JPS5988376A - 酸化物セラミツクスの製造方法 - Google Patents
酸化物セラミツクスの製造方法Info
- Publication number
- JPS5988376A JPS5988376A JP57198392A JP19839282A JPS5988376A JP S5988376 A JPS5988376 A JP S5988376A JP 57198392 A JP57198392 A JP 57198392A JP 19839282 A JP19839282 A JP 19839282A JP S5988376 A JPS5988376 A JP S5988376A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hot isostatic
- isostatic pressing
- oxide ceramics
- sintered body
- sintering
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- Magnetic Ceramics (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ソフトフェライトや圧電磁器等の酸化物セ
ラミックスの熱間静水圧プレスを利用した製造方法Ｓ係
り、熱間静水圧プレス時に発生する割れを防止した製造
方法に関する。
ラミックスの熱間静水圧プレスを利用した製造方法Ｓ係
り、熱間静水圧プレス時に発生する割れを防止した製造
方法に関する。
かかる酸化物セラミックスの製造には、その内部空孔の
除去、結晶成長による過度の結晶粒粗大化を防止し高密
度化を計るために、熱間静水圧プレス法が採られている
。
除去、結晶成長による過度の結晶粒粗大化を防止し高密
度化を計るために、熱間静水圧プレス法が採られている
。
この熱間静水圧プレス法には、カプセル法、ガラスモー
ルド法、前焼結法があるが、前２方法はコスト、生産性
の点で問題があるため、被処理材の密度を理論密度の９
４％以上にし、被処理材の空孔が閉孔となるように、被
処理材成形体を予備焼結したのち、熱間静水圧プレスす
る前焼結法が一般的である。
ルド法、前焼結法があるが、前２方法はコスト、生産性
の点で問題があるため、被処理材の密度を理論密度の９
４％以上にし、被処理材の空孔が閉孔となるように、被
処理材成形体を予備焼結したのち、熱間静水圧プレスす
る前焼結法が一般的である。
この前焼結法において成形体を予備焼結すると、焼結体
の表面に表面歪層が形成され、焼結体の内部と表面層部
との組成成分の差異により内部歪が蓄積され、焼結体を
熱間静水圧プレスする時に主表面に蓄積された大きな応
力により被処理材に割れが発生する問題がある。特に焼
結体の寸法が各−辺が１０ｍｍ以上で容積１５ｃＡ以上
の大型成形体の場合に上記の割れが顕著である。
の表面に表面歪層が形成され、焼結体の内部と表面層部
との組成成分の差異により内部歪が蓄積され、焼結体を
熱間静水圧プレスする時に主表面に蓄積された大きな応
力により被処理材に割れが発生する問題がある。特に焼
結体の寸法が各−辺が１０ｍｍ以上で容積１５ｃＡ以上
の大型成形体の場合に上記の割れが顕著である。
この発明は酸化物セラミックスを前焼結法で熱間静水圧
プレス処理する際に被処理材にかかる割れを発生させな
い製造方法を目的としている。
プレス処理する際に被処理材にかかる割れを発生させな
い製造方法を目的としている。
すなわち、この発明は、ソフトフェライト、圧電磁器等
の酸化物セラミックスからなり各−辺寸法１０ｍｍ以上
で容積１５ｃｍ’以上の成形体を予備焼結し、この焼結
体の少なくとも対向する２主表面の表面層を１面当り０
．１ｍｍ以上研削除去したのち、熱間静水圧プレス処理
することを要旨とする酸化物セラミックスの製造方法で
ある。
の酸化物セラミックスからなり各−辺寸法１０ｍｍ以上
で容積１５ｃｍ’以上の成形体を予備焼結し、この焼結
体の少なくとも対向する２主表面の表面層を１面当り０
．１ｍｍ以上研削除去したのち、熱間静水圧プレス処理
することを要旨とする酸化物セラミックスの製造方法で
ある。
熱間静水圧プレスにおいて被処理材の成形体の寸法を、
各−辺が１０ｍｍ以上で容積が１５ノ以上の板状子Ａ料
としたのは、上記の条件の成形体は予備焼結時に内部歪
が蓄積され、熱間静水圧プレス処理時に焼結体に割れが
発生するためであり、成形体寸法、容積が大きくなるほ
ど焼結後の研削除去の必要な表面歪層は深くなる。
各−辺が１０ｍｍ以上で容積が１５ノ以上の板状子Ａ料
としたのは、上記の条件の成形体は予備焼結時に内部歪
が蓄積され、熱間静水圧プレス処理時に焼結体に割れが
発生するためであり、成形体寸法、容積が大きくなるほ
ど焼結後の研削除去の必要な表面歪層は深くなる。
次に、上記寸法の成形体を予備焼結するが、焼結条件は
成形体の材質により異なり、ソフトフェライトの場合、
被処理材が一−ＺＴＩフェライトのときは、酸素Ｑ、５
〜１０％含有の不活性ガス雰囲気で１１５０℃〜１３５
０℃の温度条件が好ましく、ＮＬ−Ｚｎフェライトのと
ぎは酸素雰囲気中で１１５０°Ｃ〜１２５０℃の温度が
好ましい。また、圧電磁器の場合は、酸素雰囲気中で１
ｉｏｏ０ｃ〜１２５０℃の温度条件が好ましい。
成形体の材質により異なり、ソフトフェライトの場合、
被処理材が一−ＺＴＩフェライトのときは、酸素Ｑ、５
〜１０％含有の不活性ガス雰囲気で１１５０℃〜１３５
０℃の温度条件が好ましく、ＮＬ−Ｚｎフェライトのと
ぎは酸素雰囲気中で１１５０°Ｃ〜１２５０℃の温度が
好ましい。また、圧電磁器の場合は、酸素雰囲気中で１
ｉｏｏ０ｃ〜１２５０℃の温度条件が好ましい。
この発明において、予備焼結した焼結体の少なくとも対
向する２主表面を研削加工するが、材質により表面歪層
の深さは箕なるものの、少なくとも対向する２主表面の
表面層を０．１ｍｍ以上除去する必要がある。すなわち
、０．１ｍｍ未満の研削除去では表面歪層が残存して熱
間静水圧プレス時に割れを発生してしまう。ソフトフェ
ライトの場合は研削除去すべき表面歪層が深いため、０
．２ｍｍ以上の表面層の研削除去が好ましい。またさら
に、表面層の研削−除去を焼結体の全表面に施こすと、
熱間静水圧プレス時の割れ発生防止に極めて有効となる
が、少なくとも、表面積が広く対向する２主表面の表面
層を研削除去すると熱間静水圧プレス時の割れを防止で
きる。
向する２主表面を研削加工するが、材質により表面歪層
の深さは箕なるものの、少なくとも対向する２主表面の
表面層を０．１ｍｍ以上除去する必要がある。すなわち
、０．１ｍｍ未満の研削除去では表面歪層が残存して熱
間静水圧プレス時に割れを発生してしまう。ソフトフェ
ライトの場合は研削除去すべき表面歪層が深いため、０
．２ｍｍ以上の表面層の研削除去が好ましい。またさら
に、表面層の研削−除去を焼結体の全表面に施こすと、
熱間静水圧プレス時の割れ発生防止に極めて有効となる
が、少なくとも、表面積が広く対向する２主表面の表面
層を研削除去すると熱間静水圧プレス時の割れを防止で
きる。
ついで表面層の研削除去を行なった焼結体を熱間静水圧
プレス処理するが、その条件はｉ ｏｏｏ℃〜１３００
℃の温度、４ＱＯｋｇ々〜２０００ｋｇＪの圧力条件が
好ましい。
プレス処理するが、その条件はｉ ｏｏｏ℃〜１３００
℃の温度、４ＱＯｋｇ々〜２０００ｋｇＪの圧力条件が
好ましい。
以下に、この発明による実施例を示しその効果を明らか
にする。
にする。
［実施例１コ
Ｍｎ−Ｚｎｎフシイ１〜の配合原料として、ｌｌｎ Ｃ
ｏ ３２６．８Ｆ／Ｌ、％、ＺｎＯ２１，２モル％、Ｆ
ｅ ２０３５２Ｔ： ／Ｌ／％を秤量配合し、混合して
仮焼後に粉砕い６０ｍｍＸ６０馳Ｘ １２＋ｎｍ ＋容
積４３．２ｃｍのブロックにプレス成型した。
ｏ ３２６．８Ｆ／Ｌ、％、ＺｎＯ２１，２モル％、Ｆ
ｅ ２０３５２Ｔ： ／Ｌ／％を秤量配合し、混合して
仮焼後に粉砕い６０ｍｍＸ６０馳Ｘ １２＋ｎｍ ＋容
積４３．２ｃｍのブロックにプレス成型した。
この成形体１００個を、脱バインダー処理したのち、酸
素１％含有の窒素ガス中で、１３００℃、２時間の焼結
を行なった。
素１％含有の窒素ガス中で、１３００℃、２時間の焼結
を行なった。
得られた焼結体の６０１ｎｍ Ｘ ６０ｍｍの２主表面
を片面当り０．５ｍｍ研削除去しへ。
を片面当り０．５ｍｍ研削除去しへ。
ついで、研削後の焼結体を湿度１１００℃、圧力１２０
０ｋｇＪの条件で熱間静水圧プレス処理した。
０ｋｇＪの条件で熱間静水圧プレス処理した。
つぎに、焼結後に表面の研削除去しない焼結体を同じ条
件で熱間静水圧プレス処理した従来の製造方法によるラ
フ１〜フエライトと、上記のこの発明方法で得られたソ
フトフェライトとを、発生した割れ個数で評価試験した
。その結果を第１表に示す。
件で熱間静水圧プレス処理した従来の製造方法によるラ
フ１〜フエライトと、上記のこの発明方法で得られたソ
フトフェライトとを、発生した割れ個数で評価試験した
。その結果を第１表に示す。
［実施例２コ
ＮＬ−ＺＴＩフェライトの配合原料として、ＮＬＯ１３
，５モル％、Ｚｎ０３２モル％、ＦｅａＯ３４９，５モ
ル％を秤量配合し、混合して仮焼後に粉砕し、４８ｍｍ
Ｘ ６０ｍｍ Ｘ１２ｎｎｎ、容積３４．５６ ｃ♂
のブロックにプレス成型した。
，５モル％、Ｚｎ０３２モル％、ＦｅａＯ３４９，５モ
ル％を秤量配合し、混合して仮焼後に粉砕し、４８ｍｍ
Ｘ ６０ｍｍ Ｘ１２ｎｎｎ、容積３４．５６ ｃ♂
のブロックにプレス成型した。
この成形体１００個を、脱バインダー処理したのち、酸
素雰囲気で、１２００°Ｃ２２時間の焼結を行なった。
素雰囲気で、１２００°Ｃ２２時間の焼結を行なった。
得られた焼結体の４８ｍｍ Ｘ ６０ｍｍの２主表面を
片面当り０．４ｍｍ研削除去した。
片面当り０．４ｍｍ研削除去した。
ついで、研削後の焼結体を温度１２００℃、圧力１００
１００Ｏの条件で熱間静水圧プレス処理した。
１００Ｏの条件で熱間静水圧プレス処理した。
つぎに、焼結後に表面の研削除去しない焼結体を同じ条
件で熱間静水圧プレス処理した従来の製造方法によるソ
フトフェライトと、上記のこの発明方法で得られたソフ
トフェライトを、発生した割れ個数で評価試験した。そ
の結果を第２表に示す。
件で熱間静水圧プレス処理した従来の製造方法によるソ
フトフェライトと、上記のこの発明方法で得られたソフ
トフェライトを、発生した割れ個数で評価試験した。そ
の結果を第２表に示す。
［実施例３Ｊ
圧電磁器の配合原料として、Ｐｂ ＴＬ Ｏ８５３モル
％、ＰｂＺγ０３４７モル％を秤量配合し、混合成型し
Ｃ仮焼後に微粉砕し、６０ｍｍＸ ６０ｍｍＸ １２ｍ
ｍ、容積４３．２ａａのブロックにプレス成型した。
％、ＰｂＺγ０３４７モル％を秤量配合し、混合成型し
Ｃ仮焼後に微粉砕し、６０ｍｍＸ ６０ｍｍＸ １２ｍ
ｍ、容積４３．２ａａのブロックにプレス成型した。
この成形体１００個を、脱パイ〕／ダー処理したのち、
酸素雰囲気で、１２３０℃、２時間の焼結を行なった。
酸素雰囲気で、１２３０℃、２時間の焼結を行なった。
得られた焼結体の６０ｍｍ Ｘ ６０ｍｍの２主表面を
片面当り０．２ｍｍ研削除去した。
片面当り０．２ｍｍ研削除去した。
ついで、研削後の焼結体を温度１２００℃、圧力１００
０ｋｇ４の条件で熱間静水圧プレス処理した。
０ｋｇ４の条件で熱間静水圧プレス処理した。
つぎに、焼結後に表面の研削除去しない焼結体を同じ条
件で熱間静水圧プレス処理し゛た従来の製造方法による
圧電磁器と、上記のこの発明方法で得られた圧電磁器と
を、発生した割れ個数で評価試験した。その結果を第３
表に示す。
件で熱間静水圧プレス処理し゛た従来の製造方法による
圧電磁器と、上記のこの発明方法で得られた圧電磁器と
を、発生した割れ個数で評価試験した。その結果を第３
表に示す。
第１表〜第３表より明らかな如く、この発明により、熱
間静水圧プレス時の割れ発生を防止でき歩留向上、品質
向上に、その効果は極めて犬である。
間静水圧プレス時の割れ発生を防止でき歩留向上、品質
向上に、その効果は極めて犬である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 酸化物セラミックスからなる各−辺寸法１０ ｍｍ
以上で容積１５１以上の成形体を予備焼結し、この焼結
体の少なくとも対向する２主表面の表面層を１面当り０
．１ｍｍ以上研削除去したのち、熱間静水圧プレス処理
することを特徴とする酸化物セラミックスの製造方法。 ２ ワットフェライトからなる成形体の予備焼結後に行
なう表面層の研削除去を１面当り０．２ｍｍ以上とした
特許請求の範囲第１項記載の酸化物セラミックスの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57198392A JPS6055470B2 (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 酸化物セラミツクスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57198392A JPS6055470B2 (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 酸化物セラミツクスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5988376A true JPS5988376A (ja) | 1984-05-22 |
| JPS6055470B2 JPS6055470B2 (ja) | 1985-12-05 |
Family
ID=16390360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57198392A Expired JPS6055470B2 (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 酸化物セラミツクスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6055470B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02153867A (ja) * | 1988-12-03 | 1990-06-13 | Ngk Insulators Ltd | 均質焼結体の製造方法 |
-
1982
- 1982-11-11 JP JP57198392A patent/JPS6055470B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02153867A (ja) * | 1988-12-03 | 1990-06-13 | Ngk Insulators Ltd | 均質焼結体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6055470B2 (ja) | 1985-12-05 |
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