JPS5997458U - イオン電子線照射装置 - Google Patents

イオン電子線照射装置

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JPS5997458U
JPS5997458U JP19135182U JP19135182U JPS5997458U JP S5997458 U JPS5997458 U JP S5997458U JP 19135182 U JP19135182 U JP 19135182U JP 19135182 U JP19135182 U JP 19135182U JP S5997458 U JPS5997458 U JP S5997458U
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electron beam
ion
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ion electron
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最上　明矩
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Jeol Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図イおよび口は従来のイオン電子線照射装置のイオ
ンビーム照射系と電子線照射系との配置を、示す２つの
異なる配置例、第２図はシャドウ効果を説明する図、第
３図は本考案によるイオン電子線照射装置の一実施例の
概略構成図、第４図イーおよび口は本考案によるイオン
電子線照射装置のイオンビームの異なる集束態様を示す
図、第５図は本考案によるイオン電子線照射装置の他の
実施、例の概略構成図である。　　゛、。 １・・・イオンビーム照射系、２・・・電子線照射系、
３・・・アナライザ、５・・・電子銃、６・・・集束し
゛ンズ、７・・・対物レンズ絞り、８・・・走査コイル
、９・・・対物レンズ、１０・・・イオン照射系、１０
ａ・・・フィラメント、１０ｂ・・・アノード、１０Ｃ
・・・遮蔽箱、１０ｄ・・・電極、１０・ｅ・・・フォ
ーカス電極、１１・・・イオン銃、１２・・・偏向器。 第３図 第４図

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 試料表面に電子線を照射する電子線照射源と、゛前記電
    子線照射源からの電子線の照射軸の少なくとも一部と同
    軸で前記試料ｉこイオンビームを照射するイオンビーム
    照射源とを備えたことを特徴とするイオン電子線照射装
    置。
JP19135182U 1982-12-20 1982-12-20 イオン電子線照射装置 Granted JPS5997458U (ja)

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JPS5997458U true JPS5997458U (ja) 1984-07-02
JPH0429439Y2 JPH0429439Y2 (ja) 1992-07-16

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS515315A (en) * 1974-07-04 1976-01-17 Hiroshi Arima Rensetsutairuno seizohoho
JPS52104290A (en) * 1976-02-27 1977-09-01 Shimadzu Corp Composite analysis unit
JPS54117059U (ja) * 1978-02-03 1979-08-16

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS515315A (en) * 1974-07-04 1976-01-17 Hiroshi Arima Rensetsutairuno seizohoho
JPS52104290A (en) * 1976-02-27 1977-09-01 Shimadzu Corp Composite analysis unit
JPS54117059U (ja) * 1978-02-03 1979-08-16

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