JPS5995156U - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS5995156U JPS5995156U JP19009582U JP19009582U JPS5995156U JP S5995156 U JPS5995156 U JP S5995156U JP 19009582 U JP19009582 U JP 19009582U JP 19009582 U JP19009582 U JP 19009582U JP S5995156 U JPS5995156 U JP S5995156U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- degree
- exhaust
- pump
- deposition equipment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来およびこの考案の真空蒸着装置における真
空排気特性を示す真空度−排気時間図、第2図はこの考
案の実施例である真空蒸着装置の全体を示す図である。 1−真空槽、2−蒸発源、4−被蒸着物、パ6−クライ
オポンプ、9−(クライオポンプ6の)ポンプ本体、1
0−(クライオポンプ6の)誘導電動機、11−周波数
変換器、13−制御部、14−真空計。
空排気特性を示す真空度−排気時間図、第2図はこの考
案の実施例である真空蒸着装置の全体を示す図である。 1−真空槽、2−蒸発源、4−被蒸着物、パ6−クライ
オポンプ、9−(クライオポンプ6の)ポンプ本体、1
0−(クライオポンプ6の)誘導電動機、11−周波数
変換器、13−制御部、14−真空計。
Claims (3)
- (1)真空槽内を排気ポンプによって排気して高真空状
態にし、その状態で真空蒸着を行う真空蒸着装置におい
て、前記真空槽内の真空度を測定する真空計と、真空蒸
着時における所望の前記真空槽内の真空度をあらかじめ
設定する真空度設定手段と、真空蒸着時に測定した真空
度と設定した真空度とを比較する比較手段と、前記比較
手段の比較結果に基づき前記真空槽内の真空度が設定真
空度に一致するように前記排気ポンプの排気能力を制御
する排気能力制御手段と、□ を有して成る真
空蒸着装置。 - (2)前記排気ポンプがクライオポンプおよび誘導電動
機から構成されるとともに前記排気能力制御手段が前記
誘導電動機の回転数を制御する回転数制御装置からなる
実用新案登録請求の範囲第1項記載の真空蒸着装置。 - (3)前記排気ポンプが拡散ポンプから構成されるとと
もに前記排気能力制御手段が前記拡散ポンプのヒータに
供給する電流を制御するヒータ供給電流制御装置からな
る実用新案登録請求の範囲第1項記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19009582U JPS5995156U (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19009582U JPS5995156U (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5995156U true JPS5995156U (ja) | 1984-06-28 |
Family
ID=30409674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19009582U Pending JPS5995156U (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5995156U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63248465A (ja) * | 1987-04-02 | 1988-10-14 | Toshiba Corp | 低圧プラズマ溶射用容器 |
-
1982
- 1982-12-16 JP JP19009582U patent/JPS5995156U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63248465A (ja) * | 1987-04-02 | 1988-10-14 | Toshiba Corp | 低圧プラズマ溶射用容器 |
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