JPS5995234A - ヒドロホルミル化方法 - Google Patents
ヒドロホルミル化方法Info
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- JPS5995234A JPS5995234A JP57205622A JP20562282A JPS5995234A JP S5995234 A JPS5995234 A JP S5995234A JP 57205622 A JP57205622 A JP 57205622A JP 20562282 A JP20562282 A JP 20562282A JP S5995234 A JPS5995234 A JP S5995234A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はヒドロホルミル化方法に係るものである。特に
反応に使用する触媒の調製方法に関するものである。
反応に使用する触媒の調製方法に関するものである。
オレフィン性化合物を触媒の存在下水性ガスと反応させ
て、オし・フィン性化合物をヒドロホルミル化1−る方
法は、所謂オキノ反応法としてよく知られている。触媒
としてはコバルトカルボニル、口・ジウムカルボニル、
あるいはこれらのホスフィン錯体等が主として使用され
ている。
て、オし・フィン性化合物をヒドロホルミル化1−る方
法は、所謂オキノ反応法としてよく知られている。触媒
としてはコバルトカルボニル、口・ジウムカルボニル、
あるいはこれらのホスフィン錯体等が主として使用され
ている。
なかでも、ロジウムカルボニルを触媒として用いる場合
は、高い活性とアルデヒドに対する高い選択性が得られ
る。しかしロジウムカルボニルは不安定である為、工業
的には安定なロジウム化合物をヒドロホルミル化反応帯
域に供給し、反応条件下でロジウム化合物を還元カルボ
ニル化して触媒として使用されているが、この際、ロジ
ウムカルボニルに十分転化せず7部がロジウム金属化す
るため、触媒活性が十分に発現されず、またロジウムの
回収率を低下させる等の問題があった。
は、高い活性とアルデヒドに対する高い選択性が得られ
る。しかしロジウムカルボニルは不安定である為、工業
的には安定なロジウム化合物をヒドロホルミル化反応帯
域に供給し、反応条件下でロジウム化合物を還元カルボ
ニル化して触媒として使用されているが、この際、ロジ
ウムカルボニルに十分転化せず7部がロジウム金属化す
るため、触媒活性が十分に発現されず、またロジウムの
回収率を低下させる等の問題があった。
本発明者らは、種々研究した結果、空気中で安定で取扱
い容易え一般式[Rh(RCOO)(COD)]、。
い容易え一般式[Rh(RCOO)(COD)]、。
で示されろロジウム化合物とあらかじめ一酸化炭素で処
理したのち触媒として反応に供することにより、活性、
安定性の高い触媒を得ろことに成功した。
理したのち触媒として反応に供することにより、活性、
安定性の高い触媒を得ろことに成功した。
すなわち不発明は予じめ一酸化炭素又は−酸化炭素含有
ガスで処理した[Rh(RCOO)(COD)]2(但
しRは・・ロゲンで置換されていてもよいアルキル基又
はアリール基を示し、CODはi、s −ンクロオクタ
ジエンを意味ずろ。)を触媒としてオレフィン性化合物
、−酸化炭素および水素を反応させろことを特徴とする
ヒ[・ロホルミル化方法に存する。
ガスで処理した[Rh(RCOO)(COD)]2(但
しRは・・ロゲンで置換されていてもよいアルキル基又
はアリール基を示し、CODはi、s −ンクロオクタ
ジエンを意味ずろ。)を触媒としてオレフィン性化合物
、−酸化炭素および水素を反応させろことを特徴とする
ヒ[・ロホルミル化方法に存する。
本発明の詳細な説明するに、本発明に於て触媒原料とし
て用いられる[(h(RCOO)(COD)]2で示さ
れろロジウム化合物としては、例えば(−Rh、(CH
lCoo)(COD)〕2、〔Rh(C2H5COO)
(COD)〕2(Rh、(C6H5C00)(COD)
’32(Rh(CF3COO)(COD)〕2[Rh(
C,、F5Coo)(COD) ]2、[Rh(C2H
5COO)(COD) ’:12等、Rが・・ロケンで
置換されていてもよい炭素数ノータのアルキル基、また
はフェニル基等のアリール基の化合物が挙げられろ。特
に丘がメチル基の化合物が好ましい。
て用いられる[(h(RCOO)(COD)]2で示さ
れろロジウム化合物としては、例えば(−Rh、(CH
lCoo)(COD)〕2、〔Rh(C2H5COO)
(COD)〕2(Rh、(C6H5C00)(COD)
’32(Rh(CF3COO)(COD)〕2[Rh(
C,、F5Coo)(COD) ]2、[Rh(C2H
5COO)(COD) ’:12等、Rが・・ロケンで
置換されていてもよい炭素数ノータのアルキル基、また
はフェニル基等のアリール基の化合物が挙げられろ。特
に丘がメチル基の化合物が好ましい。
上述のロジウム化合物を一酸化炭素又は−酸化炭素含有
ガスで処理するには、通常、ヒドロホルミル化反応の反
応溶媒にロジウム化合物を溶解ないし懸濁し、これに−
酸化炭素又は−酸化炭素含有カスを吹き込む方法が採ら
れろ。
ガスで処理するには、通常、ヒドロホルミル化反応の反
応溶媒にロジウム化合物を溶解ないし懸濁し、これに−
酸化炭素又は−酸化炭素含有カスを吹き込む方法が採ら
れろ。
処理条件は通猟、−酸化炭素分圧l−。2.oOk扱れ
好ましくは1〜/ Okri 、温度は70〜.200
℃、好ましくは、2.0〜lオo℃、処理時間7〜ノ0
0分、好ましくはノ〜SO分の範囲から選ばれろ。
好ましくは1〜/ Okri 、温度は70〜.200
℃、好ましくは、2.0〜lオo℃、処理時間7〜ノ0
0分、好ましくはノ〜SO分の範囲から選ばれろ。
一酸化炭素は窒素等反応に不活性なガスで希釈されてい
てもよい。また水性ガスを使用することもできる。水性
ガスはヒドロホルミル化反応の反応原料の1つであるか
ら、水性ガスを用いて処理できろことは極めて好都合で
ある。しかして水性ガスによる処理は後述するヒドロホ
ルミル化反応の条件に比し低温、低圧?選択することが
経済性及びロジウムの安定性の点から好ましい。水素と
一酸化炭素の比はヒドロホルミル化反応に用いるものと
同じでよ<H2/C〇−//、2〜3−/lが好ましい
。
てもよい。また水性ガスを使用することもできる。水性
ガスはヒドロホルミル化反応の反応原料の1つであるか
ら、水性ガスを用いて処理できろことは極めて好都合で
ある。しかして水性ガスによる処理は後述するヒドロホ
ルミル化反応の条件に比し低温、低圧?選択することが
経済性及びロジウムの安定性の点から好ましい。水素と
一酸化炭素の比はヒドロホルミル化反応に用いるものと
同じでよ<H2/C〇−//、2〜3−/lが好ましい
。
本発明方法によれば、−酸化炭素又は−酸化炭素含有ガ
スの処理により下式の反応が生起して、触媒として安定
で活性の高いロンラム錯体が得られろものと推定されろ
。
スの処理により下式の反応が生起して、触媒として安定
で活性の高いロンラム錯体が得られろものと推定されろ
。
[Rh(RCoo)(COD)]2+、2CO→[Rh
(RCOQ)(Co)2]2また、−酸化炭素処理はヒ
ドロホルミル化反応の原料であるオし・フィン性化合物
の存在下に実施ずろこともでき、所望ならばこのオレフ
ィン性化合物を溶媒として、これに[Rh (RCOO
)(COD)]2を溶解ないし懸濁させて処理に供する
こともできろ。
(RCOQ)(Co)2]2また、−酸化炭素処理はヒ
ドロホルミル化反応の原料であるオし・フィン性化合物
の存在下に実施ずろこともでき、所望ならばこのオレフ
ィン性化合物を溶媒として、これに[Rh (RCOO
)(COD)]2を溶解ないし懸濁させて処理に供する
こともできろ。
一酸化炭素又は−酸化炭素含有ガス処理の装置としては
攪拌槽や気?包塔な用いろことができろか、簡便にはロ
ジウム化合物を含む溶液’f −酸化炭素と共に気液混
合状態でパイプ中を流通させる方式が採用さhろ。
攪拌槽や気?包塔な用いろことができろか、簡便にはロ
ジウム化合物を含む溶液’f −酸化炭素と共に気液混
合状態でパイプ中を流通させる方式が採用さhろ。
本発明によるヒドロポルミル化反応は、上述の処理によ
り調製した触媒2用いろ以外は、常法に従って実施され
ろ。反応原料のオレフィン性化合物としては、エチし・
ン、ゾロピし・ン、ブテン−/、ペンテ/−/、ヘキセ
ン−7、オクテン−7;テセンー/等の直鎖α−オし・
フィン類の外に、ブテン−!、ペンテン−認、ヘキセン
−1、ヘキセン−3、オクテンーノ、オクテン−3等の
直鎖内部オレフィン類、イノブチレン1.2−メチルブ
テン−/、!−メチルペンテンー/、3−メチルペンテ
ンーノ、!−メチルへキセンー/、3−メチルへキセノ
−7、ノーメチルへフチノー/、3−メチルへブテン−
7、≠−メチルへプデンー1等の分岐α−オレフィン類
、ノ、3−ンメチルブテン−/、!、3−ジメチルペン
テンーノ1.!、4L−ジメチルペンテン−/、λ、3
−ジメチルヘキセンー/、l、t−ジメチルヘキセン−
1,,2,、!;−)lチルヘキセンーノ、3,4L−
ジメチルヘキセン−/等の多分岐αオし・フィン類やこ
れらの二重結合異性体があげもね、ろ。また、プロピし
・ン、ブテン、イノブチし一ン等の二〜四団体のような
異性体混合物、さらに(・土アリルアルコール、アクロ
し・インアセタール、ビニルアセテート、ブチし一ン、
アルキルヒニルエーテル等の置換基乞イイするオし一フ
ィン等も用いろことができろ。特に本発明は、プロピし
・ン、ブテン、イノブチし・ン等の二〜四m体の異4g
ニ体混合物のような分岐を有する内部オレノィンないし
これらを主体と1−る混合物を原料とずろ場合でも反応
がすみやかに進行するのでこれら内部オし・フィンない
しはその混合物のヒドロホルミル化に好適である。
り調製した触媒2用いろ以外は、常法に従って実施され
ろ。反応原料のオレフィン性化合物としては、エチし・
ン、ゾロピし・ン、ブテン−/、ペンテ/−/、ヘキセ
ン−7、オクテン−7;テセンー/等の直鎖α−オし・
フィン類の外に、ブテン−!、ペンテン−認、ヘキセン
−1、ヘキセン−3、オクテンーノ、オクテン−3等の
直鎖内部オレフィン類、イノブチレン1.2−メチルブ
テン−/、!−メチルペンテンー/、3−メチルペンテ
ンーノ、!−メチルへキセンー/、3−メチルへキセノ
−7、ノーメチルへフチノー/、3−メチルへブテン−
7、≠−メチルへプデンー1等の分岐α−オレフィン類
、ノ、3−ンメチルブテン−/、!、3−ジメチルペン
テンーノ1.!、4L−ジメチルペンテン−/、λ、3
−ジメチルヘキセンー/、l、t−ジメチルヘキセン−
1,,2,、!;−)lチルヘキセンーノ、3,4L−
ジメチルヘキセン−/等の多分岐αオし・フィン類やこ
れらの二重結合異性体があげもね、ろ。また、プロピし
・ン、ブテン、イノブチし一ン等の二〜四団体のような
異性体混合物、さらに(・土アリルアルコール、アクロ
し・インアセタール、ビニルアセテート、ブチし一ン、
アルキルヒニルエーテル等の置換基乞イイするオし一フ
ィン等も用いろことができろ。特に本発明は、プロピし
・ン、ブテン、イノブチし・ン等の二〜四m体の異4g
ニ体混合物のような分岐を有する内部オレノィンないし
これらを主体と1−る混合物を原料とずろ場合でも反応
がすみやかに進行するのでこれら内部オし・フィンない
しはその混合物のヒドロホルミル化に好適である。
ヒドロポルミル化反応は通常、溶媒の存在下に行なわれ
るが、溶媒の使用は不可欠ではない。
るが、溶媒の使用は不可欠ではない。
溶媒としては、触媒を溶解し、かつ反応に悪影響ヲJj
えないものであれば、任意のものを用いろことかてぎろ
。例えばベンゼン、トルエン、ギンレン、l・テンルベ
ンゼン等の芳香族炭化水素、ンク1」ヘキサノ等の脂環
式炭化水素、ジブチルエーテル、エチレンクリコールジ
メチルエーテル、ジエチレンクリコールンエチルエーテ
ル、トリエチし・ンクリコールジメチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類、ジエチルフタし一一ト
、ジオクチルフタし一一ト等のエステル類などが用いら
れろ。また、ヒドロホルミル化反応により生成したアル
デヒドやアルコール、さらには副生ずる高沸点物等を溶
媒とすることもできる。
えないものであれば、任意のものを用いろことかてぎろ
。例えばベンゼン、トルエン、ギンレン、l・テンルベ
ンゼン等の芳香族炭化水素、ンク1」ヘキサノ等の脂環
式炭化水素、ジブチルエーテル、エチレンクリコールジ
メチルエーテル、ジエチレンクリコールンエチルエーテ
ル、トリエチし・ンクリコールジメチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類、ジエチルフタし一一ト
、ジオクチルフタし一一ト等のエステル類などが用いら
れろ。また、ヒドロホルミル化反応により生成したアル
デヒドやアルコール、さらには副生ずる高沸点物等を溶
媒とすることもできる。
反応温度は高い方が反応速度の点では有利であるが、高
温に過ぎろと触媒が分解ずろ恐れがある。従って通常は
50〜170℃、特に100〜/jO℃で反応を行なう
のが好ましい。
温に過ぎろと触媒が分解ずろ恐れがある。従って通常は
50〜170℃、特に100〜/jO℃で反応を行なう
のが好ましい。
水性ガスとしては、水素と一酸化炭素のモル比率が//
3−夕//、特に//!〜!//のものが好ましい。水
性ガスの分圧としては、20に−〜300 kg/Cr
?Lの範囲が用いられろが、好ましくは!; OkVC
I?L〜3001沙dの範囲で・ある。
3−夕//、特に//!〜!//のものが好ましい。水
性ガスの分圧としては、20に−〜300 kg/Cr
?Lの範囲が用いられろが、好ましくは!; OkVC
I?L〜3001沙dの範囲で・ある。
反応は連続方式および回分方式のいずれでも行なうこと
ができろ。
ができろ。
す、1;に実施例により本発明をさらに具体的に説明1
″ろが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例(で限定されるものではない。
″ろが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例(で限定されるものではない。
実施例/
内容積、200m1(1)SUS−3il製上下攪拌式
オートりし一−ブに、イノオクテン(n−オクテン、3
−メチルヘプテン、3,4t−ジメチルヘキセンの二重
結合異性体混合物) !; Omeおよび[Rh(、C
H2O00) (C0D) ]]20m−キシレフ溶液
Oジウムとしてy t) Om9/l含有)!mlを装
入した。
オートりし一−ブに、イノオクテン(n−オクテン、3
−メチルヘプテン、3,4t−ジメチルヘキセンの二重
結合異性体混合物) !; Omeおよび[Rh(、C
H2O00) (C0D) ]]20m−キシレフ溶液
Oジウムとしてy t) Om9/l含有)!mlを装
入した。
オー(・りし・−ブを密封し、室温で常圧の窒素ガスを
流して空気乞置換し、更に、2.0 k%ffl Gま
で一酸化炭素ガスを圧入した後常圧に排気する操作を3
1DIくり返し、この−酸化炭素雰囲気のまま30分′
jK:要して/30’Qまで昇温した。
流して空気乞置換し、更に、2.0 k%ffl Gま
で一酸化炭素ガスを圧入した後常圧に排気する操作を3
1DIくり返し、この−酸化炭素雰囲気のまま30分′
jK:要して/30’Qまで昇温した。
/30℃到達後−直ちに全圧が、200 k%に7((
)となイ)様に水性ガス(H2/CO−’)を圧入し、
ヒドロポルミル化反応を開始し、130℃で≠11!j
間反応させた。この間、反応により消費されグこ水・1
′IXガスは定圧装置を経て蓄圧器から補給し、オート
クし・−ブ乞、200 ]()2fflGに保った。こ
の間のガス吸収の比反応速度は後記比較例1の反応速度
をiooとした場合/37であった。
)となイ)様に水性ガス(H2/CO−’)を圧入し、
ヒドロポルミル化反応を開始し、130℃で≠11!j
間反応させた。この間、反応により消費されグこ水・1
′IXガスは定圧装置を経て蓄圧器から補給し、オート
クし・−ブ乞、200 ]()2fflGに保った。こ
の間のガス吸収の比反応速度は後記比較例1の反応速度
をiooとした場合/37であった。
なお、反応速度はT式に従って算出した。
a゛オし・フィン初濃度
X 転化オし・フィン濃度
k 速度定数
比較例/
実施例/に於て、オー1・りし・−ブに一酸化炭素ガス
?圧入する代りに窒素ガスを圧入し次いで常圧に排気す
る操作な3回(り返した後/30℃に昇温し、実施例1
と同様にヒドロホルミル化反応を行なった、 実施例)と同様に算出した比反応速度はノ00であった
。
?圧入する代りに窒素ガスを圧入し次いで常圧に排気す
る操作な3回(り返した後/30℃に昇温し、実施例1
と同様にヒドロホルミル化反応を行なった、 実施例)と同様に算出した比反応速度はノ00であった
。
実施例λ
実施例1と同様にして、但しメートクレープに一酸化炭
素ガスを圧入する代りに水性ガス(H2/C○=/ ノ
)を、20 ’klffl ()となる様に圧入し次い
て常圧に排気する操作を3回くり返した後、実施例/と
同様にしてヒドロホルミル化反応を行なった。
素ガスを圧入する代りに水性ガス(H2/C○=/ ノ
)を、20 ’klffl ()となる様に圧入し次い
て常圧に排気する操作を3回くり返した後、実施例/と
同様にしてヒドロホルミル化反応を行なった。
実施例1と同様に算出した比反応速度は/II/であっ
た。
た。
出願人 三菱化成工業株式会社
代理人 弁理士 長谷用 −
ほか7名
212−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (]) 予じめ一酸化炭素又は−酸化炭素含有ガスで
処FI L fC(Rh(RCOす(COD)12 (
但L Rハハt=+ゲンで゛置換されていてもよいアル
キル基又はアリール基を示し、CODは/、!−シクロ
オクタンエンを意味ずろ)を触媒として、オレフィン性
化合物、−酸化炭素および水素を反応させることを特徴
とするヒドロポルミル化方法 (2) オし・フィン性化合物が分岐を有する内部オ
し・フィンないしはこれを主体とする混合物であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のヒドロポルミ
ル化方法 (3) −酸化炭素含有ガスが水性ガスであることを
特徴とする特許請求の範囲第7項または第二項記載のと
ドロホルミル化方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57205622A JPS5995234A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | ヒドロホルミル化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57205622A JPS5995234A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | ヒドロホルミル化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5995234A true JPS5995234A (ja) | 1984-06-01 |
| JPH0363539B2 JPH0363539B2 (ja) | 1991-10-01 |
Family
ID=16509927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57205622A Granted JPS5995234A (ja) | 1982-11-24 | 1982-11-24 | ヒドロホルミル化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5995234A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07297707A (ja) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Nec Corp | 位相同期発振回路 |
| JP2008515843A (ja) * | 2004-10-11 | 2008-05-15 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 光学活性カルボニル化合物の製造方法 |
| JP2014501709A (ja) * | 2010-11-08 | 2014-01-23 | エボニック オクセノ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 不飽和化合物をヒドロホルミル化する方法 |
-
1982
- 1982-11-24 JP JP57205622A patent/JPS5995234A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07297707A (ja) * | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Nec Corp | 位相同期発振回路 |
| JP2008515843A (ja) * | 2004-10-11 | 2008-05-15 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 光学活性カルボニル化合物の製造方法 |
| JP2014501709A (ja) * | 2010-11-08 | 2014-01-23 | エボニック オクセノ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 不飽和化合物をヒドロホルミル化する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0363539B2 (ja) | 1991-10-01 |
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