JPS5985887A - 選択めっき装置及び方法 - Google Patents
選択めっき装置及び方法Info
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- JPS5985887A JPS5985887A JP58186677A JP18667783A JPS5985887A JP S5985887 A JPS5985887 A JP S5985887A JP 58186677 A JP58186677 A JP 58186677A JP 18667783 A JP18667783 A JP 18667783A JP S5985887 A JPS5985887 A JP S5985887A
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- JP
- Japan
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- mask
- plating
- selective plating
- plating method
- plated
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
この発明は、選択めっき方法、特に、金その池の電着め
っき金属または合金により部材の一部を部分的にめっと
する方法の改良に関するものである。
っき金属または合金により部材の一部を部分的にめっと
する方法の改良に関するものである。
例えば、多数本のコネクタをリール状に結合させたよう
な部材の所要部分を貴金属などの金属でめっトする場合
、所要の部分のみをめっきするため、前記部材の一面に
弾性体のバッキング部材を当て、めっきすべき部分があ
る面に開口部をもったマスクを当接させ、部分的にめっ
きする方法が提案され、これを実施する装置としては、
特願昭５６−２０７９２３号（特開昭５７−１３１３８
４号）に開示されている。
な部材の所要部分を貴金属などの金属でめっトする場合
、所要の部分のみをめっきするため、前記部材の一面に
弾性体のバッキング部材を当て、めっきすべき部分があ
る面に開口部をもったマスクを当接させ、部分的にめっ
きする方法が提案され、これを実施する装置としては、
特願昭５６−２０７９２３号（特開昭５７−１３１３８
４号）に開示されている。
また、他の方法としては、ぬう外すべき部材の両面にマ
スクをかける方法があるが、いずれの刑法でもマスクは
、めっきすべき所要部分を残して池の部分を平面的に覆
うため、当該所要部分以外の不必要な部分、特にマスク
から露出している側面、端縁までも、めっきされること
が多く、高価な金属を無駄にしてしまう欠点がある。
スクをかける方法があるが、いずれの刑法でもマスクは
、めっきすべき所要部分を残して池の部分を平面的に覆
うため、当該所要部分以外の不必要な部分、特にマスク
から露出している側面、端縁までも、めっきされること
が多く、高価な金属を無駄にしてしまう欠点がある。
発明の目的
この発明は、前記した欠点を除いた選択めっき方法を提
供することを目的とする。
供することを目的とする。
発明の要約
この発明は、部材の一部にめっきを施す選択めっぎ方法
において、部材にマスクをかけ、めっきすべき部材の一
部を露出させで、この露出部分にめっきを施す選択めっ
き方法において、前記部材の一面に加圧変形する素材か
らなるマスクをかけて、この全面を覆い、能力の面には
、開口部をもったマスクをかけ、めっぎすべき所要部分
をめっき槽に対し露出させ、前記変形するマスクを加圧
して、該マスクの変形部分をめっきすべき所要部分の側
面または端縁側へ張り出させて、これらの面を覆うよう
にし、露出した部分のみに限定してめっきするようにし
たのである。前記した変形するマスクは、ショア硬度が
１２°がら２０°、好ましくは、１５゜３− から２０°のシリコンラバーからなるもので、部分的な
所を覆うマスクとしては、ショア硬度３０°がら４０’
のシリコンラバーまたはプラスチックスのものが用いら
れる。また、変形するマスクを変形させる加圧力は、約
６０ｐｓｉ（４，ｌＸ１０”Ｎ／ｎ＋２）であり、この
上うな面圧を前記硬度のマスクに与えることにより、該
マスクは部分的に変形する。前記のマスク素材は、シリ
コンラバー以外のものでもよい。
において、部材にマスクをかけ、めっきすべき部材の一
部を露出させで、この露出部分にめっきを施す選択めっ
き方法において、前記部材の一面に加圧変形する素材か
らなるマスクをかけて、この全面を覆い、能力の面には
、開口部をもったマスクをかけ、めっぎすべき所要部分
をめっき槽に対し露出させ、前記変形するマスクを加圧
して、該マスクの変形部分をめっきすべき所要部分の側
面または端縁側へ張り出させて、これらの面を覆うよう
にし、露出した部分のみに限定してめっきするようにし
たのである。前記した変形するマスクは、ショア硬度が
１２°がら２０°、好ましくは、１５゜３− から２０°のシリコンラバーからなるもので、部分的な
所を覆うマスクとしては、ショア硬度３０°がら４０’
のシリコンラバーまたはプラスチックスのものが用いら
れる。また、変形するマスクを変形させる加圧力は、約
６０ｐｓｉ（４，ｌＸ１０”Ｎ／ｎ＋２）であり、この
上うな面圧を前記硬度のマスクに与えることにより、該
マスクは部分的に変形する。前記のマスク素材は、シリ
コンラバー以外のものでもよい。
従来方法におけるマスクの硬度はショア硬度３０゜から
５０°である。
５０°である。
この発明は、めっトすべき部材の上面と下面にマスクを
かけ、下側のマスクにより前記部材の一部を露出させて
、めっき槽において露出部分をめっきする選択めっき方
法であって、前記した上面のマスクは、加圧により変形
される素材から形成され、前記上面のマスクを加圧によ
り変形させ、このマスクが接する前記部材の露出した部
分まわりの側面または端縁を前記マスクの変形した部分
で覆いながら選択的にめっき処理を行うことを特電とす
る選択めっき方法を提供するものである。
かけ、下側のマスクにより前記部材の一部を露出させて
、めっき槽において露出部分をめっきする選択めっき方
法であって、前記した上面のマスクは、加圧により変形
される素材から形成され、前記上面のマスクを加圧によ
り変形させ、このマスクが接する前記部材の露出した部
分まわりの側面または端縁を前記マスクの変形した部分
で覆いながら選択的にめっき処理を行うことを特電とす
る選択めっき方法を提供するものである。
４−
この発明の方法は、英国、米国などにおいで一般に使用
されている、ニス・ノー・オーエンス社の［カル−セル
（Ｃａｒｏｕｓｅｌ ）Ｊと称されているめっぎ装置な
どの選択めっき装置に適している。めっきすべぎ部材の
、例えば、上面全面を覆うように被着される変形可能の
前記マスクは、空気圧、液圧、機械圧により作動する適
当なりランプ手段で陽極圧に抗しなからクランプされる
。めっき方法そのものは、従来公知のめつぎ組成浴によ
り行われるもので、前記「カル−セル」型のめつぎ装置
により、コネクタなどの電気（電子）部品の金めつきを
行う電流密度は、陰極インターフェースで約２０ａｍｐ
／ｄｍ２（２，０００ａｌｆｌρ／ｍ２）である。
されている、ニス・ノー・オーエンス社の［カル−セル
（Ｃａｒｏｕｓｅｌ ）Ｊと称されているめっぎ装置な
どの選択めっき装置に適している。めっきすべぎ部材の
、例えば、上面全面を覆うように被着される変形可能の
前記マスクは、空気圧、液圧、機械圧により作動する適
当なりランプ手段で陽極圧に抗しなからクランプされる
。めっき方法そのものは、従来公知のめつぎ組成浴によ
り行われるもので、前記「カル−セル」型のめつぎ装置
により、コネクタなどの電気（電子）部品の金めつきを
行う電流密度は、陰極インターフェースで約２０ａｍｐ
／ｄｍ２（２，０００ａｌｆｌρ／ｍ２）である。
この発明の方法は、電着可能な金属または合金のめっき
に適用できるが、金、パラシ゛ウム、ルテニウム、ルシ
ウムなどのプラチナグループなどの貴金属によるめっき
の場合に最も適している。例えば、ブリティッシュ・テ
レコム規格の２０６Ｄコネクタまたは９４６レンジのコ
ネクタの部分めっきについてみると、これらコネクタの
年間使用量が１億８子方ユニットと推定した場合、金価
格かトロイ・オンス当り４１４米ドルで計算して年間約
８百万米ドルの金か、この発明方法により節約できる。
に適用できるが、金、パラシ゛ウム、ルテニウム、ルシ
ウムなどのプラチナグループなどの貴金属によるめっき
の場合に最も適している。例えば、ブリティッシュ・テ
レコム規格の２０６Ｄコネクタまたは９４６レンジのコ
ネクタの部分めっきについてみると、これらコネクタの
年間使用量が１億８子方ユニットと推定した場合、金価
格かトロイ・オンス当り４１４米ドルで計算して年間約
８百万米ドルの金か、この発明方法により節約できる。
このように、この発明によれば、部分めっきにおけるめ
っき層をコントロールすることにより、めっき素材とし
ての貴金属の使用量を大幅に節減でき、所定の部分にの
み、めっきを施すことができ、さらに腐食しやすい部分
を覆いながらめっきする本発明の効果は、多大である。
っき層をコントロールすることにより、めっき素材とし
ての貴金属の使用量を大幅に節減でき、所定の部分にの
み、めっきを施すことができ、さらに腐食しやすい部分
を覆いながらめっきする本発明の効果は、多大である。
実施例
図面に示すように、コネクタ１は結合されてスプロケッ
ト孔２をもつリール状に形成される。各コネクタの一面
側の部分３か金による選択めっき、または、部分めっき
される部分である。コネクタの結合体であるリールは、
スプロケット孔２に係合する、めっきヘッド４のピン５
により、めっ外ヘッド４内に順送りされる。めっきヘッ
ド４は、トラック・ライン６、ローラ７およびスプリン
グ付勢の蓋８からなり、蓋８は開き方向に付勢されてい
る。トラック・ライン６とローラ７とは、それぞれ、め
っき槽１１のトラ・ンは、ワイヤ１２、陽極１３、長く
上方へ伸びた噴出路１４を備えている。めっぎヘッド４
がめつき領域に入ると、蓋８は蓋８の上面に取付けたロ
ーラ１５により閉じられ、コネクタ１は変形する上側マ
スク１６と前記マスクより硬い下側の対向マスク１７と
の間に保持される。
ト孔２をもつリール状に形成される。各コネクタの一面
側の部分３か金による選択めっき、または、部分めっき
される部分である。コネクタの結合体であるリールは、
スプロケット孔２に係合する、めっきヘッド４のピン５
により、めっ外ヘッド４内に順送りされる。めっきヘッ
ド４は、トラック・ライン６、ローラ７およびスプリン
グ付勢の蓋８からなり、蓋８は開き方向に付勢されてい
る。トラック・ライン６とローラ７とは、それぞれ、め
っき槽１１のトラ・ンは、ワイヤ１２、陽極１３、長く
上方へ伸びた噴出路１４を備えている。めっぎヘッド４
がめつき領域に入ると、蓋８は蓋８の上面に取付けたロ
ーラ１５により閉じられ、コネクタ１は変形する上側マ
スク１６と前記マスクより硬い下側の対向マスク１７と
の間に保持される。
上側マスク１６は、蓋８の下面に取付けてあり、該マス
クは、例えば、ショア硬度１５°がら２０°のシリコン
ゴムからなる変形する素材からなるもので、断面形状は
通常の方形で、平面形状が長方形のものである。下側の
マスク１７は、特別に型成形されたもので、トラック・
ライン６に設置され、ショア硬度が７０°〜８０°のシ
リコンゴムまたはプラスチフスを素材とする。下側のマ
スク１７により、各コネクタ１の選択された一部がめつ
き操作時に噴出路１４に対面している（めっき操作時は
、めっきへラド４は静止している）。他方、上側のマス
ク１６は、各コネクタの上面と端縁をマスクする。そし
て、上側のマスク１６は、前記のとおり加圧され部分的
に変形して、第３図に示すように、互いに整列している
コネクタ１の開から下方へ突出し、各先端が各コネクタ
１の開からめっき槽へ向は張出す。
クは、例えば、ショア硬度１５°がら２０°のシリコン
ゴムからなる変形する素材からなるもので、断面形状は
通常の方形で、平面形状が長方形のものである。下側の
マスク１７は、特別に型成形されたもので、トラック・
ライン６に設置され、ショア硬度が７０°〜８０°のシ
リコンゴムまたはプラスチフスを素材とする。下側のマ
スク１７により、各コネクタ１の選択された一部がめつ
き操作時に噴出路１４に対面している（めっき操作時は
、めっきへラド４は静止している）。他方、上側のマス
ク１６は、各コネクタの上面と端縁をマスクする。そし
て、上側のマスク１６は、前記のとおり加圧され部分的
に変形して、第３図に示すように、互いに整列している
コネクタ１の開から下方へ突出し、各先端が各コネクタ
１の開からめっき槽へ向は張出す。
第３図に示すように、上側のマスク１６は、加圧により
変形し、互いに整列したコネクタ１の間を埋め、これに
コネクタ１は、めっ外する部分のみが露出し、コネクタ
１の側面と、めっ趣が不要である部分がめっきされない
ようになっているもので、金めつきなどのめっ外層１８
は、所定の部分のみに、ぎわめて効果的に、厚さ分布も
良好な状態で施される。金の電着めつぎ層の厚さは、代
表的なもので３ｕｍである。
変形し、互いに整列したコネクタ１の間を埋め、これに
コネクタ１は、めっ外する部分のみが露出し、コネクタ
１の側面と、めっ趣が不要である部分がめっきされない
ようになっているもので、金めつきなどのめっ外層１８
は、所定の部分のみに、ぎわめて効果的に、厚さ分布も
良好な状態で施される。金の電着めつぎ層の厚さは、代
表的なもので３ｕｍである。
前記した実施例は、この発明の一例であり、この発明は
、実施例にのみ限定されるものではない。
、実施例にのみ限定されるものではない。
第１図は、めっきされるコネクタの斜視図、第２図は、
この発明の実施例における第１図に示したコネクタをめ
っ外処理するのに用いるめっきヘッド、および、めっき
槽の断面図、 第３図は、第２図ＩＩＩ−ＩＩＩ線矢視方向の断面図で
ある。 ８− １・・・コネクタ ２・・・スプロケット孔３・・・コ
ネクタにおける、めっきされる部分４・・・めっきへラ
ド ５・・・ピン ６・・・トラック・ライン ７・・・ローラ８・・・蓋
１１・・・めっき槽 １４・・・噴出路 １６・・・上側のマスク１７・・・
下側のマスク ばか１名
この発明の実施例における第１図に示したコネクタをめ
っ外処理するのに用いるめっきヘッド、および、めっき
槽の断面図、 第３図は、第２図ＩＩＩ−ＩＩＩ線矢視方向の断面図で
ある。 ８− １・・・コネクタ ２・・・スプロケット孔３・・・コ
ネクタにおける、めっきされる部分４・・・めっきへラ
ド ５・・・ピン ６・・・トラック・ライン ７・・・ローラ８・・・蓋
１１・・・めっき槽 １４・・・噴出路 １６・・・上側のマスク１７・・・
下側のマスク ばか１名
Claims (10)
- （１）部材の一部にめっきを施す選択めっき方法におい
て、めっきすべき部材の少くとも一方の端縁の一部にマ
スクをかけることを特徴とする選択めっき方法。 - （２）前記のマスクは、変形する素材からなることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の選択めっき方法。 - （３）前記の変形するマスクは、シリコンラノ望−から
なる特許請求の範囲第２項記載の選択めっき方法。 - （４）前記の変形するマスクは、ショア硬度が１２゜か
ら４０°の素材からなる特許請求の範囲第２項記載の選
択めっき方法。 - （５）前記素材の硬度がショア硬度１２°から２０°程
度である特許請求の範囲第４項記載の選択めっき方法。 - （６）前記素材の硬度がショア硬度１５°がら２０°程
度である特許請求の範囲第５項記載の選択めっき方法。 - （７）加圧により変形するマスクに対し、約６０ｐｓｉ
（４，ｌＸ１０５Ｎ／＋ａ２）の圧力をかける特許請求
の範囲第２項記載の選択めっき方法。 - （８）部材が部分的に金めっきされる特許請求の範囲第
１項記載の選択めっき方法。 - （９）めっきされる部材は、コネクタなどの電気または
電子部品である特許請求の範囲第１項記載の選択めっき
方法。 - （１０）めっ島すべ外部材の上面と下面にマスクをかけ
、下側のマスクにより前記部材の一部を露出させて、め
っき槽において露出部分をめっきする選択めっき方法で
あって、前記した上面のマスクは、加圧により変形され
る素材から形成され、前記上面のマスクを加圧により変
形させ、このマスクが接する前記部材の露出した部分ま
わりの側面または端縁を前記マスクの変形した部分で覆
いながら選択的にめっき処理を行うことを特徴とする選
択めっき方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8228378 | 1982-10-05 | ||
| GB8228378 | 1982-10-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5985887A true JPS5985887A (ja) | 1984-05-17 |
| JPH0411634B2 JPH0411634B2 (ja) | 1992-03-02 |
Family
ID=10533383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58186677A Granted JPS5985887A (ja) | 1982-10-05 | 1983-10-05 | 選択めっき装置及び方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4518636A (ja) |
| EP (1) | EP0107417B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5985887A (ja) |
| AT (1) | ATE40156T1 (ja) |
| DE (1) | DE3378981D1 (ja) |
| GB (1) | GB2127853B (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8600838A (nl) * | 1986-04-02 | 1987-11-02 | Meco Equip Eng | Werkwijze en inrichting voor het langs electrolytische weg aanbrengen van een metaalbedekking op in een band samenhangende langwerpige metalen en /of gemetalliseerde voorwerpen. |
| JP2786787B2 (ja) * | 1992-12-02 | 1998-08-13 | 株式会社東芝 | 噴射メッキ装置及び噴射メッキ方法 |
| US5397598A (en) * | 1993-11-12 | 1995-03-14 | International Business Machines Corporation | Method for selectively coating a member having a shank by masking a portion of the shank with a washer |
| US7282240B1 (en) | 1998-04-21 | 2007-10-16 | President And Fellows Of Harvard College | Elastomeric mask and use in fabrication of devices |
| IL151701A0 (en) | 2000-03-17 | 2003-04-10 | Harvard College | Cell patterning technique |
| US9583125B1 (en) * | 2009-12-16 | 2017-02-28 | Magnecomp Corporation | Low resistance interface metal for disk drive suspension component grounding |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5855589A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-04-01 | Nec Kyushu Ltd | メツキ装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US3257308A (en) * | 1961-07-11 | 1966-06-21 | Western Electric Co | Article holder for electroplating articles |
| FR1508573A (fr) * | 1967-01-18 | 1968-01-05 | Eugene Arbez Ets | Procédé pour déposer un revêtement en plomb sur des plaques solides, notamment en vue de leur impression par matriçage, ainsi que les plaques conformes à celles obtenues par le présent procédé ou procédé similaire |
| US3835017A (en) * | 1972-12-22 | 1974-09-10 | Buckbee Mears Co | Reusable shields for selective electrodeposition |
| DE2324834C2 (de) * | 1973-05-17 | 1978-09-07 | Dr. Eugen Duerrwaechter Doduco, 7530 Pforzheim | Vorrichtung zum kontinuierlichen selektiven Bandgalvanisieren |
| US3974056A (en) * | 1975-05-23 | 1976-08-10 | Ann Arbor Circuits, Inc. | Electroplating selected portions of a strip |
| GB1549862A (en) * | 1976-04-20 | 1979-08-08 | Owens Ltd S | Electroplating |
| EP0055130B1 (en) * | 1980-12-23 | 1984-07-25 | S.G. Owen Limited | Improvements in or relating to selective plating |
| GB2094344B (en) * | 1980-12-23 | 1983-09-07 | Owen S G Ltd | Improvements in or relating to selective plating |
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-
1983
- 1983-09-30 GB GB08326301A patent/GB2127853B/en not_active Expired
- 1983-09-30 DE DE8383305976T patent/DE3378981D1/de not_active Expired
- 1983-09-30 AT AT83305976T patent/ATE40156T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-09-30 EP EP83305976A patent/EP0107417B1/en not_active Expired
- 1983-10-03 US US06/538,657 patent/US4518636A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-10-05 JP JP58186677A patent/JPS5985887A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5855589A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-04-01 | Nec Kyushu Ltd | メツキ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3378981D1 (en) | 1989-02-23 |
| US4518636A (en) | 1985-05-21 |
| GB2127853A (en) | 1984-04-18 |
| EP0107417A3 (en) | 1984-08-08 |
| GB8326301D0 (en) | 1983-11-02 |
| GB2127853B (en) | 1985-11-13 |
| JPH0411634B2 (ja) | 1992-03-02 |
| EP0107417B1 (en) | 1989-01-18 |
| ATE40156T1 (de) | 1989-02-15 |
| EP0107417A2 (en) | 1984-05-02 |
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