは含まない1:1錯
体または1:2錯体などのニッケル錯体、ニッケルジプ
チルジチオ−カルバメート、4−ヒドロキシ−3,5−
ジー第三ブチル−ベンジル−ホスホン酸のモノアルキル
エステル例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル
塩、ケトキシムのニッケル錯体例えば2−ヒドロキシ−
4−メチル−フェニルウンデシルケトンオキシムのニッ
ケル錯体および他の配位子を含むマタtri、 含まな
い、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−
ピラゾールのニッケル錯体。
2.6. 立体障害アミン、例えばビス−(2,2゜
6.6−チトラメチルビベリジル)セバケート、ビス−
(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)セバ
ケート、ビス−(1,2,2゜6.6−ペンタメチルピ
ペリジル)n−ブチル−5,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル−マロネート、1−ヒドロキシエチ
ル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピ
ペリジンとコノ・り酸との縮合生成物およびN、ト’−
(2,2,6,6−テトラノチルピペリジル)−へキサ
メチレンジアミンおよび4−第三オクチルアミノ−2,
6−ジクロロ−1,3,5−s−h IJアジンとの縮
合生成物、トリス−(2,2,6,6−チトラメチルピ
ベリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス−(2
,2,6,6−チトラメチルビペリジル)−4,2,3
,4−ブタンテトラカルボン酸、1゜1’−(1,2−
エタンジイル)−ビス−(3゜3、5.5−テトラメチ
ル−ピペラジノン)。
6.6−チトラメチルビベリジル)セバケート、ビス−
(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)セバ
ケート、ビス−(1,2,2゜6.6−ペンタメチルピ
ペリジル)n−ブチル−5,5−ジー第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル−マロネート、1−ヒドロキシエチ
ル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピ
ペリジンとコノ・り酸との縮合生成物およびN、ト’−
(2,2,6,6−テトラノチルピペリジル)−へキサ
メチレンジアミンおよび4−第三オクチルアミノ−2,
6−ジクロロ−1,3,5−s−h IJアジンとの縮
合生成物、トリス−(2,2,6,6−チトラメチルピ
ベリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス−(2
,2,6,6−チトラメチルビペリジル)−4,2,3
,4−ブタンテトラカルボン酸、1゜1’−(1,2−
エタンジイル)−ビス−(3゜3、5.5−テトラメチ
ル−ピペラジノン)。
2、Z シュウ酸ジアミド、例えば4,4′−ジ−オク
チルオキシ−オキサニリド、2.2’−ジ−オクチルオ
キシ−5,5′−ジー第三ブチルーオキザニリド、2.
2’−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジー第三ブチル
−オキサニリド、2−エトキシ−27−ニチルーオキサ
ニリド、N、N’−ヒス−(3−ジメチルアミンプロピ
ル)−オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三プチル
−2′−エチル−オキサニリドおよびこれと2−エトキ
シ−2′−エチル−5,4′−ジー第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシm=
置換オキサニリドの混合物および0−およびp−工l・
キシー二置換オキサニリドの混合物。
チルオキシ−オキサニリド、2.2’−ジ−オクチルオ
キシ−5,5′−ジー第三ブチルーオキザニリド、2.
2’−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジー第三ブチル
−オキサニリド、2−エトキシ−27−ニチルーオキサ
ニリド、N、N’−ヒス−(3−ジメチルアミンプロピ
ル)−オキサルアミド、2−エトキシ−5−第三プチル
−2′−エチル−オキサニリドおよびこれと2−エトキ
シ−2′−エチル−5,4′−ジー第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシm=
置換オキサニリドの混合物および0−およびp−工l・
キシー二置換オキサニリドの混合物。
3、 金属不活性化剤、例えばN、N’−ジノエニルシ
ュウ酸ジアミド、N−サリチラルーN/−サリチロイル
ヒドラジン、N、N’−ビス−サリチロイルヒドラジン
、N、N’−ビス−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)−ヒト!ラジン、6−
ザリチロイルアミノー1.2.4−)リアゾールおよび
ビス−ベンジリデン−シュウ酸ジヒドラジド。
ュウ酸ジアミド、N−サリチラルーN/−サリチロイル
ヒドラジン、N、N’−ビス−サリチロイルヒドラジン
、N、N’−ビス−(3,5−ジー第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)−ヒト!ラジン、6−
ザリチロイルアミノー1.2.4−)リアゾールおよび
ビス−ベンジリデン−シュウ酸ジヒドラジド。
4、 ホスフィツトおよびホスホナイト、例えばトリフ
ェニルホスフィツト、ジフェニルアルキルホスフィツト
、フェニルジアルキルホスンイット、トリ(ノニルフェ
ニル)ボスフィツト、トリラウリルホスフィツト、トリ
オフタテシルホスフィツト、ジステアリルーペンタエリ
トリトールジポスフィット、トリス−(2,49fl’
、三ブチルフェニル)ボスフィツト、ジイソデシルーペ
ンタエ+1 )リトールジホスフィット、ジー(2,4
−ジー第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、トリステアリルーンルビトールトリホス
フィットおよびテトラキス−(2゜4−シに3.三ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフエニレンジホスホナイト
。
ェニルホスフィツト、ジフェニルアルキルホスフィツト
、フェニルジアルキルホスンイット、トリ(ノニルフェ
ニル)ボスフィツト、トリラウリルホスフィツト、トリ
オフタテシルホスフィツト、ジステアリルーペンタエリ
トリトールジポスフィット、トリス−(2,49fl’
、三ブチルフェニル)ボスフィツト、ジイソデシルーペ
ンタエ+1 )リトールジホスフィット、ジー(2,4
−ジー第三ブチルフェニル)−ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、トリステアリルーンルビトールトリホス
フィットおよびテトラキス−(2゜4−シに3.三ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフエニレンジホスホナイト
。
5、過酸化物分解化合物、例えばβ−チオ−ジプロピオ
ン酸のエステル、例としてはラウリル、ステアリル、ミ
リスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾールの亜
鉛塩、ジブチルジチオカルバミド酸亜鉛、ジオクタデシ
ルジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキス
−(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
ン酸のエステル、例としてはラウリル、ステアリル、ミ
リスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾールの亜
鉛塩、ジブチルジチオカルバミド酸亜鉛、ジオクタデシ
ルジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキス
−(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
6 ポリアミド安定剤、例えば沃化物および/または燐
化合物と共に用いる銅塩および2価マンガンの塩。
化合物と共に用いる銅塩および2価マンガンの塩。
Z 塩基性補助安定剤、例えばメラミン、ポリビニルピ
ロリドン、ジシアンジアミド、トリ 1アリルシアヌ
レート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリ
アミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩お
よびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウ
ド、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、リ
シノール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、ピ
ロカテコールアンチモンまたはピロカテコール錫。
ロリドン、ジシアンジアミド、トリ 1アリルシアヌ
レート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリ
アミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩お
よびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウ
ド、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、リ
シノール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、ピ
ロカテコールアンチモンまたはピロカテコール錫。
a 造核剤、例えば4−第三ブチル安息香酸、アジピン
酸およびジフェニル酢酸。
酸およびジフェニル酢酸。
9 充填剤および補強剤、例えば炭酸カルシウム、珪酸
塩、ガラス繊維、石綿、タルク、カオリン、雲母、硫酸
バリウム、金属酸化物および金属水酸化物、カーボンブ
ラックおよび魚船。
塩、ガラス繊維、石綿、タルク、カオリン、雲母、硫酸
バリウム、金属酸化物および金属水酸化物、カーボンブ
ラックおよび魚船。
10、他の添化削、例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔
料、螢光増白剤、消炎剤、静電防止剤および発泡剤。
料、螢光増白剤、消炎剤、静電防止剤および発泡剤。
下記の実施例は本発明を説明する。
実施例
スチレンモノマー中ポリブタジェン(Fires−to
ve DIENE■55)8重量%溶液をロールミル
中にて製糸する。下記例中に示す安定剤を同時に加える
。重合後、ステアリン酸亜鉛500 ppmをこれに加
える。反応容器を121℃に半時間加温し、掘、拌し乍
ら更にモノマーの約30乃至35%が反応するまで(〜
2t/2h)この温度に保持する。この場合、攪拌速度
を、粒子の大きさが2乃至4μmになるように調節する
。その後、サンドバス中100℃の温度で重合を完了さ
せる。
ve DIENE■55)8重量%溶液をロールミル
中にて製糸する。下記例中に示す安定剤を同時に加える
。重合後、ステアリン酸亜鉛500 ppmをこれに加
える。反応容器を121℃に半時間加温し、掘、拌し乍
ら更にモノマーの約30乃至35%が反応するまで(〜
2t/2h)この温度に保持する。この場合、攪拌速度
を、粒子の大きさが2乃至4μmになるように調節する
。その後、サンドバス中100℃の温度で重合を完了さ
せる。
約1時間後、温度を1時間以内に140℃まで上げ、そ
の後8時間の間に220℃捷で上昇させる。
の後8時間の間に220℃捷で上昇させる。
このようにして得たポリマー塊を公知の方法ですべての
液状成分から分離し、粉砕、造粒、押し出しく2051
成型した後205℃でプレートにプレスする。空気流通
オーブン中で、試料を150℃で老化させる。別の試料
を80℃で老化させる。その後、分解の測定として、A
STM D1925−63Tによる黄色指数(Yell
owness I −ndex)を測定する。更に、A
STM D638により5 mm/m i nの張力に
よる伸びを測定する。結果を第1表乃至第4表に記載す
る。この場合、1記の安定剤を防用した。
液状成分から分離し、粉砕、造粒、押し出しく2051
成型した後205℃でプレートにプレスする。空気流通
オーブン中で、試料を150℃で老化させる。別の試料
を80℃で老化させる。その後、分解の測定として、A
STM D1925−63Tによる黄色指数(Yell
owness I −ndex)を測定する。更に、A
STM D638により5 mm/m i nの張力に
よる伸びを測定する。結果を第1表乃至第4表に記載す
る。この場合、1記の安定剤を防用した。
安定All A、 : h Uエチレンクリコール−ビ
ス−(ろ−メチルー5−第三ブチルー4 −ヒドロキシフコニニル)−プロピオネート 安定剤B:2.6−ピスー(オクチルチオ)−6 −
( 4’−ヒドロキシ−51. 5/−ジ−第三ブチル
アニリノ)−1,ろ、5− トリアジン 第1表 第 2 表 第 4 表 これらの価から、本発明により得られる酸化訪止削組成
物は耐衝撃性ポリスチレンに対[〜て非常に高い効果を
示すことが明らかである。
ス−(ろ−メチルー5−第三ブチルー4 −ヒドロキシフコニニル)−プロピオネート 安定剤B:2.6−ピスー(オクチルチオ)−6 −
( 4’−ヒドロキシ−51. 5/−ジ−第三ブチル
アニリノ)−1,ろ、5− トリアジン 第1表 第 2 表 第 4 表 これらの価から、本発明により得られる酸化訪止削組成
物は耐衝撃性ポリスチレンに対[〜て非常に高い効果を
示すことが明らかである。
堝゛許出願人 チバーガイギー
(eよ1JSj名〕
Claims (1)
- (112,4・−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(
4′−ヒドロキシ−sJ、 5′−ジー第三ブチルアニ
リノ)−1,3,5−)リアジン及びトリエチレングリ
コール−ビス−(3−メチル−5−第三ブチルフェニル
)−プロピオネートからなる安定剤系を含有する、耐衝
撃性ポリスチレン。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US43064582A | 1982-09-30 | 1982-09-30 | |
| US430645 | 1982-09-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5984945A true JPS5984945A (ja) | 1984-05-16 |
Family
ID=23708435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18297583A Pending JPS5984945A (ja) | 1982-09-30 | 1983-09-30 | 安定化耐衝撃性ポリスチレン |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0107617B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5984945A (ja) |
| CA (1) | CA1218778A (ja) |
| DE (1) | DE3363186D1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61293239A (ja) * | 1985-05-03 | 1986-12-24 | アメリカン サイアナミド カンパニ− | 高固形分コ−テイングの安定化 |
| JPH01315452A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-12-20 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ブロック共重合体組成物 |
| JPH02103253A (ja) * | 1988-05-16 | 1990-04-16 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 重合体の変性方法 |
| JPH04279649A (ja) * | 1990-03-02 | 1992-10-05 | Elf Atochem Sa | 耐火性を有する耐熱性の改善された熱可塑性スチレン樹脂組成物 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5166239A (en) * | 1989-11-03 | 1992-11-24 | Rohm And Haas Company | Polymeric additives |
| KR0168058B1 (ko) * | 1990-05-22 | 1999-03-20 | 윌터 클리웨인,한스-피터 위트린 | 탄성중합체용 안정화제 혼합물 |
| US5164434A (en) * | 1990-11-30 | 1992-11-17 | Rohm And Haas Company | Thermal stabilizers |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3334046A (en) * | 1965-07-20 | 1967-08-01 | Geigy Chem Corp | Compositions stabilized with substituted 1, 3, 5-triazines |
| CH549407A (de) * | 1970-07-06 | 1974-05-31 | Ciba Geigy Ag | Verwendung sterisch gehinderter phenolestern von glykolen als stabilisatoren. |
-
1983
- 1983-09-26 EP EP19830810433 patent/EP0107617B1/de not_active Expired
- 1983-09-26 DE DE8383810433T patent/DE3363186D1/de not_active Expired
- 1983-09-28 CA CA000437783A patent/CA1218778A/en not_active Expired
- 1983-09-30 JP JP18297583A patent/JPS5984945A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61293239A (ja) * | 1985-05-03 | 1986-12-24 | アメリカン サイアナミド カンパニ− | 高固形分コ−テイングの安定化 |
| JPH01315452A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-12-20 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ブロック共重合体組成物 |
| JPH02103253A (ja) * | 1988-05-16 | 1990-04-16 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 重合体の変性方法 |
| JPH04279649A (ja) * | 1990-03-02 | 1992-10-05 | Elf Atochem Sa | 耐火性を有する耐熱性の改善された熱可塑性スチレン樹脂組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3363186D1 (en) | 1986-05-28 |
| CA1218778A (en) | 1987-03-03 |
| EP0107617B1 (de) | 1986-04-23 |
| EP0107617A1 (de) | 1984-05-02 |
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