JPS599884B2 - 可変ピツチ光学格子 - Google Patents
可変ピツチ光学格子Info
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- JPS599884B2 JPS599884B2 JP49137670A JP13767074A JPS599884B2 JP S599884 B2 JPS599884 B2 JP S599884B2 JP 49137670 A JP49137670 A JP 49137670A JP 13767074 A JP13767074 A JP 13767074A JP S599884 B2 JPS599884 B2 JP S599884B2
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- Japan
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- optical grating
- pitch
- grating
- variable pitch
- variable
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/002—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements the movement or the deformation controlling the frequency of light, e.g. by Doppler effect
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1828—Diffraction gratings having means for producing variable diffraction
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/292—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection by controlled diffraction or phased-array beam steering
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は可変ピッチ光学格子に関するものである。
ピエゾ電気効果を生ずることができる基体によつて光学
格子を支持することは既知である。
格子を支持することは既知である。
変調器を構成する装置において、光学格子と、ピエゾ電
気素子とを関連させ、格子を割切七た鏡面上にピエゾ電
気結晶を設け、格子割切面に対し互に直交する格子の他
の二面に取付けた２個の電極によつてピエゾ電気結晶を
励振せしめることも既知である。この種既知の装置によ
れば光学格子の特性定数を平均値を中心として振動させ
、光学格子によつて回折せしめた光束を、光学格子の格
子の格子線間の中間変調によつて対応して変調せしめる
ことができる。この種既知の装置のピエゾ１気結晶を励
振するには、１００ＯＯＶ程度の極めて高い電圧を供給
する必要がある。
気素子とを関連させ、格子を割切七た鏡面上にピエゾ電
気結晶を設け、格子割切面に対し互に直交する格子の他
の二面に取付けた２個の電極によつてピエゾ電気結晶を
励振せしめることも既知である。この種既知の装置によ
れば光学格子の特性定数を平均値を中心として振動させ
、光学格子によつて回折せしめた光束を、光学格子の格
子の格子線間の中間変調によつて対応して変調せしめる
ことができる。この種既知の装置のピエゾ１気結晶を励
振するには、１００ＯＯＶ程度の極めて高い電圧を供給
する必要がある。
斯る既知の装置は、特殊用途に用いる変調器としては好
適であるが、互に甚だしく異なる応用分野において、光
学格子のピッチを変化せしめる為の工業用装置としては
不適当である。
適であるが、互に甚だしく異なる応用分野において、光
学格子のピッチを変化せしめる為の工業用装置としては
不適当である。
その理由は一般に所要電圧を自由に入手できない為であ
る。本発明の目的は、ピエゾ電気効果を生ずることがで
きる基体によつて支持した光学格子であつて、そのピッ
チを３００Ｖ程度の電圧によつて変化せしめ得る様に構
成配置した上述した種類の可変ピッチ光学格子を提供せ
んとするにある。本発明は斯る目的を達成する為、光学
格子を励振するアーマチュアの一方を支持する基体の両
面の一方によつて光学格子を支持することを特徴とする
。
る。本発明の目的は、ピエゾ電気効果を生ずることがで
きる基体によつて支持した光学格子であつて、そのピッ
チを３００Ｖ程度の電圧によつて変化せしめ得る様に構
成配置した上述した種類の可変ピッチ光学格子を提供せ
んとするにある。本発明は斯る目的を達成する為、光学
格子を励振するアーマチュアの一方を支持する基体の両
面の一方によつて光学格子を支持することを特徴とする
。
即ち、本発明光学格子は、ピエゾ電側効果を生ずる１枚
の薄板で構成された基体を有する可変ピッチ光学格子で
あつて、該基体の対向両面には導電性アーマチュアを設
け、両アーマチャ間に可変電圧を供給することによつて
可変強さを有する電界を発生させ、該電界は、ピエゾ電
気効果によつて光学格子のピッチを対応して変化せしめ
るものにおいて、光学格子を基体の前記両面の一方によ
つて支持することを特徴とする。
の薄板で構成された基体を有する可変ピッチ光学格子で
あつて、該基体の対向両面には導電性アーマチュアを設
け、両アーマチャ間に可変電圧を供給することによつて
可変強さを有する電界を発生させ、該電界は、ピエゾ電
気効果によつて光学格子のピッチを対応して変化せしめ
るものにおいて、光学格子を基体の前記両面の一方によ
つて支持することを特徴とする。
光学格子は、基体の一方の面を直接割切して得ることが
できるが、基体の一方の面上に被着した層に形成するの
が好適である。
できるが、基体の一方の面上に被着した層に形成するの
が好適である。
この層は、アルミニウム層その他の金属層とし、これで
両アーマチユアの一方を構成し、これに刻切して光学格
子を構成することができる。
両アーマチユアの一方を構成し、これに刻切して光学格
子を構成することができる。
或は又光重合性樹脂その他の感光材料を利用し、これに
既知のホログラフイ一方法によつて光学格子を形成する
こともできる。
既知のホログラフイ一方法によつて光学格子を形成する
こともできる。
この光学格子は複製することができる。
基体の光学格子支持面と同一面によつて支持するアーマ
チユアは、光学格子夫自体とするか或は又金属層とする
ことができる。
チユアは、光学格子夫自体とするか或は又金属層とする
ことができる。
本発明は、光学格子のピツチを変える必要ある例えばデ
フレクタ、カプラー、変調器、分析器として利用するこ
とができる。
フレクタ、カプラー、変調器、分析器として利用するこ
とができる。
図面について本発明を説明する。
第１図に示す例においては基体を、ピエゾ電気効果を生
ずる薄円板１を以て構成し、その下面１ａに導電層２を
被着し、上面１ｂには反射導電金属層３を被着し、この
反射導電金属層３に機械的処理を施し、その表面に光学
格子４を形成する。
ずる薄円板１を以て構成し、その下面１ａに導電層２を
被着し、上面１ｂには反射導電金属層３を被着し、この
反射導電金属層３に機械的処理を施し、その表面に光学
格子４を形成する。
第２図に示す他の例においては、基体１の土面１ｂに、
光重合性樹脂層５を被着する。光重合性樹脂層５には予
めホログラフィ一１処理を施こしておいて、その表面に
光学格子６を構成しておく。 ５この光学格子６の表面
には、反射導電金属層７を被着する。いずれの例におい
ても、両導電層によつて構成される両アーマチユア間に
例えば３００程度の可変電圧を供給すれば、光学格子の
ピツチを変え ５ることができる。
光重合性樹脂層５を被着する。光重合性樹脂層５には予
めホログラフィ一１処理を施こしておいて、その表面に
光学格子６を構成しておく。 ５この光学格子６の表面
には、反射導電金属層７を被着する。いずれの例におい
ても、両導電層によつて構成される両アーマチユア間に
例えば３００程度の可変電圧を供給すれば、光学格子の
ピツチを変え ５ることができる。
結晶基体の励振は、適当な既知の手段、例えばピエゾ電
気結晶による超音波発生装置によつて達成することがで
きる。第１及び２図で示す例においては、結晶励振装置
をプロツク８で示す電力発生源と、導線９，１０とで線
図的 ３に示した。第３図は、第１図に示す光学格子に
よつて高周波光束を連続的又は不連続的に偏向し、例え
ば極めて僅かの電力にて、レーザ光の波長を変化せしめ
る場合を示す。
気結晶による超音波発生装置によつて達成することがで
きる。第１及び２図で示す例においては、結晶励振装置
をプロツク８で示す電力発生源と、導線９，１０とで線
図的 ３に示した。第３図は、第１図に示す光学格子に
よつて高周波光束を連続的又は不連続的に偏向し、例え
ば極めて僅かの電力にて、レーザ光の波長を変化せしめ
る場合を示す。
４レーザ光１２
が光学格子１１上に７００−９００、特に約９０２の入
射角αで入射し、回折光Ｂ光学格子面に対する垂線Ｎと
角度α５をなし、下式が成立する。ここにａは光学格子
のピツチλは波長、 数である。
が光学格子１１上に７００−９００、特に約９０２の入
射角αで入射し、回折光Ｂ光学格子面に対する垂線Ｎと
角度α５をなし、下式が成立する。ここにａは光学格子
のピツチλは波長、 数である。
ピエゾ電気効果による相対ピツチ変化・
下式で示す回折率の偏向に相当する
Ｋは定
σａ
は、
ａ
この相対ピッチ変化＆ζ ピエゾ電気効果の質にのみ依
存する特性であつて、偏向はなる項が大きい程大きくな
る。
存する特性であつて、偏向はなる項が大きい程大きくな
る。
これが為α５は９００に近付く。実際上、最大偏向を得
る為には、９００近くの角度をなす射出光を利用するの
が好適である。
る為には、９００近くの角度をなす射出光を利用するの
が好適である。
第４−６図は、一次波長の６３２８λに作用する光学格
子のピッチａの変化の関数として変化する偏向角ｄの変
化を例示する３曲線を示し、第４図は入射角αが１５例
の場合、第５図は入射角が８２．５角の場合、第６図は
入射角が９００の場合を示す。光学格子のピツチは、ピ
エゾ電気基体を設置した電界の強さの変化によつて変化
し、セラミツクの雑音発生を防止する為、ピツチαの変
化を第４−６図に示す２本の点線間の範囲Ａ−Ａ′１ｆ
Ｃ限定する。光学格子の寸法は適宜にきめることができ
る。
子のピッチａの変化の関数として変化する偏向角ｄの変
化を例示する３曲線を示し、第４図は入射角αが１５例
の場合、第５図は入射角が８２．５角の場合、第６図は
入射角が９００の場合を示す。光学格子のピツチは、ピ
エゾ電気基体を設置した電界の強さの変化によつて変化
し、セラミツクの雑音発生を防止する為、ピツチαの変
化を第４−６図に示す２本の点線間の範囲Ａ−Ａ′１ｆ
Ｃ限定する。光学格子の寸法は適宜にきめることができ
る。
第１図に示す例では、薄円板をＰＴＺ５Ｈ製とし、その
厚さを１１１、直径を２５ｍ１とした。光学格子はその
ピツチを６００ｔ／ｌ！露とし、５次波長で作用させた
。上述した本発明の実施態様は次Ｑ通り要約することが
できる。
厚さを１１１、直径を２５ｍ１とした。光学格子はその
ピツチを６００ｔ／ｌ！露とし、５次波長で作用させた
。上述した本発明の実施態様は次Ｑ通り要約することが
できる。
（１）特許請求の範囲の項記載の光学格子４：６を、前
記基体の両面１ａ：１ｂの一方１ｂによつて支持した層
３：５に形成する。
記基体の両面１ａ：１ｂの一方１ｂによつて支持した層
３：５に形成する。
（２）前記第１項記載の層３を金属層とし、これで前記
アーマチユアの一方を構成し、該金属層を刻切して光学
格子４を構成する。
アーマチユアの一方を構成し、該金属層を刻切して光学
格子４を構成する。
（３）前記第１項記載の層５を光重合性樹脂層とする。
（４）前記第１項記載の光学格子４に金属層を被着し、
該金属層で前記両アーマチユアの一方を構成する。
該金属層で前記両アーマチユアの一方を構成する。
（５）特許請求の範囲の項記載の光学格子において、ア
ーマチユア２を、基体１の光学格子支持面１ｂと対向す
る面１ａ上に被着した金属層によつて構成する。
ーマチユア２を、基体１の光学格子支持面１ｂと対向す
る面１ａ上に被着した金属層によつて構成する。
（６）特許請求の範囲の項並゛に前記第１−５項記載の
光学格子の前記両アーマチユアを、導線を経て電力発生
源に接続する。
光学格子の前記両アーマチユアを、導線を経て電力発生
源に接続する。
第１図は本発明光学格子の１例を示す線図的断，面図、
第２図は同じくその他の例を示す線図的断面図、第３図
は本発明光学格子を利用したデフレクタを示す線図的断
面図、第４−６図は第３図に示すデフレクタによつて変
化せしめた光学格子ピッチの変化の関数として変化する
偏向角を示す曲線図で、第４図は入射角が７５るの場合
、第５図は入射角が８２．５射の場合、第６図は入射角
が９００の場合である。 １・・・・・・薄円板、１ａ・・・・・・下面、１ｂ・
・・・・・上面、２・・・・・・導電層、３・・・・・
・反射導電金属層、４・・・・・・光学格子、５・・・
・・・光重合性樹脂層、６・・・・・・光学格子、７・
・・・・・反射導電金属層、８・・・・・・結晶励振装
置、９，１０・・・・・・導線、１１・・・・・・光学
格子、１２・・・・・・レーザ光、α・・・・・・レー
ザ光入射角、α１・・・・・・レーザ光回折角、ａ・・
・・・・光学格子ピツチ、Ａ−Ｎ・・・・・・ピッチα
の変化範囲。
第２図は同じくその他の例を示す線図的断面図、第３図
は本発明光学格子を利用したデフレクタを示す線図的断
面図、第４−６図は第３図に示すデフレクタによつて変
化せしめた光学格子ピッチの変化の関数として変化する
偏向角を示す曲線図で、第４図は入射角が７５るの場合
、第５図は入射角が８２．５射の場合、第６図は入射角
が９００の場合である。 １・・・・・・薄円板、１ａ・・・・・・下面、１ｂ・
・・・・・上面、２・・・・・・導電層、３・・・・・
・反射導電金属層、４・・・・・・光学格子、５・・・
・・・光重合性樹脂層、６・・・・・・光学格子、７・
・・・・・反射導電金属層、８・・・・・・結晶励振装
置、９，１０・・・・・・導線、１１・・・・・・光学
格子、１２・・・・・・レーザ光、α・・・・・・レー
ザ光入射角、α１・・・・・・レーザ光回折角、ａ・・
・・・・光学格子ピツチ、Ａ−Ｎ・・・・・・ピッチα
の変化範囲。
Claims (1)
- １ ピエゾ電気効果を生ずる１枚の薄板で構成された基
体を有する可変ピッチ光学格子であつて、該基体の対向
両面には、導電性アーマチュアを設け、両アーマチュア
間の可変電位によつて可変強さを有する電界を発生させ
、該電界は、ピエゾ電気効果によつて光学格子のピッチ
を対応して変化せしめるものにおいて、光学格子（４：
６）を基体￥１￥の両面￥１ａ￥；￥１ｂ￥の一方￥１
ｂ￥によつて支持することを特徴とする可変ピッチ光学
格子。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR7342509 | 1973-11-29 | ||
| FR7342509A FR2271586B1 (ja) | 1973-11-29 | 1973-11-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5090350A JPS5090350A (ja) | 1975-07-19 |
| JPS599884B2 true JPS599884B2 (ja) | 1984-03-06 |
Family
ID=9128439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP49137670A Expired JPS599884B2 (ja) | 1973-11-29 | 1974-11-29 | 可変ピツチ光学格子 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3942048A (ja) |
| JP (1) | JPS599884B2 (ja) |
| DE (1) | DE2456560C3 (ja) |
| FR (1) | FR2271586B1 (ja) |
| GB (1) | GB1481528A (ja) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3978436A (en) * | 1975-11-10 | 1976-08-31 | Rca Corporation | Surface acoustic wave device and method of making same |
| GB1536340A (en) * | 1976-06-15 | 1978-12-20 | Standard Telephones Cables Ltd | Transducer |
| FR2517436B1 (fr) * | 1981-11-27 | 1985-09-20 | Bosc Dominique | Dispositif de commutation optique, a reseau optique a pas variable |
| US4583818A (en) * | 1983-08-08 | 1986-04-22 | Gte Laboratories Incorporated | Optical device with surface plasmons |
| US4919537A (en) * | 1987-10-29 | 1990-04-24 | Beckman Instruments Inc. | UV scanning system for centrifuge |
| US4830493A (en) * | 1987-10-29 | 1989-05-16 | Beckman Instruments, Inc. | UV scanning system for centrifuge |
| US4921350A (en) * | 1989-02-10 | 1990-05-01 | Beckman Instruments, Inc. | Monochromator second order subtraction method |
| KR100294540B1 (ko) | 1997-12-31 | 2001-07-12 | 윤종용 | 가변형처핑격자 |
| IL136849A (en) * | 2000-06-18 | 2004-09-27 | Beamus Ltd | Optical dynamic devices particularly for beam steering and optical communication |
| US20030006417A1 (en) * | 2001-07-03 | 2003-01-09 | Motorola, Inc. | Structure and method for fabricating semiconductor srtuctures and devices utilizing the formation of a compliant substrate for materials used to form the same and piezoelectric structures having controllable optical surfaces |
| US6847749B1 (en) * | 2002-01-18 | 2005-01-25 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Diffraction-based optical switch |
| US7027688B2 (en) * | 2002-05-14 | 2006-04-11 | Wildnauer Kenneth R | Tunable optical filter based on a physically-deformable diffractive element |
| US6930817B2 (en) * | 2003-04-25 | 2005-08-16 | Palo Alto Research Center Incorporated | Configurable grating based on surface relief pattern for use as a variable optical attenuator |
| WO2006018758A1 (en) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | System for varying the wavelength of a light source. |
| US7054054B1 (en) | 2004-12-20 | 2006-05-30 | Palo Alto Research Center Incorporated | Optical modulator with a traveling surface relief pattern |
| EP1816493A1 (en) * | 2006-02-07 | 2007-08-08 | ETH Zürich | Tunable diffraction grating |
| WO2010015093A1 (en) | 2008-08-08 | 2010-02-11 | Optotune Ag | Electroactive optical device |
| US8699141B2 (en) | 2009-03-13 | 2014-04-15 | Knowles Electronics, Llc | Lens assembly apparatus and method |
| US8659835B2 (en) | 2009-03-13 | 2014-02-25 | Optotune Ag | Lens systems and method |
| WO2012032443A1 (en) * | 2010-09-09 | 2012-03-15 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Electroactive polymer actuator |
| CN102435612B (zh) * | 2011-11-21 | 2013-07-10 | 五邑大学 | 一种压电陶瓷驱动光栅移相控制中控制电压的标定方法 |
| JP6226154B2 (ja) * | 2013-10-07 | 2017-11-08 | 株式会社島津製作所 | ブレーズド回折格子およびブレーズド回折格子の製造方法 |
| EP3249442B1 (de) * | 2016-05-24 | 2018-04-18 | Sick Ag | Strahlablenkungselement |
| US12547010B2 (en) * | 2020-08-19 | 2026-02-10 | Ntt, Inc. | Diffraction element device |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3302027A (en) * | 1963-07-12 | 1967-01-31 | North American Aviation Inc | Interferometric method and apparatus for modulation and control of light |
| CH424009A (de) * | 1965-06-24 | 1966-11-15 | Foerderung Forschung Gmbh | Einrichtung zur Verstärkung der Intensität eines optisch erzeugten Bildes |
| US3497826A (en) * | 1967-01-11 | 1970-02-24 | Zenith Radio Corp | Scanning laser systems and components useful therein |
| US3555453A (en) * | 1968-05-09 | 1971-01-12 | Lansing Research Corp | Stabilization of lasers or the like |
-
1973
- 1973-11-29 FR FR7342509A patent/FR2271586B1/fr not_active Expired
-
1974
- 1974-11-25 US US05/526,881 patent/US3942048A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-11-26 GB GB51039/74A patent/GB1481528A/en not_active Expired
- 1974-11-29 DE DE2456560A patent/DE2456560C3/de not_active Expired
- 1974-11-29 JP JP49137670A patent/JPS599884B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3942048A (en) | 1976-03-02 |
| DE2456560B2 (de) | 1980-03-27 |
| GB1481528A (en) | 1977-08-03 |
| FR2271586A1 (ja) | 1975-12-12 |
| JPS5090350A (ja) | 1975-07-19 |
| FR2271586B1 (ja) | 1978-03-24 |
| DE2456560A1 (de) | 1975-06-05 |
| DE2456560C3 (de) | 1980-11-27 |
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