JPS60104901A - 色分離フイルタ−部の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カラー撮像管に使用する透明基板上に光学的
フィルター素子及び透明導電膜を設けてなる色分離フィ
ルター部の製造法に関する。

〔従来の技術〕

従来、単管式又は、２管式等のカラー撮像管に使用する
色分離フィルターとしては、種々のものが開発され、提
案されているが例えば、透明基板上に有機高分子物質膜
を形成し、更に該有機高分子物質膜を適当な染料で縞状
、格子状或は単色ないし多色に染色して有機系染色フィ
ルターを形成しこれを利用したもの等が知られている。

而して、これらの色分離フィルターは、上記の有機系染
色フィルターの染色面に透明°導電体および光導電体を
組合わせることによってカラ−撮像管としての機能を発
揮するものである。

しかしながら、従来、透明導電体および光導電体を有機
系染色フィルターの染色面に組合わせるには、一般に該
有機系染色フィルターの染色面上に直接透明導電体およ
び光導電体を形成するものではなく、別個の基板上に透
明導電膜および光導電膜を形成し、これを該透明導電膜
面が上記染色面に重ね合うように接触させて接着剤等を
介して被着結合させて組合わせている。

上記のカラー撮像管に使用する色分離フィルターについ
て更に詳しく述べると、それは第１図に示す如く、ガラ
ス板等のフェースプレート１の片面に有機高分子物質膜
を例えばレッドＲ。

グリーンＧ、ブルーＢの順に染色したフィルター層２を
形成し、更に、透明導電膜３および光導電膜４を設け、
これらを管体５にターゲット６で固定した構成を基本構
造とするものである。

かかる構造において透明導電膜はフィルター層に直接設
けることも原理的に杜問題ないが、しかし該フィルター
層は、有機高分子物質膜の染色体であるので透明導電膜
を直接付着させるこすなわち、透明導電膜は、一般に酸
化錫（Ｓｎ０２）又は酸化インジウム（工ｎ２０ｇ）等
を蒸着、スノくツタリングあるいは熱時スプレーによる
吹付は等の方法によって形成するものであるがその製造
工程において２００〜５００°Ｃ位の温度条件を必要と
するものである。

而して、かかる温度条件は有機高分子物質膜をレッド、
グリーン、ブルーの順に染色したフィルター層の耐熱性
の限度を越える。ものであり、直接フィルター層に透明
導電膜を形成することは不可能なことである。

例えば、有機高分子物質膜がゼラチン層などである場合
、直接透明導電層を付着させると、亀裂が入ってひび割
れ状の面となったり或はマット状の面となり、透明度を
著しく低下させることが多く好ましくないものでおる。

このため、カラー撮像管に使用される色分離フィルター
においては、第２図に示す如く、透明導電！ＩＸ３を支
持体となるガラス板等の透明板Ｚ上に蒸着法等で形成し
て、これを透明導電体とし、該透明導電体を接着剤８等
でフィルター層２と接着させた構成とするのが普通であ
る。

かかる構成によれば、透明導電膜を形成する際の熱その
他等に、よって、フィルター層におよぼす影響を取除く
ことができるものである。

しかしながら、上記の如き構成のカラー撮像管に使用す
る色分離フィルターにおいては、ガラス板等の透明板は
、色分解情報を解像力よく受けるためには、薄い程撮像
管特性が向上するので１通常数μ〜２０μ程度のものが
要求されておシ、而してこのような簿い透明板を使用し
て透明導電体を製造する場合には、破損その他等の大き
な問題が生じて好ましくないものである。

尚、上記において、光学的染色フィルターは次の様な方
法によって形成している。

すなわち、先ず、透明ガラス基板上にゼラチン溶液又は
ポリビニルアルコール溶液などの水溶性有機高分子物質
の溶液を塗布、乾燥して、有機高分子物質膜を形成する
。

次いで上記有機高分子物質膜の上に、例えば、コダック
ホトレジスト、ＫＰＲ（コダック社製）等の疎水性ホト
レジストを塗布、乾燥して感光性を与え、次に適当な縞
状又は格子状等の写真原版を密着させて近紫外光等で焼
き付け、常法に従って現象する。

これによって、上記ホトレジストは露光された部分が残
留し、非露光部は現像液によシ溶解除去される。

次に、上記ガラス基板を有機染料の染色液に入れて染色
操作を行なって、ガラス基板上のホトレジストが除去さ
れて裸出している部分の有機高分子物質膜のみを染色し
、他方ホトレジストが残留している部分の有機高分子物
質膜は該レジストに阻害されて染色されて、結果として
、上記写真原版に対する染色画像を形成する。

上記の如く染色後、十分水洗し、乾燥し、次いで残留し
ているホトレジストを溶剤等で溶解、除去して光学的染
色フィルターを得ることができる。

更に必要に応じて、上記の第１同梁色後の有機高分子物
質膜の上に上記と同様にホトレジスト製版し、上記第１
回の染料と異なる染料で染色して多色フィルターとする
ことができる。

而して、一般にフィルターの色はレッド、グリーン、ブ
ルーを一枚のフィルター中に染色したものである。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明が解決しようとする問題点は力２−撮像管に使用
する色分離フィルターにおける上記の如き問題点を解消
した、フィルター層上に透明導電体を作業性よく簡便に
直接形成させる色分離フィルター部の製造法を提供する
ことにある。

〔問題点を解決するだめの手段」 本発明者は上記の問題点を解決すべく研究の結果透明基
板上に光学的フィルター素子及び透明導電膜を設けてな
るカラー撮像管の色分離フィルター部の製造法において
、透明基板上に多層干渉膜をパターン状に加工して多層
干渉膜パターンを形成し、その上に耐熱性着色剤を真空
蒸着又はスパッタリングして着色薄膜層を形成し、つい
−Ｃ該着色薄膜層上に写真製版的方法によシ多臀千襖、
−一一 チ歌＝ｅレジストパターンを形成し、ついでレジストパ
ターンで被覆されていない着色薄膜層領域をプラズマ食
刻、或いは逆スパツタリングにより乾式食刻して該着色
薄膜層領域の着色薄膜層を除去すると共に上記のレジス
トパターンを同時に除去して多層干渉膜ストライプと着
色薄膜ストライプよシなる多色光学的フィルター素子を
形成し、ついで上記の多色光学的フィルター素子面に耐
熱性、耐薬品性に富む樹脂を回転塗布法や真空装置内塗
布法などにより５０００〜２００００Ａ程度の厚さに塗
布乾燥し、十分に硬化させて中間保護膜を形成し、次に
中間保護膜上に真空蒸着法により透明導電膜を形成する
方法忙より所期の目的を達成し得ることを見いだし、か
かる知見にもとづいて本発明を完成したものである。

即ち、本発明の要旨は透明基板上に光学的フィルター素
子及び透明導電膜を設けてなるカラ加工して多層干渉Ｌ
ｌＫ＆を形成し、その上に耐熱性着色剤を真空蒸着又は
スパッタリングして着色薄膜層を形成し、ついで該着色
薄膜層上に写真製版的方法により　−”　−＋ｙ−と一
交叉→１づ←トチ→→−会の、レジストパターンを形成
し、ついでレジストパターンで被覆すれていない着色薄
膜層領域をプラズマ食刻、或いは逆スパツタリングによ
り乾式食刻して該着色薄膜層領域の着色薄膜層を除去す
ると共に上記のレジストパターンを同時に除去して多層
干渉膜パターンと着色薄膜パターンよりなる多色光学的
フィルター素子を形成し、ついで上記の多色光学的フィ
ルター素子面に耐熱性、耐薬品性に富む樹脂を回転塗布
法や真空装置内塗布法などＫよシラ０００〜２００００
ａ程度の厚さに塗布乾燥し、十分に硬化させて中間保護
膜を形成し、次に中間保護膜上に真空蒸着法によシ透明
導電膜を形成する仁とを特徴とする色分離フィルター部
の製造法である。

上記の本発明について以下に更に詳しく説明する。

先ず本発明においてガラスなどの透明基板上に多層干渉
膜を設け、次いで多層干渉膜をドライエツチングによシ
ストライブなどの所望の形状に加工する。

而して多層干渉膜は高屈折率物質層と低屈折率物質層を
積層してなるもので積層される高屈折率物質層と低屈折
率物質層との合成積層数は、６層以上好ましくは８層以
上である。この合成層数が６層未満であると透過領域と
反射領域との境界での光透過率特性の立上りがシャープ
ではなくなり、しかも反射領域における透過率が無視し
うるほど小さくなくなるため好ましくない。また、積層
数が多くなれば、前記境界での光透過率特性の立上りが
シャープになりかつ反射領域における透過率は小さくな
るが、積層工程が複雑になるため、実用上の見地から２
０層程度までであることが好ましい。

高屈折率物質としては、Ｔｔｏ２（屈折率ｎ＝２．２）
、８ｂ２０３　（ｎ　＝　２．０４　）、０ｅ０２　（
ｎ　＝　２．４２　）、Ｚｒ０２（ｎ＝２．１０）、Ｚ
ｎ５（ｎ＝２．５５Ｘどが用いられる。また、低屈折率
物質としては、８１０２（ｎ＝ｔ４６）、ＯａＦ２（ｎ
＝１２３　）、ＭｇＦ２（ｎ＝１．３８）などが用いら
れる。

このうち、高屈折率物質としての’ｒｔｏ２と、低屈折
率物質としての８１０２との組合せが、多層積層する場
合に眉間の応力緩和の面から好ましい。

高屈折率物質層および低屈折率物質層は、蒸着法あるい
はスパッタリング法などの気相成膜法によって積層形成
される。

高屈折率物質層と低層折率物質層よりなる多層干渉膜の
パターン化は多層干渉膜の上に例えばＡＺ−１３５０（
キノンジアサイド系フォトレジスト）よりなるマスキン
グレジスト層を形成し、次イテＣＦ４１０２ガスにより
反応性イオンエツチングによりドライエツチングし、次
いでアルカリ剥離液を用いてマスキングレジスト層を剥
離することによって形成される。

次いで多層干渉膜パターンを設けた透明基板上に着色薄
膜パターンを次のようにして形成する。

先ず、本発明においては、非水溶性着色剤であって約２
００°Ｃ以上の温度に耐える耐熱性を有しかつ適当な手
段で蒸発又は昇華可能な材料を用いる必要がある。これ
に適合する材料としては、顔料あるいは非水溶性染料（
油溶性或いは建染染料等）から選出することができる。

上記に適合する条件をもった青色剤は、一般に多層干渉
膜ストライブを設けた透明基板（例ガラス）上に真空装
置内で薄膜付着させる。この為には真空蒸着法やスパッ
タリング法が用いられるが一般に前者の方がよい。

また着色薄膜層とガラス等の透明基板との接着性を強化
するために接着強化剤処理をあらかじめガラス等の透明
基板面にほどこしてもよい。

着色薄膜−の厚さは所望の分光特性によって決められる
が通常２０００〜１ｏｏｏｏｉ程度である。この厚さは
有機高分子喘染色の場合よりもかなり小さいものである
。

ついで該着色薄膜１上に適当なホトレジスト（Ｍ　Ｋ　
Ｐ　Ｒ％ＫＴＦＲ，、）？！Ｊビニルアルコールー重ク
ロり酸アンモン感光液等）を塗布して乾燥したのち、所
望のパターンをもつ写真原版の画像を焼付転写し常法の
如く現像、乾燥してレジストパターンを形成する。この
製版板をプラズマ食刻装置或いは逆スパツタリング法に
よるスパッタ食刻装置などの乾式食刻装置内に設置して
乾式食刻を行なう。着色薄膜１とレジスト層は同時に食
刻されるのでレジスト食刻が完了する前に着色薄膜層の
食刻が完了する様にレジスト膜厚を調節しておかなけれ
ばならない。

本発明においては、上記のようにして、透明基板上に耐
熱性に富む青色剤による光学的フィルター素子を形成す
ることができる。もし着色薄膜層が成る種の薬品（たと
えばアルコール、ベンゼン等）に可溶性であれば、ホト
レジスト布の場合に使用されている溶剤が着色−を溶解
するか否かに注意し溶解しない溶剤と組合わされたホト
レジストを使用しなければならない。

レジスト溶解除去法等によっても光学的フィルター素子
を形成することができる。

本発明においては、第６図に示す如く、上記の操作によ
って透明基板２１の上に例えばレッド（Ｒ）、グリーン
（Ｇ）、又はブルー（Ｂ）等からなる例えばストライプ
状の多層干渉膜パターン２２を形成した上に多層干渉膜
パターン２２と交叉する例えばストライプ状の異なる色
の着色薄膜パターン２３を形成することができる。

次に本発明において、上記の光学的フィルター素子面に
耐熱性、耐層品性に富む樹脂による無色透明な中間保護
膜を設ける方法について説明すると、先ず本発明におい
て、中間保護膜は、次工程の透明導電膜な形成させるた
めの各種の処理条件に耐えるものでなければならない。

即ち中間保護膜自体が前述の如く耐熱性がなければなら
ないが更に光学的フィルター素子面を保護すると同時に
その耐熱性も向上せしめることが望ましい。又勿論無色
透明であり、薄明導電膜形成工程の前処理、たとえば表
面清浄化のための洗滌工程においてそれ自身はもちろん
、内部の光学的フィルター素子に影響があってはならな
い。即ちアルカリ洗滌剤、酸洗滌剤、中性洗滌剤等の水
溶液及び脂肪族又は芳香族の汎用溶剤類に対し浸漬時及
び超音波洗滌時に十分な耐性を備えることが望ましい。

かする特性をもつ中間保護膜は回転塗布法や真空装置内
塗布などにより５０００〜２００００又程度の厚さに塗
布乾燥し十分な皮膜形成のための硬化を行なうことによ
って光学的フィルグー素子面上に中間保護膜を形成する
ことかでキる。

次に本発明において、上記の中間保護膜の上に透明導電
膜を形成する方法について説明すると、先ず、本発明に
おいては透明導電膜形成のために前記洗滌剤等を用いて
上記中間保護膜を十分に表面清浄化を行なったのち、数
１００Ω／メ〜数にΩ／Ｃｄの透明導電膜を積重させる
。

透明導電膜は一般に８ｎ０２、Ｉｎ２Ｏ３、ＴｌＯ２等
が用いられるが温度条件等からＩｎ２Ｏ３を用いる場合
が多い。これはよく知られている様に通常は真空蒸着法
で中間保漁膜上にｆｉ！＠させる。

成る場合には透明導電膜形成終了品が完成品となるが、
他の場合にはパターン加工した光学的フィルター素子に
対応させて透明導電膜をパターン化する必要がある。こ
のパターン化には通常のホトエツチング法が使用される
。

即ち透明導電膜上にホトレジストを塗布し所要のパター
ンをもった写真原版をマスクアライメント装置を用いて
光学的フィルター素子のパターンと位Ｉ面合せして焼付
、現像しホトレジスト除去部分の透明導電膜を食刻除去
する。

最後に残留ホトレジストを除去すれば完成品となる。

本発明の方法によって得られたものは特に中間保箇膜が
薄いために光学的に殆んど無視出来特性の良好な製品と
なる。

而して、上記の如き本発明の方法で得られるカラー慢信
管に使用する色分離フィルター部は第４図に示す如く、
透明基板２１上に多層干渉膜パターン２２を形成し、次
いで青色薄膜パターン２３を形成し、次にその上に耐熱
性、耐薬品性に富む樹脂による無色薄明な中間保護膜２
４を設け、しかる後膣中間保護膜２３上に透明導電膜２
５を形成した構成からなるものである。

尚、上記の本発明の方法において使用する各種の材料の
例について下記に示すが本発明はこれらによって限定さ
れるものではない。

先ず、本発明において光学的フィルター素子となる着色
ｙＲ膜唱を構成する着色剤としては下記のものを使用す
ることができる。

（１）、アセトアセチックアニリド系着色剤スミラー７
７ストイエローＧ　（０，１，Ｎ０１１６８０）スミラ
ーファストイエｏ−１ＱＧＨ（０，１，ＮＯ，１１７１
０）スミラー７アストイｘｏ−ＲＦ（０、ｘ、Ｎｏ、　
２１０９６）スミラー７アストイエｏ−５０Ｆ　（Ｃ，
１，Ｎｏ、２１０９５）等、（２）、ナフトール類のモ
ノアゾ系着色剤スミラー７７ストレッド４０１５　（ｃ
、ｚ、Ｎｏ、１２３５５）スミ？−ｙアｘトｔ／ッド４
０７１　（ｃ、ｚ、Ｎｏ、１２５７０）スミラーファス
トスカーレットＢｃｉＣＣ，Ｘ、　Ｎｏ、　１２３１５
）スミラー７アストスカーレット４ｎｃｐ（ａ、ｘ、Ｎ
ｏ、１２１２０）等、（３）、ポリ・す゛イクリック系
顔料 七シリトン系顔料　（例、ファストーゲンスーパーマゼ
ンタＲ８）イソインド１ン系顔料（例、ファストーゲン
スーパーイエローＲ）（４）、分散系染料 カヤセットブルー３１８ カヤセットターキノイズプル−７７６等、（５）、油溶
性系染料 ダイヤレジンレッドＨ ダイヤレジンブラウンＡ ダイヤレジンブルーＮ（０１３２）等、（６）、インダ
ンスレン系染料 ミケスレンイエローＧＯＮ　（ｃ、工、　Ｎｏ、　６７
３００）ミケスレンイエロー　（０，１，Ｎｏ、６８４
２０）ミケスレンオレンジＲ（ｃ、　１．　Ｎ０１７３
３３５’）ミケスレンスカーレットＧ ミケスレンブリリアントビンクＲ（０，工、　Ｎｏ、　
７３３６０）ミケスレンブリアントノイオットＲＲ（（
！、１．Ｎｏ、６００１０）ミケスレンブル−３Ｇ　（
Ｃ，Ｌ　Ｎｏ、　６９８４０）等（７）、フタロシアニ
ン系顔料 無金属フタロシアニン、銅フタロシアニン、鉛フタロシ
アニン、亜鉛フタロシアニン、クロムフタロシアニン、
鉄フタロシアニン、その他　金フタロシアニン等、次に
又、本発明において中間保護膜を形成する材料としては
、たとえば耐熱性、耐薬品性等に富むポリウレタン樹脂
、ポリカーボネート樹脂シリコーン樹脂、ガラスレジン
、ポリパラキシレン樹脂、ポリフロロエチレンプロピレ
ンの樹脂を使用することができる。

次に又、上記の本発明においてガラス基板等の透明基板
と着色薄膜ｌｉｔの接着性を増す必要がある場合は、ガ
ラス板等の迫明基板にポリウレタン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ケイ皮酸エステル系の如き感光性樹脂類、シ
ランカップリング剤等を薄く塗布してから着色薄膜層を
形成せしめると効果がある。この効果は第２層目以上の
場合の中間保護膜と着色薄膜層との接着性が不３−当で
ある組合わせに対しても中間的接着増加膜を形成させる
ために適当に選択して接着効果を増大させることができ
る。

〔作　用〕

本発明において多層干渉膜パターンは前記したような無
機材料からなり耐熱性に富み、又、ドライエツチング加
工にも耐えるものである。

又、多層干渉膜パターンと組合わせて耐熱性着色剤より
なる着色薄膜パターンを形成してなる多色光学的フィル
ター素子は真空蒸着法による透明導電膜の作製中の温度
条件（２００〜ｓｏｏ”ｃ）に耐え品質を損なうことの
ないものてｈＯ１ 号（１′″：＊＊日八へカ・＼）て　イ簡Δ斤４麦列呪
１”Ｊ　Ｌ９１ｉ”ｌ　フイｊシクー倉、０轟２イ匠、
ｘｆｔ−ｉｖｉｍ４＋＜　ｊｎｌｌ’ｌ惨７４４Ｊ３上
ごｙａも−Ｚ゛カク。

／ 噂→トる） 〔実施例〕 ガラス板上にシアンの多層干渉膜をガラス板上ニスドラ
イブ状に加工したシアンストライプフィルターを出発材
とし、その上に次の方法でシアンストライプに又又する
様に黄色ストライプを形成させた。

表面を清浄化したシアンストライプフィルターを蒸看徊
内ｊ二設置し蒸発源ボー　ト内にはスミラーファストイ
エローｏ（ａ・工、　Ｎｏ、　１１６８０、大日本イン
キ化学ＫＫ製ンを入れ、真空吸引し、真空度１０−５〜
１０’Ｔｏｒｒとして色材を加熱蒸発させガラス板上に
３０００〜４ｏｏｏＸの厚さに付着させた。得られた黄
色ガラス板の透過率は５６０ｍμにおいて８５％〜９０
％であった。

ついで黄色薄膜層上にＫＴＦＲ（コダックシンフイルム
レシスト）を５０００〜６０　ｏ　ＯＡノＪ！Ｘさに回
転塗布し処理法に従って乾燥、プリベーキングをしたの
ち４真原版からストライプ状パターンを焼付転写して現
像乾燥した。

この製版板をプラズマを利用した灰化装置（Ｔｒａｐｅ
ＬＯ社製）内に設置しプラズマエツチングを行なった。

使用ガスはアルゴンで約１５分でエツチングが完了し、
その時点でＫＴＦＨの残留層が黄色層上に若干存在した
。

以上のようにして黄色着色Ｎ膜ストライプを形成した上
にポリウレタン樹脂醇液（粘度１０〜１５センチボイズ
）をエツチング面上に回転塗布により０．５〜２．０μ
の厚さに塗布し１００〜１５０”Ｃで２時間以上硬化さ
せたのち放冷して中間薄膜を形成した。次いで再び脈石
装置内に設置し、　ＦＡ発発源ボー円内は酸化インジウ
ム（Ｉｎ２０５）を入れ、黄色単色フィルターの温度を
２００〜２３０”Ｃとし、具窒匿約１０−Ａ〜１Ｏ−５
Ｔｏｒｒで酸化インジウムを蒸着した。蒸着後の酸化イ
ンジウム透明線電層の′電気抵抗は一般に７００〜６５
００Ω／メであった。

以上のようにして得られたものはシアン多層干渉膜スト
ライプ加工で生じるガラス板面とストライプ而の約１μ
の凹凸をうめる効果がありより高品位の色分解フィルタ
ー部が得られた。

以上の説明で明らかの如く、本発明の方法は、光学的フ
ィルター素子面にこれを保護する中間堡護膜を介して直
接的に透−明導電膜を形成し得るのでその作業性は優れ
かつ極めて簡便に行なうことができるものである。

又、本発明において、中間保護膜を極めて薄膜にするこ
とができるのでその厚さをほとんど缶視することができ
、フィルターとして色分解情報を解像力よく受けること
ができるものである。

而して、本発明において、本発明の方法で光学的フィル
ター素子面上に透明導電膜を設けたものは、該透明導１
．　ＩＩ々の、ヒに光導上１曙を設けてカラー撮像管等
に使用することができるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図と第２図とは、従来法によるカラー撮像管に使用
する色分離フィルターの要部拡大断面図、第３図と第４
図とは、本発明の方法における各工程の構成を示す拡大
断面図である。 ２１・・・・・・・・・・・・・・・・透明基板２２・
・・・・・・・・・・・・・光学的フィルター素子２３
・・・・・・・・・・・・・・・中間保護膜２４−・・
・・・・・・・・・・・・・透明導電膜特許出願人　大
日本印刷株式会社 代理人　小西淳美 第１図 第２図 ７８ 第３図 り１ １２２

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 透明基板上に光学的フィルター素子及び透明導電膜を設
   けてなるカラー撮像管の色分離フィルター部の製造法に
   おいて、ろ明基板上に多層干渉膜をパターン状に加工し
   て多層干渉膜パターンを形成し、その上に耐熱性着色剤
   を真空蒸看又はスパッタリングして着色薄膜層を形成し
   、ついで該着色薄膜層上に写真製版的方法によりレジス
   トパターンを形成し、ついでレジストパターンで被覆さ
   れていない着色薄膜層領域をプラズマ食刻、或いは逆ス
   パツタリングにより乾式食刻して該着色薄膜＠領域の着
   色薄膜層上除去すると共に上記のレジストパターンを同
   時に除去して多１・、４干渉ｉ１（、ｉパターンと着色
   薄膜パターンよりなる多色光学的フィルター素子を形成
   しついで上記の多色光学的フィルター素子面に１１１１
   １熱性、耐交品性に冨む樹脂を回転墜布法や真空装置内
   中布法などにより５０００〜２．ｏ　ｏ　ｏ　ｏ今す一
   度の厚さに塗布乾燥し、十分に硬化させて中間保護膜を
   形成し、次に中間保護膜上に真空蒸着法により透明導電
   膜を形成することを特徴とする色分離フィルター部の製
   造法。