JPS60103818A - 弾性表面波装置の製造方法 - Google Patents
弾性表面波装置の製造方法Info
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- JPS60103818A JPS60103818A JP21091883A JP21091883A JPS60103818A JP S60103818 A JPS60103818 A JP S60103818A JP 21091883 A JP21091883 A JP 21091883A JP 21091883 A JP21091883 A JP 21091883A JP S60103818 A JPS60103818 A JP S60103818A
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- JP
- Japan
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- resist mask
- acoustic wave
- surface acoustic
- resist
- exposed
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- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/08—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は弾性表面波共振子や弾性表面波フィルタ等とし
て用いられる弾性表面波装置の製造方法に関する。
て用いられる弾性表面波装置の製造方法に関する。
この種の弾性表面波装置の中で例えば弾性表面波共振子
は、第１図の概略図に示すようニ、＜上歯状の電極指か
らなる励振電極（１）と反射ｍ極（２）とを圧′酸性基
板（３）上に設けてなる。斜線部分は励振電極内を伝搬
する表面波の平面的な位相のみだれを補償するダミー電
極（４）でｆり６゜この弾性表面波装置の、を極は写真
蝕刻法（ＰＥｊＰ）だよりつくられる。この場合、エッ
チ／り後の電極パターＺ Ｉｄ 、第２図に示すようＶ
こ、＜シ歯状＃ｆ、極指（５） 、 ＋６）の先端部近
傍（力ＶＣ隣接するくし凶状＃４Ｌ極指（８）の部分に
四部ｔ９１ 、 （ＩＱＩが生じてし葦う。
は、第１図の概略図に示すようニ、＜上歯状の電極指か
らなる励振電極（１）と反射ｍ極（２）とを圧′酸性基
板（３）上に設けてなる。斜線部分は励振電極内を伝搬
する表面波の平面的な位相のみだれを補償するダミー電
極（４）でｆり６゜この弾性表面波装置の、を極は写真
蝕刻法（ＰＥｊＰ）だよりつくられる。この場合、エッ
チ／り後の電極パターＺ Ｉｄ 、第２図に示すようＶ
こ、＜シ歯状＃ｆ、極指（５） 、 ＋６）の先端部近
傍（力ＶＣ隣接するくし凶状＃４Ｌ極指（８）の部分に
四部ｔ９１ 、 （ＩＱＩが生じてし葦う。
このため設計を行った時点の電極ノ（ターンとは異なる
形状となシ、設計通シの周波数特性が得られない場合が
多い。特に周波数が市くなると電極指幅か細くなり、前
記凹形の大きさは無視することができなくなる。
形状となシ、設計通シの周波数特性が得られない場合が
多い。特に周波数が市くなると電極指幅か細くなり、前
記凹形の大きさは無視することができなくなる。
前記凹形の発生原因は、Ｉｆ電性基板に被別させた金属
膜レジストマスクを介してエツチング敢で溶かす工程に
おいて、対向するくし歯状′電極指の先端部に対応ツー
る部分ではエツチング欣のケ此れがよく、先端部に隣接
する部分の金属膜がエツチングされ易くなめことに起因
する。ウェットのエソチング工程全採用すれば、電極に
不所望な四部が発生することは避けられない見象で６６
。
膜レジストマスクを介してエツチング敢で溶かす工程に
おいて、対向するくし歯状′電極指の先端部に対応ツー
る部分ではエツチング欣のケ此れがよく、先端部に隣接
する部分の金属膜がエツチングされ易くなめことに起因
する。ウェットのエソチング工程全採用すれば、電極に
不所望な四部が発生することは避けられない見象で６６
。
本発明は、前記凹形が従来よシ軽減される弾性表面波装
置の製造方法を提供するものである。
置の製造方法を提供するものである。
丁なわら本発明は、凹形の発生する部分にあらかじめ凸
形に突出したレジストマスクを形成しておき、このレジ
ストマスクを用いて金属膜をエツチングして′電極を形
成することによシ、凹部の発生を軽減するものでｂ−る 〔発明の実施例〕 以Ｆ本発明の詳細全図面を参照して説明する。
形に突出したレジストマスクを形成しておき、このレジ
ストマスクを用いて金属膜をエツチングして′電極を形
成することによシ、凹部の発生を軽減するものでｂ−る 〔発明の実施例〕 以Ｆ本発明の詳細全図面を参照して説明する。
いま７００ ＭＥ（Ｚ の弾性表面波共振子を厚さｔｌ
、５朋の水晶基板を用いて設計する。この場合、励損・
１極の゛電極指の幅ははぽ１．２μｍとな／）ｏｌず水
晶基板αυ上にアルミニウムαυを０．１μｍ蒸庸させ
た後（第３図）、アルミニクムαυ上にポジ型ホトレジ
ストαり例えばＡｚ −１３５０を塗布す／ｂ（ＭＬ
４図）。この後フォトマスクを介して紫外餓蕗元を行う
（第５図〕。第５図において露光した部分音クロスハツ
チ／グで示す。紫外線露光でしなかった部分Ｈは、平面
図に示す第６図に斜勝を施して示されるように、複数の
条（１４１、叫、αりからなる。切断された各条の先端
部近勇ａ’Ｄ 、 （ｌ樽、四Ｖζ二隣接する条の部分
には０．２μｍから０．３μｍの凸形１２υ、Ｑυ、Ｑ
望、（至）が加わっている。次にポジ型ホトレジストα
２を現像して紫外線で４元した部分のポジ型ホトレジス
トα乃を除去して、その部分のアルミニウム（１１）が
露出したレジストマスクを得る（第７図）。
、５朋の水晶基板を用いて設計する。この場合、励損・
１極の゛電極指の幅ははぽ１．２μｍとな／）ｏｌず水
晶基板αυ上にアルミニウムαυを０．１μｍ蒸庸させ
た後（第３図）、アルミニクムαυ上にポジ型ホトレジ
ストαり例えばＡｚ −１３５０を塗布す／ｂ（ＭＬ
４図）。この後フォトマスクを介して紫外餓蕗元を行う
（第５図〕。第５図において露光した部分音クロスハツ
チ／グで示す。紫外線露光でしなかった部分Ｈは、平面
図に示す第６図に斜勝を施して示されるように、複数の
条（１４１、叫、αりからなる。切断された各条の先端
部近勇ａ’Ｄ 、 （ｌ樽、四Ｖζ二隣接する条の部分
には０．２μｍから０．３μｍの凸形１２υ、Ｑυ、Ｑ
望、（至）が加わっている。次にポジ型ホトレジストα
２を現像して紫外線で４元した部分のポジ型ホトレジス
トα乃を除去して、その部分のアルミニウム（１１）が
露出したレジストマスクを得る（第７図）。
次に水晶基板ａυをリン酸と硝酸と酢酸と水の混合液の
入ったビーカーに浸して、レジストをマスクとして露出
したアルミニウムαυをエツチングする（第８図）。こ
の後レジストマスクを除去する（第９図）。
入ったビーカーに浸して、レジストをマスクとして露出
したアルミニウムαυをエツチングする（第８図）。こ
の後レジストマスクを除去する（第９図）。
従来の方法では、０．３μｎｌから０．５μｍの凹形が
・ぼ極相に発生していたが、本発明によれば、第１０図
に示すように、出来上がった電極指（５） 、 （６）
、 ＋ａ＋に発生した凹形は、０．１μＩｎ以下にと
どよジ設計値に近いものが得られる。
・ぼ極相に発生していたが、本発明によれば、第１０図
に示すように、出来上がった電極指（５） 、 （６）
、 ＋ａ＋に発生した凹形は、０．１μＩｎ以下にと
どよジ設計値に近いものが得られる。
なおレジストマスクの突出部の形状は、コノピユータを
利用した設計のしやすさを考慮した第１１図に示すよう
な矩形状であっても、十分に従来よりよい効果が得られ
る。また上述の実施例では弾性表面波共振子についてだ
け説明したが、本発明は弾性表面波フィルタを製造する
場合にも適用できる。またフォトレジストはポジ型でな
くネガ型であってもよい。さらに本明細書ＶＣ＞いては
、くλ し型電極はソリッド１極（７電極幅）構成で示したが、
ダブル′酸＠（主電極幅）等の構成でも上記と同等の考
えで、前記条に突出部を設けることによって同様の効果
が得られる。
利用した設計のしやすさを考慮した第１１図に示すよう
な矩形状であっても、十分に従来よりよい効果が得られ
る。また上述の実施例では弾性表面波共振子についてだ
け説明したが、本発明は弾性表面波フィルタを製造する
場合にも適用できる。またフォトレジストはポジ型でな
くネガ型であってもよい。さらに本明細書ＶＣ＞いては
、くλ し型電極はソリッド１極（７電極幅）構成で示したが、
ダブル′酸＠（主電極幅）等の構成でも上記と同等の考
えで、前記条に突出部を設けることによって同様の効果
が得られる。
以上説明したように本発明は、エツチング工程の前の段
階において、レジストマスクＶＣ切ｍ＋８れた各条の先
端部近傍に瞬接する榮の部分に突出部を形成しておくた
め、出来上がった′１極指の形状と設計時に考えたその
形状との誤差は減少し、設計周波数特性によく合った周
波数特性を、実現することができる。
階において、レジストマスクＶＣ切ｍ＋８れた各条の先
端部近傍に瞬接する榮の部分に突出部を形成しておくた
め、出来上がった′１極指の形状と設計時に考えたその
形状との誤差は減少し、設計周波数特性によく合った周
波数特性を、実現することができる。
第１図は弾性表面波装置の概略を示す平面図、第２図は
従来の方法によシ製造した弾性表面波装置のくし型電極
の部分の拡大平面図、第３図は圧′ｄ性基板上に金属膜
を被着したことを示す図、第４図は金属膜上にレジスト
を塗布したことを示す図、第５図はレジスト上を露光し
たことを示す図、第６図は露光パターンを示す平面図、
第７図はレジスト膜を現像したことを示す図、第８図は
むきたしになった金属をエソチンダ液で溶かしたことを
示す図、第９図はレジストマスクを除去したことを示す
図、第１０図は本発明により製造した弾性表面波装置の
くし型゛１他の部分の拡大−ｆＬ面図、第１１図は突出
部がカロわったレジストマスクを示す拡大図である。 ３・・・圧電性基板 １４．１５．１６ ・・・条 １７．１８．１９ ・・先端部近傍 ２０．２１，２２．２３・・凸形 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （はが１名）第 ｌ
図 を 第８図 第４図 第２図 第１０図 第１１図 第６図
従来の方法によシ製造した弾性表面波装置のくし型電極
の部分の拡大平面図、第３図は圧′ｄ性基板上に金属膜
を被着したことを示す図、第４図は金属膜上にレジスト
を塗布したことを示す図、第５図はレジスト上を露光し
たことを示す図、第６図は露光パターンを示す平面図、
第７図はレジスト膜を現像したことを示す図、第８図は
むきたしになった金属をエソチンダ液で溶かしたことを
示す図、第９図はレジストマスクを除去したことを示す
図、第１０図は本発明により製造した弾性表面波装置の
くし型゛１他の部分の拡大−ｆＬ面図、第１１図は突出
部がカロわったレジストマスクを示す拡大図である。 ３・・・圧電性基板 １４．１５．１６ ・・・条 １７．１８．１９ ・・先端部近傍 ２０．２１，２２．２３・・凸形 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （はが１名）第 ｌ
図 を 第８図 第４図 第２図 第１０図 第１１図 第６図
Claims (1)
- 圧電性基板上に金属膜を被着する工程と、この金属膜に
レジスト膜を被着する工程と、このレジスト膜をフォト
マスクを介して露光して現像し、不要なレジスト膜を除
去し、各条が切１１１１された複数の条群からなるレジ
ストマスクを形成する工程と、この複数の条群からなる
レジストマスクを介して前記笠属膜をエツチングする工
程と、前記複数の条群からなるレジストマスクを除去し
、複数の条群からなる電極を形成する工程とを具備する
シスト膜を除去し、各条が切…１された複数の条群要な
レジスト膜を除去し、前ｉビ切断された各条の先端部近
傍に隣接する乗の部分に突出部が形成されている複数の
条群からなるレジストマスクを形成する工程でらること
を特徴とする弾性表面波装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21091883A JPS60103818A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | 弾性表面波装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21091883A JPS60103818A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | 弾性表面波装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60103818A true JPS60103818A (ja) | 1985-06-08 |
Family
ID=16597217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21091883A Pending JPS60103818A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | 弾性表面波装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60103818A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010104830A (ko) * | 2000-05-16 | 2001-11-28 | 김남영 | 광대역 고조파 억제 특성을 갖는 코프레너 웨이브가이드스릿 구조의 여파기 |
-
1983
- 1983-11-11 JP JP21091883A patent/JPS60103818A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010104830A (ko) * | 2000-05-16 | 2001-11-28 | 김남영 | 광대역 고조파 억제 특성을 갖는 코프레너 웨이브가이드스릿 구조의 여파기 |
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