JPS5988306A - 超硬高純度窒化珪素の製造方法 - Google Patents

超硬高純度窒化珪素の製造方法

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JPS5988306A
JPS5988306A JP18460983A JP18460983A JPS5988306A JP S5988306 A JPS5988306 A JP S5988306A JP 18460983 A JP18460983 A JP 18460983A JP 18460983 A JP18460983 A JP 18460983A JP S5988306 A JPS5988306 A JP S5988306A
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Toshio Hirai
平井 敏雄
Koichi Niihara
皓一 新原
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Research Institute for Iron Steel and Other Metals of Tohoku University
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は超硬高純度窒化珪素のM遣方法ならびに製造装
置に係り、特にマイクロビッカース硬度(以下MVHと
称す)が荷重100gの時の値で少くとも2000 k
l?/mtn2以上である配向結晶質、又は微粒結晶質
、或いは非晶質の何れかの超硬高純度窒化珪素の気相分
解による製造方法ならびにその製造装置とを提供しよう
とするものである。
従来、気相分解沈積による窒化珪素は知られており、そ
の製造方法は米国特許8,226,194号公報によれ
ばS IF 4とNH8の原料を800龍Hg以下のガ
ス圧力で1200〜1900°Cの温度範囲で、上記温
度に耐える基体、なかでも好適には黒鉛、 AA208
.ホットプレスBN 、あるいは気相分解BN上で気相
分解して沈積させ、厚さ約1fi以下の結晶質あるいは
非晶質からなる窒化珪素が製造されており、前記結晶質
の硬度はMVHで2850kg /m−であシ、高温の
窓、燃料電池の絶縁体、工具材、研磨剤に使用されるこ
とが記載されている。
また米国特許13,687,428号公報によればシリ
コンノハロケン化’h (5IX4 ) トアンモニア
(NH8)を低温で反応させ中間化合物S IX  −
2NHaを生成させ、これを真空中で100〜125°
Cの温度範囲で蒸発させ、これをNgガスにより搬送し
850〜1885°Cの温度範囲で加熱した黒鉛又は高
融点金属上で分解反応させて♀化珪素被膜が製造寄れて
おり、これらの窒化珪素被膜が沈積した材料は高温耐酸
化性、絶縁性が良いと記載されている。
また特開昭50−188,199号公報によれば18と
シリコン化合物が100−400”Cで予備加熱され、
上記混合ガスが400“C以上に加熱された基板上で気
相分解沈積し、高緻密度のS l a N 4被膜が製
造され、このものは半導体工業の分野での利用が好適で
あると記載されている。また5pecial Cera
mics Vol、 6  (197g  )  p 
805〜820に記載の論文題名「気相分解沈積5t8
N。
被膜J (Pyrolytic 5ilicon ni
t、ride coatings)によれば、原料とし
てS IH4あるいは5iC14の何れかとNH8が8
00〜1380°Cの温度範囲内で反応し、ガス圧力1
気圧下でキャリヤーガスとしてAr、N2.H2を用い
、黒鉛あるいは窒化珪素成型体あるいはSlからなる基
体上で気相分解沈積し、厚さ最大0.8xmの結晶質あ
るいは非晶質からなる窃化珪素被膜がB!造されている
。なお量論。
文によれば1μm以上の厚さの非晶貫穿化珪素にあって
はマイクロクランクが必ず発生し、また、前記被膜を施
した基体は耐摩耗性、耐腐食性、高温耐酸化性に優れて
いると記載されている。またJournal of t
he Electrochemical 5ociet
y 。
Vol、l14.A7. (1967)p788〜78
7に記載の論文題名r 5iH4−NH3−H2系を使
った気相沈積窒化珪素薄膜の2,8の性質J (Som
eProperties of Vapor Depo
sited 5iliconNitrle Films
 Using the SiH4−NHB−H2sys
tem、、)によれば、原料としてS IH4とNH8
とH8との混合ガスが600〜l 400 ’Cの温度
範囲内で気相分解反応し、Slからなる加熱基体上に、
厚さ約9μmの非晶質窒化珪素薄膜、またはウィスカー
状結晶質窒化珪素が沈着製造されている。同論文によれ
ばこの非晶質窒化珪素薄膜のヤング帛は6.7 X 1
08kg/m2であシ、その硬度は8g荷重のヌープ硬
さで約4000 kg/−であると記載されている。こ
のヌープ硬さは100.9荷重におけるMVHに換算す
ると約2000 kg/−と同等である。
しかしながら前記諸刊行物の記載によってもわかるよう
に、従来知られた気相分解沈積窒化珪素の硬度は非晶質
のものでは荷重100IでMVH約2000 kg/a
m”であり、また結晶質のものでは2850 kg7*
w2(荷重不明)であわ、未だ充分ニ硬い窒化珪素は知
られていない。また従来知られている気相分解沈積窒化
珪素を製造するには、その沈積速度がたかだか0.4m
/hrと非常に遅く実用的でなかった。なおまた従来ホ
ットプレス法により100.9W重テア7) MVHが
約8500 kg/ms+” tf)窒化珪素が得られ
ているが、このものはブロック状でのみしか得られず、
そのものはα−8i8N、及びβ−8i8N、 @混合
物であり、かつ1%以上のMyO等が不純物として含有
されており、このため高温での硬度及び機械的性質は著
しく劣化するという欠点がある。
本発明は前記従来知られた窒化珪素が有する欠点を除去
し、高純度・高密度でマイクロクランクが少なく、常温
ならびに高温において超高硬度及・び機械的強度の大き
い窒化珪素の裏遣方法ならびに装置を提供することを目
的とするものである。
特に、本発明は主として5i8N、の化学組成を有し、
α型六方晶系の結晶面(hk○) 、 (hal)およ
び(hkl)のうちから選ばれる何れか1つあるいは2
つ以上の面がそれぞれ平行に配向した構造を有する結晶
質超硬高純度窒化珪素(以下配向結晶質窒化珪素と称し
、POと略記する)と、主としてsi、IJ4の化学組
成を有し、α型六方晶系の微粒結晶質超硬高純度窒化珪
素(以下微粒結晶質♀化珪素と称し、FGと略記する)
と、主としてSi、N。
の化学組成を有し非晶質超硬高純度窒化珪素(以下非晶
質窒化珪素と称し、AMと略記する)との伺れかより々
る超硬高純度窒化珪素を気相分解反応によシ加熱基体上
に沈積させてなる前記窒化珪素の製造方法ならびに製造
装置を提供することにある。
すなわち、本発明は所定の温度に加熱した基体上に所定
の容器内ガス圧力下で窒素沈積源ガスと珪素沈積源ガス
とを反応させて超硬高純度窒化珪素を製造するに当り、
前記窒素沈積源ガスと珪素沈積源ガスとを組合せ管を用
いて前記基体にそれぞれ吹付け、該基体上に吹付けられ
る窒素沈積源ガス流束の周囲を珪素沈積源ガスにより包
囲し、前記両ガスの気相分解反応を基体上あるいは基体
近傍で生起させて窒化珪素を生成させ、基体上に沈積さ
せることを特徴とする超硬高純度窒化珪素の製造方法に
ある。さらに、本発明は容器と前記容器内に封入される
基体を把持し、かつ加熱する手段と、前記基体上に窒素
沈積源ガス並びに珪素なる窒化珪素の製造装置において
、前記吹付は管を組合せ管となし、かつ窒素沈積源ガス
吹付は管を珪素沈積源ガス吹付は管をもって包囲し、前
記窒素沈積源ガス吹付は管の開口端と基体との距離を前
記珪素沈積源ガス吹付は管の開口端と基体との距離より
短くしたことを特徴とする超硬高純度窒化珪素の製造装
置を提供する。
次に本発明の詳細な説明する。
本発明によれば、所定温度(1000〜1900・°C
)に加熱した基体上に所定の容器内ガス圧力(1〜76
0 訴lHy )下に9素沈積源ガスと珪素沈積源ガス
とを反応させて超硬高純度窒化珪素を表情する際に、前
記窒素沈積源ガスと珪素沈積源ガスとを窒素沈積源ガス
流東の周囲を珪素沈積源ガスにより包囲するような組合
せ管を用いて基体上にそれぞれ吹付け、これら両ガスの
気相分解反応を基体上あるいは基体付近で生起させて窒
化珪素を生成させ基体上に沈積させる。
・本発明の窒化珪素製造用出発原料の1つである珪素沈
積源化合物としては、珪素の一ロゲン化物(5iCA’
4 * 5IF4 + 5IBr4 + 5II4 r
 5L2016 +S1.Br6. Si2工、 、 
5iBrC71,、5iBr、OA!、 。
5iBraCl、S1工Cl8)、水素化物(SiH+
 、514H□0tSi8H8,Si、H6) 、水素
ノ10ゲン化物(5iHO18+5iHBr  、 5
iHF  、 5iHI  、 5iHaBr)のうち
から8      8      8 選ばれる何れか1種または2種以上を用いることができ
、好適には室温でガス状であるS I H4、あるいは
室温における蒸気圧が高い5IHO18,5iOJ4を
有利に使用することができる。また窒素沈積源化合物と
しては窒素の水素化合物(HI3. N)I81N、H
,)、アンモニウム−・ロゲン化物(NH,Cl。
NH,F 、 NH,)(F2. NH,I )のうち
から選ばれる倒れか1種または2種以上を用いることが
でき、NHB * N2H4は比較的安価でありまた入
手が容易である為に好適に使用することができる。
珪素沈積源化合物と窒素沈積源化合物から窒化珪素が得
られる主な反応式は次の(a) r (b) 、(c)
 −(a)の通りである。
la)  四塩化珪素とアンモニアを原料とした場合a
siCl、 +4NH8→518N4 +12HCII
(bl  四水素化珪素とアンモニアを原料とした場合
aSiH,+ 4NH8→5i8N、 + 12H。
(c)  四フッ化珪素とアンモニアを原料とした場合
8SiF4+ 4NH8→5xaN、i + 12HF
(a)  四塩化珪求とヒドラジンを原料とした場合a
s=01. + 2N、H,→Si、N、 +8HO1
+ 20Il。
上記反応を生起させ窒化珪素を得る基体の温度は製造す
べき窒化珪素の種類により異なるが、通常1000〜1
900°Cの範囲内にある。
なお前記窒素沈積源および珪素沈積源化合物の1種また
は2種を搬送するためN2 + Ar + HE’ *
Hの倒れか1種または2種以上をキャリアーガスとして
必要により使用することが出来る。このうちN2は窪素
の沈積源原料にもなり得るし、F3は珪素沈積源化合物
の気相分解の際反応に関与することかある。キャリアー
ガスは基体を収容せる容器内の全ガス圧力の調節、珪素
および窒素沈積源原料の蒸気の混合比の調節、容器内に
おけるガスの流束形状の調節、およびまたはN、 、 
H2のように一部反応に関与させるために用いることが
でき、またキャリアーガスを使用しなくとも窒化珪素を
生成させることができる。
次にS IO14とNH8を原料とし、かつキャリアー
ガスとしてH2を用いる場合について、窒化珪素の製造
方法を説明する。
前記S iOJ 4とNH8を組合せ管を用いてそれぞ
れ容器内に導入するがNH8は前記組合せ管の内管を経
て、S iCl 4は外管を経て導入し、NH8の流束
の周囲をS IGl 4で包囲しつつ容器内基体上に前
記両ガスを吹付ける。この際キャリアーガスであるH8
は外管を経て吹付けられS IOl 4と予め混合させ
ておくことは有利である。
以上のほか組合せ管として8重の同心管を用い、内管に
窒素沈積源ガスを外管に珪素沈積源ガスあるいは珪素沈
積源ガスとキャリアーガスを、中間管にはキャリアーガ
スと同一組成のガスを通過させることによって、内管よ
す流出する窒素沈積源ガスと外管より流出する珪素沈積
源ガスとが基体上に到達する前に接触混合するのをでき
るだけ抑2、制して、基体上に到達する以前に前記両沈
積源ガスが気相分解する反応が起ることを有利に抑制す
ることができ、この流束形状を用いることにょシさらに
均質全9化珪素を効率よく生成させることができる。
H2の流量により容器内に導入される510114の蒸
気の量及び流束形状を調節することが出来る。
さらにH2はS 1014と基体上ある囚はその付近で
反応し、F31HCIls 、 5IH2OA2,5x
HBC1などの中間化合物を生成し、原料ガスから81
の分離を促進。
させるものと思われる。
例えば容器の大きさが直径800 m +長さ500龍
のものを用いる場合にはH2の流量は50〜8000 
cc/min ノ範囲内、特に400−1500cc/
minが好ましく、600〜700 cc/minの範
囲内で最も良い結果が得られる。Sin/  の流量(
液体状態)は0.4〜2 cc/ minの範囲内が良
く、0.6〜1.5 cc/minが最も適当である。
NHの流量は20 = 2000 cc/minの範囲
内が良く、50〜70 cc/minが最も適当である
本発明方法においてNH,流束の周囲をS i Ol 
4あるいは必要によシバ2ガスとともに包囲しながら基
体上に吹付ける必要があることの理由について本発明者
等は次のように考える。
5iOl  とNH8は常温においても容易に反応して
塩化アンモニウム(NH,C’A )とシリコン・ジイ
ミド[5i(Nu)s+)等の中間化合物が生成するの
で、基体上に5t8N、を効率よくまた均質に沈積させ
るためには基体上あるいは基体近傍で反応を生起させる
ことが必要である。このため従来、前記Special
Ceramicsの記載によれば、内管にS i Ol
 4を、外WKNH8を流し、かつ内管の開口端を外管
の開口端内に配置した構造となっている。この構造の場
合には、両原料ガスは内管から出た処で激しく反応シ、
この領域で塩化アンモニウムとシリコン・ジイミド等の
中間化合物が生成し効率よくまた均質な窒化珪素を基体
上に沈積させることはできない。本発明者等は内管にS
 z Ol 4を外管にNH8を流し、内管と外管の開
口端を同一水準に配置して、両原料ガスを基体上に吹付
は窒化珪素を沈積させた結果、両原料ガスは両管から出
た処で激しく反応し、塩化アンモニウムとシリコン・ジ
イミド等の中間化合物が生成し、効率よくまた均質な窒
化珪素を基体上に沈積させることはできなかった。
次に本発明者等は内管にS i C64を外管にNH8
を流し、内管の開口端を外管の開口端の外になるように
配置して、両原料ガスを基体上に吹付は窒化珪素を沈積
させた結果、効率よく、均質でまた硬度の高い窒化珪素
は得られなかった。次に本発明者等は内管にNH8を外
管にS IOl 4と必要によりH2とを流し、内管の
開口端を外管の開口端よシ外になるように配置して、ま
た内管を流れるNH8の流速に比し外管を流れるS i
 C64と■、の混合ガスの流速を大きくすることによ
り、NH8の流束をS i (3134とH8の流束で
包囲する流束形状を保持しながら、基体上に両原料ガス
を吹付は窒化珪素を沈積せしめた結果、効率よくしかも
均質で硬度の高い本発明の超硬高純度窒化珪素を得るこ
とができることを新規に知見した。
基体を収容せる容器内の全ガス圧力は1〜760xmH
yの範囲内が良く、1〜100朋H9が最適である。な
お1気圧以上のガス圧力でも本発明の窒化珪素は製造す
る仁とができる。
本発明方法において基体に吹付ける原料ガスの吹付は方
向は、基体面に対して垂直、斜めあるいは平行方向のい
ずれの方向とすることもできる。
また基体を移動させるか、あるいは吹付は管を移動させ
ることによって線状あるいは巾広い板状あるいは管状の
種すの大きさの窒化珪素を得ることが出来る。
本発明方法に2いて基体と吹付は管の間に静電位差を設
けることにより出発原料から歩留よく本発明の窒化珪素
を沈積させることができる。この場合吹付は管の内管と
外管とを電気的に絶縁して内管あるいは外管のいずれか
1つと基体との間に静電位差を設けて吹付けることもで
きる。
また基体に超音波振動を与えることにより基体近傍にお
けるガスの流れを変化させ基体上に本発明の窒化珪素を
沈積させることもできる。
なお使用する原料の種類によシ、吹付ける前の両沈積源
化合物を予備加熱することにより中間生成物の生成を抑
えて歩留よく基体上に本発明の窒化珪素を沈積させるこ
ともできる。
次に本発明の製造装置について説明する。
本発明の装置は雰囲気を自在に調節することのできる容
器と前記容器内に封入される基体を°坦持し、かつ加熱
する手段と、前記基体上に窒素沈積源ガス並びに珪素沈
積源ガスとをそれぞれ吹付ける吹付は管とからなる窒化
珪素の気相分解沈積装置からなり、前記吹付は管を組合
せ管となし、かつ窒素沈積源ガス吹付は管を珪素沈積源
ガス吹付は管をもって包囲し、前記窒素沈積源ガス吹付
は管の開口端と基体との距離を前記珪素沈積源ガス吹付
は管開口端と基体との距離よシ短くしたことを特徴とす
る超硬高純度窒化珪素を製造する装置である。
本発明の製造装置の一部である雰囲気を自在に調節する
ことのできる容器としては10  in%程度の真空に
耐える金属製あるいはセラミックス製のものを用いるこ
とができ、なかでも出発原料ガスに対し耐食性のあるス
テンレス製容器を好適に使用することができる。
本発明の装置の容器には、必要にょシ雰囲気を調整する
ため、また反応の際の排ガスを排出するための開閉自在
の導入孔およびまたは排出孔を設ける。
超硬高純度窒化珪素を沈積せしめる基体としては、窒化
珪素を沈積させるに必要な1000〜1900°Cの範
囲内の温度に耐える基体を使用することができ、金属材
料、セラミックス材料を基体として有利に使用すること
ができる。その際基体の形状は如何なる形状でもよく、
すなわち線状、板状、棒状、筒状、あるいはその他複雑
な形状のものを、必要により使用することができる。本
発明の窒化珪素をブロック形状で得たいときには、板状
の基体上に前記窒化珪素を沈積積層させた後、この沈積
積層体を基体から剥離して得ることができる。
前記基体の加熱手段としては、電気抵抗加熱、高周波加
熱、赤外線加熱、太陽光線加熱、アーク加熱、レーザー
加熱あるいはプラズマ加熱等を使用することができる。
特に電導性基体を用いる場合は基体を直接に加熱する直
接加熱あるいは基体を外部ヒーターにより加熱する間接
加熱の何れをも用いることができるが、電気抵抗加熱、
高周波加熱等を用いる直接加熱の方が基体温度を精密に
制御できる点でより好適であり、基体が不良電導体の場
合は一般に外部ヒーターによる間接加熱が好適である。
なお容器内の基体の把持機構に連接して基体の。
移動、振動あるいは回転手段を配設することができ、こ
の手段によって、基体を反応操作中に適白に移動、振動
あるいは回転させ得るようにする。
また振動手段として超音波発掘装置を付設することもで
き、これによってガスの流束形状、ガスの基体近傍にお
ける流動ならびに混合を調整することもできる。
またガスの流束形状、ガスの基体近傍における流動なら
びに混合を調整するために特別のガス攪拌器を付設する
こともできる。
次に本発明の装置の主な構成要素の1つである沈積源ガ
スおよび必要により使用するキャリアーガスの吹付は管
について説明する。
上記吹付は管は組合せ管をもって構成させ、第1(A)
〜(G)図に示すような種々の構造の組合せ管を使用す
ることができる。
第1(ン図は同心2重管であり、第1 (Bj図は2本
の内管と1本の外管よりなる8重管であり、第1(Cj
図は同心8重管である。このほか2本以上の内管と1本
の外管とからなる組合せ管を使用することもできる。
また基体上への吹付は面積を拡大する必要のあるときに
は前記諸種の組合せ管をさらに2本以上組合せた構造の
吹付は管とすることができる。
本発明の吹付は管において、内管の開口端は外管の開口
端より基体により接近し得る構造のものとすることが必
要である。
本発明の同心8重管よりなる吹付は管において中間管の
開口端は内管の開口端と外管の開口端との倒れかと同一
水準またはこれらの開口端の中間領域で開口させること
ができる。
本発明の吹付は管において、基体と吹付は管との距離を
必要によシ調節し得るように、吹付は管が容器壁を貫通
する部分に気密で摺動を許容するバッキングを用いるこ
とは有利である。
本発明の吹付は管において、組合せ管のそれぞれの開口
端の水準を摺動自在に変化させることができるが、本発
明方法の実施に肖っては、内管の開口端と基体との距離
を外管力闘ロ端と基体との距離より短くすることが必要
である。
本発明の吹付は管としては高温に耐え、かつ使用する原
料ガスにより腐食されない材質の材料を使用することが
でき、ステンレス鋼を水冷可能な2型部にして用いるこ
とは有利である。
本発明の吹付は管において、既述したように内管からは
窒素沈積源ガスを外管からは珪素沈積源ガスを流出させ
る。なお第1 to)図に示す同心8重管を吹付は管と
する場合には中間管よIr H,、、H,□。
N2 + Arのうちから選ばれるいずれか1種または
2種以上を流出させることによって、基体に両沈積源ガ
スが到達する以前に互いに接触混合することを前記中間
管よりのガスによって離隔防止させ、基体上あるいは基
体近傍において初めて前記両沈積源ガスを接触、混合で
きる点で有利である。
なお前記吹付は管の外管の断面形状は必ずしも円形に限
られず、基体の形状あるいは基体上に窒化珪素を沈積さ
せんとする領域の形状に対応する形状の断面形とするこ
とは有利であり、その際の吹付は管の内管の断面形状も
円形に限られず、また内管本数ならびに内管の配設位置
も外管の断面形状及び基体上に窒化珪素を沈積させんと
する保域の形状に応じて適宜選択することができる。
次に本発明の方法および装置を図面について説明する。
第2図に示す本発明の製造装置において容器l内に基体
2を挿入し、水冷した導電把持棒8をもって基体の両側
を固定する。吹付は管4を基体の表面に開口端が指向す
るように配設する。第2図において容filは水冷可能
な冷却水導入、排出孔9を有する2重壁で製作されてお
υ、容器1に1個または2個以上のガス排出孔8を設け
る。なおこの容器に真空度を測定するために真空計配置
孔(図示せず)と基体の挿入・排出用n6を設け、この
扉の一部を透明な石英ガラスとなし、容器内の様子を観
察できるようにする。
容器1内に扉6よシ基体2を挿入し、把持棒8でその両
側を把持し、容器1を例えば10  m)fyの真空に
して、容器内の空気を排出した後、把持棒8に通電して
基体を約500 ”Cの温度に予備加熱して基体中に吸
蔵されている気体を排出させる。
次に基体を1000〜1900℃の温度範囲内の所定温
度に加熱保温し、吹付は管4の内管から窒素沈積源ガス
を外管から珪素沈積源ガスまたは必要によシキャリアー
ガスをも添加して、基体上に吹き出させる。この際爾沈
積源ガスは基体上あるいはその近傍で互に接触、混合さ
れ、気相分解し、基体上に本発明の窒化珪素が沈積する
。なお沈積層の厚さを厚くするためには前記吹付けを長
時間行えばよく、また広範囲の沈積層を得るには既述の
ように基体あるbは吹付は管を移動させればよ込。
次に本発明方法において、第8図に示す内管10117
)径a、外管1c12(7)径す、内管1’01と基体
2との距離y、内管101の開口端と外管102の開口
端との水準差をXとしたとき、これらと生成される本発
明の窒化珪素の性状との関係について次に述べる。
容器の大きさが直径800 mm 、長さ500 tr
vrであシ、また前記容器内に把持された基体が2 ×
12 X 40 yattの板状のものである場合はa
としては0.1〜4 c!ILφ’、 bとしては0.
3〜10mφ。
Xとしては0.8〜14cWL、yとしては1〜14c
mのそれぞれの範囲が好適である。なおS IOl 4
を珪素沈積源ガスとし、NH8を窒素沈積源ガスとする
場合81014の流量が液体状態で0.8 cc/mi
n eNH8の流量が60 cc/min 、 H,の
流」が700cc/min +容器内の圧力が1〜80
0 wxlfg、基体温度が1100〜1500”cの
場合はa := l cm eb = 2 crn 、
 x = l crn 、 y = 2 cmとすると
、均質で硬度の大なる本発明の窒化珪素を効率よく得る
ことができる。
前記方法・手順を用いて、S 1014の流量(液体状
態で)が0.8 cc/min 、 HHBの流量が6
0cc/min 、 H,の流量が700 cc/m1
n 、 aが1cm、bが2α、Xが1 cm 、 y
が2凛と、いう条件下で窒化珪素を沈積せしめると、製
造温度と容器内ガス圧力によって、第4図にその1例を
示すような温度と容器内ガス圧力とで規定される領域の
条件において配向結晶質窒化珪素、微粒結晶質窒化珪素
あるいは非晶質窒化珪素を沈積させて得ることができる
。第4図の領域POは配向結晶質窒化珪素が製造される
領域、領域FGは微粒結晶質窒化珪素が製造される領域
、領域AMは非晶質窒化珪素が製造される領域である。
また領域AM″の条件下では非晶質窒化珪素が沈積する
が、その硬度が100Ii荷重テMVH2000kg/
m”l”未満であ、るような比較的硬度の低い非晶質窒
化珪素が沈積する。
なお、配向結晶質、微粒結晶質および非晶質窒化珪素の
製造に際し、製造温度と容器内ガス圧力との関係は第4
図の条件下で次の第1表に示す通シである。しかし、こ
れら温度および圧力はガスの流星、吹出し管の形状等を
変化させると著しく変るが、通常1100〜1900”
Cおよび1〜100龍%の範囲内にある。
本発明の方法を実施して得られる窒化珪素は配向結晶質
、微粒結晶質および非晶質のものである。
これらのうち、配向結晶質窒化珪素はα型六方晶系構造
を有し、結晶面(bko)、 (hoAり 、 (hk
l)のうちから選ばれる何れか1つあるいは2つ以上の
面がそれぞれ平行に配向した構造で柱状組織を有し、第
5図(A)の走査型電子顕微鏡写真に示すように、結晶
面はそれぞれ平行に配向し、しかもその結晶粒径は1〜
100μmであることが判る。また本発明に係る配向結
晶質窒化珪素は第6図(AlのX線回折図に示すように
(1io)、(zlo)が極めて良く配向しており、焼
結窒化珪素成型体は第6図(OfのX線回折図に示すよ
うに配向性は全然見られず、本発明に係る配向結晶質窒
化珪素のみが特定の配向性を有することが判る。
本発明に係る微粒結晶質窒化珪素はα型六方晶系構造を
有し、第5図fB)の走査型電子顕微鏡写真に示すよう
に、1次錐組織が微結晶で構成されており、結晶粒径の
大きさの平均は1μm未満である。
本発明に係る非晶質窒化珪素は第5図(0)の走査型電
子顕微鏡写真に示すように、1次錐径が20〜50μm
以下である。また本発明に係る非晶質窒化珪素は第6図
(BlのX線回折図かられかるように20〜80°と6
0〜70°に2種類のハローが有如、結晶質窒化珪素粉
末のX線回折図を示す第6図(C)0回折強度と比較し
て、この非晶質窒化珪素の原子間距離は結晶質窒化珪素
の原子間距離に近いことが判る。
本発明に係る配向結晶質窒化珪素(PO)及び微粒結晶
質窒化珪素(FG)の密度は第7図(Alに1例を示す
よう忙8.184 !//crn8であり、α型構造を
持つ窒化珪素の理論密度と同一である。本発明に係る非
晶質窒化珪素(AM )の密度は第7図(B)に1例を
示すように、最高2.85 &/an8m最低2 、6
011/crn”である。従来の焼結窒化珪素成型体に
あっては、反応焼結法あるいはホットプレス法によって
製造されたものであってもその密度は理論密度の70〜
80%であるに過ぎない。これよシ大きい密度の成型体
はMgO等の不純物を1−10wt%加え、1600〜
1800℃でホントプレスすることによって初めて理論
密度の97〜100%のものが得られる。一方前記米国
特許第8,226,194号公報によれば、S IF 
4とNH8の気相分解沈積によって理論密度の97〜1
00%の窒化珪素が製造されているが、後述するように
その窒化珪素の硬度は本発明に係る屋化珪素の硬度よシ
著しく低い。
本発明に係る配向結晶質窒化珪素の熱膨張係数ハ2.2
 X 10  /”Cテあり、また1200”C〜室温
の加熱急冷サイクルに700〜1800回以上IU耐え
、従来の反応焼結si 8N4の場合のそれは約600
〜1500回、また焼結SiOテハ約250回であるの
に比べると本発明に係る配向結晶質窒化珪素は耐熱衝撃
性に非常に優れていることが判る。本発明に係る微粒結
晶質窒化珪素の熱膨張係J5数ハ2.7 X 10”−
6/’Cテアリ、1200”C〜室温の加熱急冷サイク
ルには700〜2000回以上耐える。また本発、明に
係る非晶質窒化珪素の熱膨張係数は2.9 X 10−
’ /”Cである。
本発明に係る配向結晶質窒化珪素(PO)の熱伝導度の
温度依存性を第8図に示す。配向結晶質の熱伝導度(室
温値)は反応焼結窒化珪素(第8図中○印及びR8)ノ
値1.5 X 10−8〜8 X 10−”caA! 
/cm/’see/”Cに比べて約100〜4倍で、ま
たホットプレス焼結窒化珪素(第8図中・印及びHP 
)の値8.5 X 10−2〜9 X 10−2ca7
!/cm/sec/°Cに比べて約4〜1.3倍大きい
。一般に耐熱衝撃性は熱伝導度が大きいほどまた熱膨張
係数が小さいほど優れている。したがって本発明に係る
配向結晶質窒化珪素が耐熱衝撃性に優れ、高温構造材料
に適していることを示している。
本発明に係る配向結晶質及び微粒結晶質及び非晶質9化
珪素はいずれも空気中1250″Cで2時間加熱しても
重量変化は0.01■/crn2以下であシ、ホットプ
レス焼結窒化珪素の0 、1 ”fi’ /cm”及び
反応焼結窒化珪素の5ダ/儂2に比べると耐酸化性に極
めて優れていることが判る。
またいずれもNa 、 K 、 Li s AA!など
の溶融金属に耐する耐食性が良好である。
本発明に係る配向結晶質及び微粒結晶質窒化珪素は、室
温電気抵抗が1014〜1015Ω・いであり、反応焼
結窒化珪素の電気抵抗より10〜100倍大きく、高い
電気絶縁性を有する。−力木発明に係る非晶質窒化珪素
の室温電気抵抗、は1012Ω・のであり、従来知られ
た気相分解沈積非晶質窒化珪素のそれとほぼ等しい。
本発明により得られた窒化珪素の最も大きな特徴とする
硬度について以下に説明する。
本発明に係る配向結晶質窒化珪素の硬度は第9図の曲線
POに例示するように荷重50.9においてMVH48
00kg/mw 、荷重100gにおいてMVH880
0kg/w2、荷重200gにオイ−’CMVHBlo
oゆ/−の高硬度を有し、SiF  とNH8から製造
される既知の気相分解沈積による結晶質窒化珪素がMV
H2850kg/mx” (m 重不明) ”Cアルの
に比しはるかに硬度が高すという特長を有する。
本発明に係る配向結晶質窒化珪素が前記既知の結晶質窒
化珪素に比し、硬度が極めて優れそいる理由について、
本発明者等の研究によれば前記既知の窒化珪素はα型結
晶構造であり、(ool )面配向を有するのに対し、
本発明のそれは同じα型結晶構造であるが、(hko)
 、 (hoe) 、 (hLl)面の何れか1つまた
は2つ以上よりなる面の配向を有し、(ooll )面
、に比し、上記本発明に係る配向結晶質窒化珪素の配向
面が本質的に超高硬度を有するからであると考察される
。すなわちα型窒化珪素単結晶についてそれぞれの結晶
面について硬度を測定した結果、下記の第2表に示すよ
うに(ool)面の硬度が最も低(、これに対しくhk
o ) + (how )+(hk7 )面はそ□れぞ
れ前記(ooll)面よりはるかに高く、8500〜8
650 kl?/m”に及んでいる。
第2表 S l a N 4単結晶の各結晶面における硬度なお
前記第2表記載の硬度は前述のようにα型窒化珪素単結
晶のそれぞれの結晶面についての硬度の測定値であるが
、本発明に係る配向結晶質窒化珪素の硬度は単結晶の(
hko)、 (how)、 (hkl)面のそれぞれの
硬度忙比し、さらに高く、第9図の曲線POでその1例
を示すように100I荷重で8800 kg/+am”
に達する。
微粒結晶質窒化珪素の硬度は第9図の曲線FGでその1
例を示すように、100g荷重でMVH4000〜50
00 kg/ax” 、 1509荷重テMVH850
0〜48o o kip/m”であり、従来知られたホ
ットプレス法によりi造される微粒結晶質窒化珪素(H
P −818N4 )の硬度は10(1’荷重でMV)
I約8500 kg/−であり、また従来知られた気相
分解沈積により製造された結晶質窒化珪素(OVD −
81NM’)硬度ハMVH’2850 kg/J (荷
重不明) 4 であるの比し、はるかに硬度が高く、ダイヤモンド、立
方晶BNに次ぐ超高硬度を有している。本発明に係る非
晶質窒化珪素の硬度は第9図の曲線AMでその1例を示
すように、荷重50.9においてMVf(8800kg
/vra” 、荷重100gにおいてM’VH8100
k&/m2.荷重15011KオイテMVH2500ゆ
/−の高硬度を有し、従来S NH4とNH8とH8の
混合ガスから製造された非晶質窒化珪素の100II荷
重テノMvH約2900 kg/lanに比べてはるか
に硬度が高い。なお第9図に比較のために代表的な高硬
度物質の硬度を記載する。第9図によれば代表的超硬材
料であるH40の硬度は荷重80&で5000 kl?
/m” 、荷重100gで約3200 kg/+x”で
あるが、本発明に係る配向結晶質(PO)及び微粒結晶
質(FG>窒化珪素の硬度よυもはるかに低いことが判
り、本発明に係る配向結晶質および微粒結晶質窒化珪素
が超高硬度を有することが明らかである。
なお硬度においてダイヤモンドに匹敵すると言われてい
る立方晶BNは約5〜10万気圧、1500〜2000
℃で合成され、かつその径は大きくとも約0.5 mで
あるのに比し、本発明により得られた窒化珪素は硬度で
は立方晶窒化硼素に及ばないが、後述するようにブロッ
ク及び被膜の形状で自由に製造することができる点にお
いて工業的用途ははるかに大である。
次に本発明に係る窒化珪素の最も特徴とする硬度の温度
依存性について説明する。
本発明に係る配向結晶質窒化珪素の硬度の温度依存性は
第10図の直線POでその1例を示すように室温で荷重
100gにおいてMVHd 800kl?/龍’ 、 
1500 ”Cテ荷重100p[姑いてMVH2000
kg7mm”の高硬度を示し、1500°Cの高温にお
いてもなお超高硬度を有することが判る。
本発明に係る微粒結晶質窒化珪素の硬度の温度依存性は
第10図の直線FGでその1例を示すように、室温テ荷
重100gにおイテMVH5000に&/muであり、
1500°Cの高温においても荷重100gでMVH2
200kg/m2という超高硬度を示し、高温における
硬度の減少は少ない。なおこの500℃における微粒結
晶質窒化珪素の硬度はホットプレスによる微粒結晶質窒
化珪素の室温における硬度値(荷重1001におけるM
VH8500ke/m2)よりもさらに超高硬度を有す
る。
次に本発明に係る非晶質窒化珪素の硬度の温度依存性は
第10図の直線AMでその1例を示すように室i−c’
荷重1ooIIにおいてMvH8oo。
kI?/−であり、1300 ”Cの高温においても結
晶化せず荷重100.9にオイテMVH1200kll
/m”という高硬度を示し、高温においても硬度の低下
は少ないことが判る。一般の材料では高温硬度は著しく
劣化し、特に金属では数100〜1000°Cで硬度は
極めて小さくなる。一方セラミックスは高温において、
金属はどは硬度は低下しないといわれているが、それで
も第10図に示すようにTie 、 AI、08は温度
と共に硬度は下る。例えばTiOテハ室温硬度1300
0 ki?/1−がらl 500 ”Cで100 kp
/im2にまで減少する。SiOは温度による硬度減少
は少ないが、1000 ”C附近までシカ測定データは
なく、それ以上では急激に減少するといわれている。ま
た超硬材料の代表とされているB、Cは室温で硬度は8
00okg、/−であシ、その硬度は1000℃まで変
化己ないが、1000℃を越えると急に軟化する。一方
上記既知の超硬材料に比し、本発明に係る配向結晶質、
微粒結晶質及び非晶質窒化珪素はそれぞれ第10図から
も判るように高温においても硬度の減少は極、めて少な
く、かつ超高硬度を有することから後述するように高温
において硬度を必要とする工業用材料として最適に使用
することができる。
本発明により得られる窒化珪素の硬度と密度の関係につ
いて以下に説明する。
本発明の配向結晶質窒化珪素は第11図のPOで示すよ
うに密度は8.184 E/cm8で理論密度と同一で
あり、その硬度は100I!荷重でMVH8500〜8
900 kg/wx2であり、また微粒結晶質窒化珪素
は第11図のFGで示すように密度は同じく8 、18
4 g /crn8で理論密度と同一であり、その硬度
&−! l OO&荷重でMVH4000〜5000 
kfl/++m”である。また本発明に係る非晶質窒化
珪素は第11図のAMで示すように密度と硬度の間に直
線関係が有り、しかもその関係は製造温度によって異な
っている。本発明によれば、製造条件を選定することに
より任意の密度と硬度の非晶質窒化珪素を得ることがで
きる。
上述した如く、本発明に係る微粒結晶質窒化珪素及び配
向結晶質窒化珪素はダイヤモンド、立方晶BNに次ぐ高
硬度を有し、超硬材料の代表とされているB、Cよシも
高い硬度を有する。また本発明に係る非晶質窒化珪素は
通常超硬材料といわれているTie 、 SiO、We
 、 i+BOBなどよシも硬度は高い。
一方人工ダイヤモンド及び立方晶BNは一般に5〜10
万気圧の超高圧下で、1500〜2000℃の高温に加
熱して合成されるために、その大きさは0.5B以下の
微粒であシ、ブロック形状では得られず、また被覆材に
もなシ得ない。
しかるに本発明により得られる窒化珪素はブロック形状
にも膜状にも製造することが可能であり、超硬材料とし
てダイヤモンド、立方晶BNよシもはるかに広い用途が
あシ、Mftlコストも著しく低い。
本発明に係る結晶質窒化珪素は第10図に示したように
1500 ”Cもの高温においても現存する他の材料を
はるかにしのぐ高温硬度を有し、超高温材料として極め
て有用である。本発明に係る非晶質窒化珪素は高硬度に
加えて半透明あるいは透明体であるので高温にさらされ
る哉窓等に使用することができる。
以上のような超高硬度ならびに優れた高8%性を利用し
て、本発明に係る窒化珪素は下記の方面の利用が期待さ
れる。
L被覆材として 印 バイト、ダイス、ドリル、カッター等の工具材の表
面に被覆することによって工具の寿命を延し、自動加ニ
ジステムの管理を容易ならしめる。
(ロ) ベアリング、両車、回転軸等の耐摩耗性を要す
る機械部品の表面に被覆することによって嘲耗及び高温
焼付を防止する。
(ハ) 金属、化合物、セラミックス、黒鉛等の諸材料
の表面に被覆することによって、高硬度表面をもたせ、
さらに高温における機械的性質を向上させる(例えばエ
ンジン部品、タービン部品等)。
(ロ) 諸材料の表面に被覆することにより、電気絶縁
性を与える(高温絶縁体)。
(ホ) 諸材料の、表面に被覆することにより、酸化を
防止し、高温腐食性ガス、溶融金属、薬品等との反応を
阻止する(例えばルツボ、ボート、化学プラント、MI
D発電ダクト、ロケットノズル等)。
2、ブロック材として (へ) 超硬バイト、超硬ダイス等の工具材として有用
である。
(ト)  高い硬度が要求される硬質理化学器具に用い
られ、例えば硬度計の圧子として好適に使用することが
できる。
(ホ)高い硬度が要求され、しかも高温度でその硬度を
保持する必要のあるベアリング、回転軸、軸受、シール
材等に有用である。
(す)  高温で用いられる構造材として、例えばエン
ジン部品、タービン部品等として利用出来る。
次に本発明を実施例によって説明する。
実施例 l 第2および8図に示す装置(容器の大きさ:80cmφ
X50cn、a=1cIrL、b=2cm、x=1ct
n 、 y = 2儂)を用いて銅製電極8の間に人造
黒鉛から成る板状基体2(大きさ:2XIZX40訪)
をはさみ、炉内を予め10−8mH1に減圧し、基体に
通電し500 ’C以上に加熱し、基体の脱ガスを行な
った。次いで基体を1100°Cに保熱した。これにア
ンモニアガスを60 cc/minで内管よシ流出させ
、同時に水素ガスを700 cc/minで20°Cの
四塩化珪素(蒸気圧180 m% )中を通過させ、水
素ガスに四塩化珪素蒸気(液体状態で0.8 cc/m
in )を含ませた混合ガスを外管よシ流出させた。そ
の時の容器内圧力を20 mi+%とした。15時間ガ
スを流した後、電流を切シ、冷却し、中の基体2を取り
出したところ、基体2の表面上に1.5誌厚さの板状、
白色半透明の非晶質窒化珪素を得た。この時の沈積速度
は0.1ta/hrであった。この非晶質窒化珪素の特
性を測定したところ次のようであった。結晶構造:非晶
質、非晶質度:低角−ロー、著しくブロード、非晶質1
次錐径:2’0μm、密度: 2.801/crn8.
 Si/N :0.7B 、硬度: 2800時/W2
(荷重100#)実施例 2 実施例1と同様の装置を使用し、同様の操作を行なって
非晶質窒化珪素を製造した。まず基体温度を1200°
Cに保っておき、これにアンモニアガスを内管より60
 cc/min流出させ、同時に水素ガスを1000 
CC/minで20°Cの四塩化珪素。
(蒸気圧180 wxHg )中を通過させ、水素ガス
に四塩化珪素蒸気(液体状態で1.1 cc/m1n 
)を含ませた混合ガスを外管より流出させた。その時の
容器内の圧力を20 mrxHgとした。4時間ガスを
流した後、電流を切り、冷却し、中の基体2を取出した
ところ、基体2の表面上に211iI厚さの白色非晶質
窒化珪素を得た。この時の沈積速度は0.5龍/h r
であった。この非晶質窒化珪素の%性は次のようであっ
た。結晶構造:非晶質、非晶質度=20〜40°と60
〜70°に2種類のノルローが有シ非晶質度は低い、非
晶質2次錐径:15μm。
密度: 2.7711/α8. Si/N : 0.7
4 、硬度:8100 kl?/m” (100g荷重
)、1800°Cでの初期酸化増Bit : 0.01
 m9/cIrL2/hrで1.5時間後は酸化増量は
なかった。
実施例 8 実施例1と同様な装置を使用し、同様な操作を行なって
配向結晶質窒化珪素を製造した。製造条件は、基体温度
:1400°C,アンモニアガス流量: 60 cc/
min +水素ガス流量: 700 cc/min 。
四塩化珪素蒸気圧: 180 rrmHy 、四塩化珪
素流量: 0.8 cc/rnin (液体状態)、容
器内ガス圧カニ40 wxHg ’s沈積時間:5時間
。その結果、基体2の表面上に厚さ5關の茶色の配向結
晶質窒化珪素を得た。この時の沈積速度は1m/hrで
あった。
この配向結晶質窒化珪素の特性は下記の通シであった。
結晶構造:結晶性α型、結晶配向: (110)。
(210)、(222)面、結晶粒径20μm以下、密
度−B。154g/儂8. Si/N : O,’?4
 、硬度二8900〜4000 kg/關2(荷重10
0g)、耐酸化性:1400℃での酸化増量認められず
。溶融Al 、 Na 、 Kと共存住良。
実施例 4 実施例1と同様な装置を使用し、微粒結晶質窒化珪素を
製造した。星U造条件は次の通りである。
基体温度:1500°C,アンモニアガス流量=60 
cc/min 、水素ガス流量: 700 cc/mi
n e四塩化珪素の蒸気圧: 180 +izH,p 
、四塩化珪素流i1 : 0.8 cc/min (液
体状態)、容器内ガス圧カニ10mm+H/!、沈積時
間:4時間。その結果、基体2の表面上に2.4詣厚さ
の白灰色の微粒結晶質窒化珪素を得た。この時の沈積速
度は0.6tm/hrであった。この微粒結晶質窒化珪
素の特性は下記の通りであった。結晶構造:結晶性α型
、結晶配向:(110)、(210)面、結晶粒径:平
均1μm未満、密度: 8.184 E/c+a8. 
Si/N : 0.78 、硬度: 4500〜500
0ゆ/IIIIL2(荷重1005+ )。
1500°Cでの酸化はほとんど認められず、酸化増量
は10時間でわずかに0.11ダ/cIrL′2に過ぎ
なかった。
実施例 5 実施例1と同様な装置を使用し、円柱状人造黒鉛(大き
さ=12龍φx 40 vg )上に配向結晶質9化珪
素被膜を被覆した。被覆条件は次の通シである。基体温
度:11300°C,アンモニアガス流量: 100 
cc/min y水素ガス流量: l 500 cc/
min 、四塩化珪素蒸気圧: 820*mHg、四塩
化珪素流量: 8 cc/min (液体状態)、容器
内ガス圧カニ 50 m% 、沈積時間80分。その結
果円柱状人造黒鉛上に極めて緻密な厚さ0.B5y+g
の茶褐色の配向結晶質窒化珪素被膜を得た。この時の被
膜の成長速度は0.7 mm/brであった。この配向
結晶質窒化珪素被膜の特性は下記の通りであった。
結晶構造:結晶性α型、結晶配向:(110)。
(210)面、結晶粒径:40μm以下、密度:8.1
8411/cwt  、 Si/N : 0.74 、
硬度:8B00〜8800 kg/*m” (荷重10
(1’)。配向結晶質窒化珪素被膜は人造黒鉛との密着
性が極めて強面であり、1600℃からの急冷にも耐え
、しかも1500℃での酸化はほとんど認められず、酸
化増量は10時間でわずかK O,10#/cm”に過
ぎなかった。
実施例 6・ 実施例1と同様な装置を使用し、発熱体としてルツボ型
に成型した人造黒鉛(大きさ:12uφX′40 mm
 )を用い、その中にタングステンカーバイドを主成分
とする超硬バイト(大きさ: 5x5x80 tn* 
)を設置し、超硬バイトへ微粒結晶質窒化珪素被膜を被
覆した。
被覆条件は次の通りである。基体温度:11300−C
、アンモニアガス流量: 80 cC/min 、水素
ガス流量: l 100 cc/min 、 I2!l
!I塩化珪素蒸気圧=120 miHg 、四塩化珪素
流量: 0.84 cc/min (液体状態)、容器
内ガス圧カニ40mwHg+被覆時間−15分。その結
果、超硬バイトの表面に厚さ150.055mの黒褐色
の微粒結晶質窒化珪素@膜が被覆された。この時の被覆
速度は0.2w/hrであった。この微粒結晶質窒化珪
素a膜の特性は下記の通りであった。結晶構造:結晶性
α型、結晶配向:(110)、(210)、(222)
面、結晶粒径:平均0.8 tLm +密度: 8.1
84 fi/′crn8. Sj、/N :0.785
 、硬度: 4800 kll/m” (荷重100.
91C換算)であった。また微粒結晶質窒化珪素被膜と
超硬バイトとの密着性は良好で、l 500 ’Cでの
酸化はほとんど認められず、酸化増量は10時間でわず
かに0.10 #/cm2に過ぎなかった。
実施例 7 実施例6と同様な装置、発熱体を使用し、市販の焼結窒
化珪素成型体(大きさ:5X5X80mm)上に配向結
晶質窒化珪素被膜を被覆した。被覆条件は次の通りであ
る。基体温度:1800″C,アンモニアガス流蓋: 
60 cc/min +水素ガス流量ニア 00 cc
/min 、四塩化珪素蒸気圧: l 80 vart
% +四塩化珪素流M: 0.8 cc/min (液
体状態)、@器内ガス圧カニ 50 mHl 、被覆時
間=lo分。
この結果得られた配向結晶質量化珪素被膜の特性は下記
の通りであった。結晶構造:結晶性α型、結晶配向:(
110)、(210)、(222)面、結晶粒径:40
ノty1以下、密度: 8.18411/crn8゜S
i/N : 0.74 、 硬度: 8750 kg/
m2(荷重1002゜I)であった。また配向結晶質窒
化珪素被膜と市販焼結窒化珪素成型体との密着性は非常
に強固であり、1500°Cからの急冷によっても剥離
しなかった。
実施例 8 実施例5と同様な装置及び基体を用いて配向結晶質窒化
珪素の管を作った。製皆条件は次の通りである。基体温
度:1800°C,アンモニアガス流量: 60 cc
/min +水素ガス流量: 700cc/min 、
四塩化珪素蒸気圧: 200風wrap、四塩化珪素流
量: 0.9 cc/min (液体状態)、容器内ガ
ス圧カニ 45 imHy +沈積時間:8時間、その
結果円柱状人造黒鉛上に厚さ約4 tnrxの配向結晶
質窒化珪素を得た。この試料を黒鉛基体共HNO3−H
2SO,混液中に浸漬したところ黒鉛基体は脱落し、後
に管状窒化珪素を得た。この管状配向結晶質窒化珪素の
硬度は8500〜8800 kl?/酎2(耐重100
I)であった。
実施例 9 実施例1と同様な装置を使用し、同様な操作を行なって
配向結晶質窒化珪素を製造した。製造条件は、基体温度
:1400°C,アンモニアガス流fi : 60 c
c/min 、水素ガス流量: 700 cc/min
 。
四塩化珪素蒸気圧: l 80mm% 、四塩化珪素流
 。
il : 0.8 cC/min (液体状態)、容器
内ガス圧力=60 imHy 、沈積時間=8時間。そ
の結果、基体2の表面上に厚さ8.6m+mの茶色の配
向結晶質窒化珪素を得た。この時の沈積速度は1.2m
m/hrであった。この配向結晶質窒化珪素の特性は下
記の通りであった。結晶構造:結晶性α型、結晶配向二
主として(222)面、結晶粒径20μm以下、密度:
 13.1841/cm  、 Si/N : 0.7
4 、硬度:8500〜4000ゆ/B2(荷重100
g)。
【図面の簡単な説明】 第1図(A) 、 (B) 、 (01は吹付管の数例
を示す斜視図であシ、 第2図は本発明による麹化珪素の製造装置の1例を示す
破砕断面図であり、 第8図は本発明の吹付は管の斜視図であシ、第4図は製
造温度と容器内ガス圧力が窒化珪素の結晶状態に及ぼす
影響を示す図であり、第5図は本発明による窒化珪素の
表面走査型電子顕微鏡写真で、(A)は配向結晶質、(
B)は微粒結晶質、(0)は非晶質窒化珪素に関する写
真であシ、第6図は本発明の窒化珪素の沈積面のX線回
折図形を焼結窒化珪素成型体及び窒化珪素粉末のX線回
折図形と対比した図で、((転)は配向結晶質、(B)
は非晶質窒化珪素、(O)は焼結窒化珪素成型体及び窒
化珪素粉末に関するX線回折図形であり、第7図は本発
明による窒化珪素の製造ガス圧力と密度の関係の1例で
、(A)は配向及び微粒結晶質、(Blは非晶質窒化珪
素に関する結果を示す図であり、第8図は本発明の窒化
珪素の温度と熱伝導度との関係を示す図であり、 第9Mは本発明の窒化珪素の硬度を他物質の硬度と比較
した図であり、 第10図は本発明による窒化珪素の高温における硬度を
他物質の高温硬度と比較した図であり、第11図は本発
明の窒化珪素の硬度と密度の関係を示す図である。 ・l・・・容器       2・・・基体8・・・把
持棒      4・・・吹付は管601.扉    
     8・・・ガス排出孔9・・・冷却水導入、排
出孔。 特許出願人 東北大学金属材料研究所長(C) 第2図 第3図 第6図 (、A) 2θ(渡) 第7図 <A) <B) 0 20 40 60 130 100製造力・′ス圧
力(mmHy) 第8図 第9図 温度(0C) 第11図 密度(lJ−/ctyt3)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 所定温度に加熱した基体上に所定の容器内ガス圧力
    下窒素沈積源ガスと珪素沈積源ガスとを反応させて超硬
    高純度窒化珪素を製造するに当り、前記窒素沈積源ガス
    と珪素沈積源ガスとを組合せ管を用いて前記基体上にそ
    れぞれ吹付け、該基体上に吹付けられる窒素沈積源ガス
    流束の周囲を珪素沈積源ガスにより包囲し、前記両ガス
    の気相分解反応を基体上あるいは基体近傍で生起させて
    窒化珪素を生成させ、基体上に沈積させることを%徴と
    する超硬高純度窒化珪素の製造方法。 ム 容器と前記容器内に封入される基体を把持し、かつ
    加熱する手段と、前記基体上に窒素沈積源ガス並びに珪
    素沈積源ガスとをそれぞれ吹付ける吹付は管とからなる
    窒化珪素の製造装置において、前記吹付は管を組合せ管
    と2゜なし、かつ窒素沈積源ガス吹付は管を珪素沈積源
    ガス吹付は管をもって包囲し、前記窒素沈積源ガス吹付
    は管の開口端と基体との距離を前記珪素沈積源ガス吹付
    は管の開口端と基体との距離より短くしたことを特徴と
    する超硬高純度窒化珪素の製造装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4929432A (en) * 1988-10-19 1990-05-29 Union Carbide Corporation Process for producing crystalline silicon nitride powder

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