JPS599179A - 薄膜金属の表面処理方法 - Google Patents

薄膜金属の表面処理方法

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JPS599179A
JPS599179A JP57119456A JP11945682A JPS599179A JP S599179 A JPS599179 A JP S599179A JP 57119456 A JP57119456 A JP 57119456A JP 11945682 A JP11945682 A JP 11945682A JP S599179 A JPS599179 A JP S599179A
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JP
Japan
Prior art keywords
thin film
film metal
surface treatment
series
metal according
Prior art date
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Pending
Application number
JP57119456A
Other languages
English (en)
Inventor
Keiichi Yubagami
弓場上 恵一
Hiromu Matsuda
宏夢 松田
Yuji Takashima
祐二 高島
Osamu Hotta
収 堀田
Tomiji Hosaka
富治 保阪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS599179A publication Critical patent/JPS599179A/ja
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  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、薄膜金属の表面処理方法に関し、特に薄膜金
属の錆もしくは腐蝕等による拐質の変化を防ぐと共に、
薄膜金属表面の摩擦を小さくする処理方法を提供するも
のである。
薄膜金属とは、数10μIn以下のノ9みの金属層を持
つ月利であって、構成は該薄膜金属表面であっても1寸
だ基体」二に該薄膜金属が設けらノ1.ていてもよい。
」二連の薄膜金属は、例えば電極に用いらり、る他薄膜
金属がコノ・ルト、コノ・ルI・系合金等の磁七目2料
の場合は磁気記録H旧として有用である。
従来、これらの薄膜金属の表面の摩擦が大きく例えば磁
気記録H料として薄膜金属を用いると、消磁用、記録用
もしくは再生用のヘッドとの摩擦あるいは薄膜金属のガ
イド部分との摩擦等により薄膜金属の走行が悪く、均一
な磁気記録をし難い金属の金属層はきわめて薄いだめ、
錆が発生すると金属層全体を比較的腐食し易い。このだ
め薄膜金属を例えば電極材Flとして用いた場合1表面
抵抗や体桔抵抗の変化や薄膜金属と媒体との間の電気的
障壁が変化し、媒体への電荷の注入効率が変化する問題
があった。また例えば磁気記録相料として用いた場合、
錆の発生によシ磁気的特性を失うか著しく損う問題があ
った。
上記問題点を整理すると薄膜金属の金属層が露出してい
ることに起因する。そこで金属層の少なくとも表面を処
理することが考えられる。この処理する相別としては活
性剤が有望である。つまり親水基が金属面(金属層の表
面)に吸着し、親油基が金属面を覆うだめ、水もしくは
酸素と金属面とが接触し難くなり防錆および防食の効果
が生じる。また活性剤の親油基が滑剤となるだめ摩擦を
小さくすることができる。しかし、上述のような効果を
得るためには、活性剤を薄く、かつ、均一に吸着処理す
る必要がある。すなわち活性剤による処理層がJワいと
電極として特性が損われたシ磁気的な信号が弱くなる。
また薄くすると均一に付着し難く、活性剤がイ」着して
いない部分から錆が発生する問題点あ−だ。
本発明はかかる従来の問題点を克服することのできる薄
膜金属10表面処理力法を提供するものである。
本発明の薄膜金属の表面処理方法は、有機化合物からな
る活性剤を薄膜金属の表面に付着せしめ、次いで活性剤
が171着した薄膜金属の表面を研摩利で研摩すること
を特徴とする。
すなわち、本発明は活性剤が付着した金属面を研摩する
ことにより、均一にしかも極めて薄く活性剤が金属面に
付着することをつきとめたことにより外されたものであ
る、 この原因は明白で・はないものの5次の2つの点が考え
られる。
(1)過剰に付着した活性剤が、研摩すると研摩材でぬ
ぐいとられる。
(2)部分的に過剰に付着した活性剤が、研摩によりイ
で1着していない金属表面に171着する。
」二記2つの点により、活性剤が均一にしかも薄く付着
するものと考えられる。
次に本発明の処理方法について説明する。
まず薄膜金属に活性剤を付着する方法としては、使用す
る活性剤を適当な溶媒に溶解もしくは分散した活性剤液
を、エアーナイフ塗工もしくはり7C−ス塗工等の通常
の方法で薄膜金属に塗布して付着させる。次に研摩材で
適当な圧力、速度により薄膜金属に44着した活性剤を
研摩処理する。
ここで、本発明に用いられる材料について説明する。
まず、本発明の薄膜金属に供せられる材料としては鉄、
ニッケル、コノくルト、銅、クロム、またはこれらの合
金などが挙げられる、址だ活性剤としては炭素数6〜2
2の炭化水素化合物、弗化炭化水素化合物のカルボン酸
、スルホン酸およびそれらの塩、第四級アンモニウム系
もしくはベタイン系が供せられる。まだ弗化炭化水素化
合物を親油基とする活性剤は摩擦が小さく−その中でも
ノ4−フルオロ化合物が特に好ましい。また親油基の分
子長(親油基の炭素数)が異なる少なくとも2種以上の
活性剤を用いると9分子長の差によって薄膜金属の金属
面にミクロな凹凸が形成され、摩擦係数が低1;する、 研摩利としては、研摩により薄膜金属の金属表面に傷を
力えないイ」質であればよい。具体的には例えば、鏡面
仕上をした鋼、綿花等の植物性繊維。
絹や羊皮等の動物性繊組等が供される。
なお以上述べた例はごく一例であり1本発明に不必要な
限定を加えるものでないこと勿論である。
次に具体的に本発明の実施例について説明する、まず第
1表に示しだ薄膜金属に、エアーナイフ塗工法で、第2
表に示した活性剤液を塗工し、活性剤を金属面にイ”3
着させた。これらに第3表に示したような研摩拐で研摩
した。研摩方法はいずれも研摩利を固定し、薄膜金属を
走行させて行なった。また比較例として第4表に研摩し
ていない薄膜金属をあげだ一実施例巡1〜隔13および
比較例Nn 1〜%10を90℃90係RHに1週間放
置後、顕微鏡による目視で錆を、またひっかき試験機で
腐蝕を評価した。表中0印は錆もしくはひっかき傷がな
い場合、△印は部分的に錆もしくはひっかき傷がでる場
合、X印は全面に錆もしくはひっかき傷がでる場合を示
す。また動摩擦係数の測定は、直径6mmのステンレス
棒に各薄膜金属の金属面を接触して行なった。
1、第1表〕薄膜金属 り第2表〕話性剤液 〔第3表」実施例 1第4表1比較例 以」二で明らかなように、本発明の薄膜金属の表面処理
方法によれば、動摩擦係数の低下、防錆および防蝕に著
しい効果がある。
寸だ本発明の処理方法は、きわめて容易に入手できる研
摩利を用いるため、低コストで行うことができる。さら
に処理方法自体も簡便である。したが−で本発明は工業
的に非常に有用な処理方法を提供するものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)有機化合物からなる表面処理剤を薄膜金属の表面
    に付着せしめ、次いで上記処理剤がイ」着した薄膜金属
    の表面を研摩拐で研摩すると吉を特徴とする薄膜金属の
    表面処理方法。 か゛。 (2)N膜金属雪磁性相判から々ることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の薄膜金属の表面処理方法。 (3)磁性材料がコバルト系合金からなることを特徴と
    するIJf1訂請求の範囲第2項記載の薄膜金属の表面
    処理方法。 (4)コハルl−系合金カコバルト・ニッケル合金テあ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の薄膜金
    属の表面処理方法。 (6)表面処理剤が親油基の分子長が異なる少なくとも
    2種の有機化合物からなることを特徴とする特ii/r
    請求の範囲第1項記載の薄膜金属の表面処理方法。 (6)有機化合物が炭素数が6〜2^油基を有する炭化
    水素化合物または弗化炭化水素化合物であることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項または第6項記載の薄膜金
    属の表面処理方法。 (ア)弗化炭化水素化合物がパーフルオロ化合物である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の薄膜金属
    の表面処理方法、 (8)表面処理剤がカルボン酸系、カルボン酸金属塩系
    、スルホン酸系、スルホン酸金属塩系、第4級アンモニ
    ウムイオン系、燐酸系、燐酸エステル系、燐酸金属塩系
    、ベタイン系、スルホン酸アミド系、エーテル系、およ
    びアルコール系からなるグループのなかから選ばれた少
    なくとも1種の有機化合物からなることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の薄膜金属の表面処理方法。 (9)研摩材が繊維質体からなることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の薄膜金属の表面処理方法。 (+ 0)繊維質体が綿花であることを特徴とする特許
    請求の範囲第9項記載の薄膜金属の表面処理方法。
JP57119456A 1982-07-08 1982-07-08 薄膜金属の表面処理方法 Pending JPS599179A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02174850A (ja) * 1988-12-28 1990-07-06 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 放射線照射滅菌用ポリカーボネート医療用成形品
US10573837B2 (en) 2015-12-01 2020-02-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting element

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02174850A (ja) * 1988-12-28 1990-07-06 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 放射線照射滅菌用ポリカーボネート医療用成形品
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