JPS6042705A - カラ−フイルタ− - Google Patents
カラ−フイルタ−Info
- Publication number
- JPS6042705A JPS6042705A JP58149761A JP14976183A JPS6042705A JP S6042705 A JPS6042705 A JP S6042705A JP 58149761 A JP58149761 A JP 58149761A JP 14976183 A JP14976183 A JP 14976183A JP S6042705 A JPS6042705 A JP S6042705A
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- JP
- Japan
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- layer
- dye
- color filter
- film
- resin
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/233—Manufacture of photoelectric screens or charge-storage screens
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、４！ｒ種カラー撮像素子及びカラーディスプ
レーなどに用いるカラーフィルターに関するものであシ
、特に気相堆積によ多形成した色素膜に保一層を形成し
たカラーフィルターに関する。
レーなどに用いるカラーフィルターに関するものであシ
、特に気相堆積によ多形成した色素膜に保一層を形成し
たカラーフィルターに関する。
従来カラーフィルターの製造方法において色素層を真空
蒸着によって色素の蒸着薄膜で形成する方法が提案され
ている（例えば特開昭５５−１４６４０６号公報）。
蒸着によって色素の蒸着薄膜で形成する方法が提案され
ている（例えば特開昭５５−１４６４０６号公報）。
この方法によれば色素そのもので着色層が形成でき、染
色法における媒染層が不用なので極めて薄膜化され、か
つ非水工程によって色素層が形成できる。
色法における媒染層が不用なので極めて薄膜化され、か
つ非水工程によって色素層が形成できる。
こうして形成された色素層はドライエツチング又はリバ
ースエツチング法等々によＪ） ／＜ターンニングする
のが一般的である。
ースエツチング法等々によＪ） ／＜ターンニングする
のが一般的である。
ドライエツチング法は、色素膜上にレジストパターンを
つく如、これをマスクとしてプラズマあるいはイオンエ
ツチング停のドライエツチングで色素パターンを形成す
る方法である（特開１１ｉ１１１５８−５４９６１など
）。
つく如、これをマスクとしてプラズマあるいはイオンエ
ツチング停のドライエツチングで色素パターンを形成す
る方法である（特開１１ｉ１１１５８−５４９６１など
）。
また、リバースエツチング方法は、除去すべき色素層の
下部にレジストマスク（以下アンダーマスクと呼ぶ）を
設け、下部のアンダーマスクを基板から除くことによっ
てその上の色素層用いている。
下部にレジストマスク（以下アンダーマスクと呼ぶ）を
設け、下部のアンダーマスクを基板から除くことによっ
てその上の色素層用いている。
パターンニングされた色素層はこのままではゴミや傷が
つきやすく又、耐久性に劣り特に湿度によシ色素層にク
ラックが生じゃすいためこれらから保護するため保護コ
ートする事が必要である。しかしながら従来は保護コー
トに使用する樹脂によっては保護層の塗布形成時におけ
る有機溶剤の影響によシ色索層が溶解現象による溶解や
白濁を生じあるいは溶剤によるヒビ割れや白濁を生じて
しまう。
つきやすく又、耐久性に劣り特に湿度によシ色素層にク
ラックが生じゃすいためこれらから保護するため保護コ
ートする事が必要である。しかしながら従来は保護コー
トに使用する樹脂によっては保護層の塗布形成時におけ
る有機溶剤の影響によシ色索層が溶解現象による溶解や
白濁を生じあるいは溶剤によるヒビ割れや白濁を生じて
しまう。
これらの現象により色素Ｊ−の均一性や透過率に者しい
影響を与え、また保護層自身が正常であっても色素膜に
上記の如き異常が生じるので保護層に用いる材料が非常
に限定されてしまいゴミ、キズ尋を防ぐことはできるが
特に耐久性に優れる樹脂を直接色素膜上に形成すること
はできなかった。
影響を与え、また保護層自身が正常であっても色素膜に
上記の如き異常が生じるので保護層に用いる材料が非常
に限定されてしまいゴミ、キズ尋を防ぐことはできるが
特に耐久性に優れる樹脂を直接色素膜上に形成すること
はできなかった。
本発明は上記する欠点を解決したカラーフィルターを提
供するものであり、色素膜上に色素膜を肩出しない下引
層を形成後、保護層を形成することにより、色素層を溶
解する有機溶剤を使用した樹脂であっても、保護層とし
て使用できるカラーフィルターを提供することを主たる
目的とする。
供するものであり、色素膜上に色素膜を肩出しない下引
層を形成後、保護層を形成することにより、色素層を溶
解する有機溶剤を使用した樹脂であっても、保護層とし
て使用できるカラーフィルターを提供することを主たる
目的とする。
本発明によるカラーフィルターは気相堆積法によシ形成
された色素層上に、色素層を溶解しない下引層、該下引
層上に保護層を形成してなることを特徴とするものであ
る。即ち、本発明は従来耐久性、耐湿性に優れた樹脂で
あり女から、色素膜を溶解や白濁させる有機溶剤を含有
するために塗布できなかった樹脂であっても、色素層を
溶解しない。
された色素層上に、色素層を溶解しない下引層、該下引
層上に保護層を形成してなることを特徴とするものであ
る。即ち、本発明は従来耐久性、耐湿性に優れた樹脂で
あり女から、色素膜を溶解や白濁させる有機溶剤を含有
するために塗布できなかった樹脂であっても、色素層を
溶解しない。
下引層を先に形成することによシ、前記の樹脂を保―層
として形成できるようにしたものである。これによシ耐
久性、耐湿性に優れたカラーフィルターの保護層を得る
ことができた。
として形成できるようにしたものである。これによシ耐
久性、耐湿性に優れたカラーフィルターの保護層を得る
ことができた。
本発明に用いる下引層の形成に用いる樹脂は、色素層を
溶解しない溶剤に９溶で下引層形成後は保護層の塗布用
溶剤に溶解しないものである。
溶解しない溶剤に９溶で下引層形成後は保護層の塗布用
溶剤に溶解しないものである。
このような樹脂としては、透明フォトレジストが望まし
く特にはネガ型の各種レジストが好適である。
く特にはネガ型の各種レジストが好適である。
その代表的なもの（商品名）を挙げるとフォトレジスト
としては［ＯＭＲ−８１，８３，８５，８７Ｊ、［０８
Ｒｊおよびｌ−ＴＰ８ Ｊ以上東京応化製、ｒＷａｙｃ
ｏａｔ−ＨＮＲ，ＨＮＲ９９９、Ｎｅｇａｔ：Ｌｖｅ
ＨＲ，工０．Ｔｙｐｅ５ 工ａ、ｓａ−以上ハント製、
「Ｍｉｃｒｏｒｅｓｉｓｔ −７４７，７５２Ｊ Ｋｏ
ｄａｋ社製、遠帖外用レジストとしては「０ＤＵＲ−１
００゜１２０、１１０ＷＲＪ以上東京応化製、電子ビー
ム用レジストとしては［０ＥＥＲ１００Ｊ以上東京応化
製などが挙げられる。
としては［ＯＭＲ−８１，８３，８５，８７Ｊ、［０８
Ｒｊおよびｌ−ＴＰ８ Ｊ以上東京応化製、ｒＷａｙｃ
ｏａｔ−ＨＮＲ，ＨＮＲ９９９、Ｎｅｇａｔ：Ｌｖｅ
ＨＲ，工０．Ｔｙｐｅ５ 工ａ、ｓａ−以上ハント製、
「Ｍｉｃｒｏｒｅｓｉｓｔ −７４７，７５２Ｊ Ｋｏ
ｄａｋ社製、遠帖外用レジストとしては「０ＤＵＲ−１
００゜１２０、１１０ＷＲＪ以上東京応化製、電子ビー
ム用レジストとしては［０ＥＥＲ１００Ｊ以上東京応化
製などが挙げられる。
本発明に用いるフォトレジスト塗布溶剤は、使用する色
素の種類にもよるが、脂肪族炭化水素、芳香族、セロソ
ルブ、エステル、ケトン、アルコール停の溶剤が使用可
能で、またこれらの混合溶剤も使用することができる。
素の種類にもよるが、脂肪族炭化水素、芳香族、セロソ
ルブ、エステル、ケトン、アルコール停の溶剤が使用可
能で、またこれらの混合溶剤も使用することができる。
その場合本発明に用いる色素層は真空中で蒸気化し成膜
できる色素膜材料であればよく、例えばフタロシアニン
系顔料、インインドリノン系顔料、ポリサイクリック系
顔料、ナフトール系顔料、インダスレン系染料、油溶性
染料、分散系染料→がある。又、保映膜に用いる透明樹
脂としては、直接色素膜に塗布すると樹脂に含有される
溶剤、レリえはピロリドン系溶剤等々により色素層の溶
解や白濁が生じてしまい分光透過率の低下等の欠点を有
しているが、膜硬度が高く、耐久性（＃ｆに耐湿性）に
優れる樹脂であれば適宜用いることができ、符にはポリ
イミド系樹脂が好ましい。この場合、ポリイミド系樹脂
の浴剤はすべての溶剤が使用可能で、特には限定されな
い。
できる色素膜材料であればよく、例えばフタロシアニン
系顔料、インインドリノン系顔料、ポリサイクリック系
顔料、ナフトール系顔料、インダスレン系染料、油溶性
染料、分散系染料→がある。又、保映膜に用いる透明樹
脂としては、直接色素膜に塗布すると樹脂に含有される
溶剤、レリえはピロリドン系溶剤等々により色素層の溶
解や白濁が生じてしまい分光透過率の低下等の欠点を有
しているが、膜硬度が高く、耐久性（＃ｆに耐湿性）に
優れる樹脂であれば適宜用いることができ、符にはポリ
イミド系樹脂が好ましい。この場合、ポリイミド系樹脂
の浴剤はすべての溶剤が使用可能で、特には限定されな
い。
沿色１−を設けるだめの基板は、ガラス板、光学用４Ａ
脂板（例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレ
ン、シクロヘキシルメタクリレ−）ナト）、ゼラチン、
ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、
メチルメタクＩＪレート、ポリエステルブチラール及び
ポリアミドなどの樹脂フィルムなどの透明部材である。
脂板（例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレ
ン、シクロヘキシルメタクリレ−）ナト）、ゼラチン、
ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、
メチルメタクＩＪレート、ポリエステルブチラール及び
ポリアミドなどの樹脂フィルムなどの透明部材である。
また、カラーフィルターをカラーフィルターが適用され
る切と一体的に形成する場合、例えばブラウン管表示用
カラー表示用カラー７エイスプレートの場合には支持体
はブラウン管表示曲であシ、また単管式カラーテレビカ
メラの場合には、支持体は撮像管の受光面であシ、液晶
を利用した力２−ディスプレイの場合には支持体はマト
リックス化された液晶層である。
る切と一体的に形成する場合、例えばブラウン管表示用
カラー表示用カラー７エイスプレートの場合には支持体
はブラウン管表示曲であシ、また単管式カラーテレビカ
メラの場合には、支持体は撮像管の受光面であシ、液晶
を利用した力２−ディスプレイの場合には支持体はマト
リックス化された液晶層である。
また、カシ−複写用電子写真感光体の場合には支持体は
電子写真感光体であシ、ＣＯＤやＢＢＤのような固体撮
像素子の場合には支持体は固体撮像素子の基板そのもの
となる。
電子写真感光体であシ、ＣＯＤやＢＢＤのような固体撮
像素子の場合には支持体は固体撮像素子の基板そのもの
となる。
次に本発明における保饅膜の形成方法について述べる。
まず真空蒸着方法によシ色素層を基板上に、形成する。
色素層の厚さは所望の分光特性によシ決められるが通常
１０００〜１００００Ａ程度である。
１０００〜１００００Ａ程度である。
ついでドライエツチング法又はリバースエツチング法に
よシバターンを形成する。なおリバースエツチング法の
場合色素層形成に先立ちアンダーマスクの作成が必要で
ある。
よシバターンを形成する。なおリバースエツチング法の
場合色素層形成に先立ちアンダーマスクの作成が必要で
ある。
このようにして形成された色素パターン上に、下引ｊ−
を塗布形成する。この後プリベーク、全面鈷光、ボスト
ベークを行ないレジストの硬化を完全に行なう。こうす
ることによシ耐溶剤性が向上する。下引）−の厚みとし
ては１０００〜１００００人が適宜用いられ、特には１
０００〜５ｏｏｏｉがよい。次に、この下引層上に保朦
層を塗布形成する。その後ベーキングにょシ完全に硬化
させる。樹脂の厚みとしては１０ｏＯ〜１００００Ａが
適宜用いられ、特には１０ｏＯ〜！５０００Ａがよい。
を塗布形成する。この後プリベーク、全面鈷光、ボスト
ベークを行ないレジストの硬化を完全に行なう。こうす
ることによシ耐溶剤性が向上する。下引）−の厚みとし
ては１０００〜１００００人が適宜用いられ、特には１
０００〜５ｏｏｏｉがよい。次に、この下引層上に保朦
層を塗布形成する。その後ベーキングにょシ完全に硬化
させる。樹脂の厚みとしては１０ｏＯ〜１００００Ａが
適宜用いられ、特には１０ｏＯ〜！５０００Ａがよい。
このようにし七作られた保睦層は下引層の透明樹脂の保
護効果によシ、保１層に用いた透明樹脂の溶剤による色
素膜の溶解、白濁等の影響を受けることなく、膜硬度耐
久性、耐湿性に優れるカラーフィルターの保鹸層を形成
することができる。
護効果によシ、保１層に用いた透明樹脂の溶剤による色
素膜の溶解、白濁等の影響を受けることなく、膜硬度耐
久性、耐湿性に優れるカラーフィルターの保鹸層を形成
することができる。
以下に実施例をあげて本発明について説明する。
実施例
第１図に示すガラス基板上６１にスピンナー塗布法によ
ル、ポジ型レジスト（商品名： ０ＤＵＲ１０１３、東
京応化装）を、５０００〜７０００にの膜厚に塗布した
。
ル、ポジ型レジスト（商品名： ０ＤＵＲ１０１３、東
京応化装）を、５０００〜７０００にの膜厚に塗布した
。
１２０°０２０分のプリベークを行なった後、遠紫外光
にてマスク露光を行ない０ＤＵＲ１０１０￥リーズ用専
用現像奴に３分浸漬し、同じく専用リンス液に２分浸漬
して、アンダーマスクを形成した。次にアンダーマスク
の形成されたガラス基板の全面にｂｇ光を行ない、溶剤
に可溶とした。続いてガラス基板１と％ＭＯボートに詰
めたＮ１−７タロシアニンをＸ空容器内に設置し、真空
度１０−５〜１０−’ ｔｏｒｒにおいてＭＯボートを
４５０〜５５０ ’０に加熱しＮ１−７タロシアニンの
蒸着を行なった。膜厚は３ｏｏｏＸとした′。しかる後
に０ＤＵＲ１０１０シリーズ専用現像液中にて浸漬撹拌
を行ない、アンダーマスクを溶解すると、同時に蒸沿腺
の不費部分を除去し、Ｗ色要素Ｂの色素層をガラス基板
１上に形成した。
にてマスク露光を行ない０ＤＵＲ１０１０￥リーズ用専
用現像奴に３分浸漬し、同じく専用リンス液に２分浸漬
して、アンダーマスクを形成した。次にアンダーマスク
の形成されたガラス基板の全面にｂｇ光を行ない、溶剤
に可溶とした。続いてガラス基板１と％ＭＯボートに詰
めたＮ１−７タロシアニンをＸ空容器内に設置し、真空
度１０−５〜１０−’ ｔｏｒｒにおいてＭＯボートを
４５０〜５５０ ’０に加熱しＮ１−７タロシアニンの
蒸着を行なった。膜厚は３ｏｏｏＸとした′。しかる後
に０ＤＵＲ１０１０シリーズ専用現像液中にて浸漬撹拌
を行ない、アンダーマスクを溶解すると、同時に蒸沿腺
の不費部分を除去し、Ｗ色要素Ｂの色素層をガラス基板
１上に形成した。
航いて、官色要素の形成されたガラス基板１上に同様に
０ＤＵＲ１０１５をスピンナー塗布し露光、現像、リン
ス工程を経て、膜厚１μのアンダーマスクを形成した。
０ＤＵＲ１０１５をスピンナー塗布し露光、現像、リン
ス工程を経て、膜厚１μのアンダーマスクを形成した。
全面露光後、ガラス基板をＸ空容器内に設置してリオノ
グンマゼンタＲ（東洋インキＭ）を４００〜５００ ’
０に加熱し蒸漸を行なった。膜厚は５ｏｏｏｉであった
。
グンマゼンタＲ（東洋インキＭ）を４００〜５００ ’
０に加熱し蒸漸を行なった。膜厚は５ｏｏｏｉであった
。
しかる後に現像液中にて浸漬撹拌し、赤色狭素Ｒの色素
層を形成した。
層を形成した。
さらに同様の工程によりリオノゲンイエローＲＸ （東
洋インキ製）を４００〜５００ ’Ｏに加熱して蒸着後
、不要部分を除去し黄色要素Ｙの色素層を得た。膜厚は
４０００Ａであった。
洋インキ製）を４００〜５００ ’Ｏに加熱して蒸着後
、不要部分を除去し黄色要素Ｙの色素層を得た。膜厚は
４０００Ａであった。
次にネガ型Ｖシスト（商品名、 ０ＤＵＲ１１０ＷＲ。
東京応化製）を４０００〜５ｏｏｏｉの膜厚に塗布し、
６０ ’０５０分のプリベークを行なった後、遠宗外光
にて全面露光を行ない更に１２０’ｏ ３ｏ分のボスト
ベークを行ない下引ＷＪ ２を形成した。絖いてポリイ
ミド系樹脂（商品名：セミコファイン、東し製）を５０
００〜６０００人の膜厚に塗布した。１５０℃！ＩＯ分
のベークを行なった後更に２００℃６０分のベータを行
ない保説層３を形成した。
６０ ’０５０分のプリベークを行なった後、遠宗外光
にて全面露光を行ない更に１２０’ｏ ３ｏ分のボスト
ベークを行ない下引ＷＪ ２を形成した。絖いてポリイ
ミド系樹脂（商品名：セミコファイン、東し製）を５０
００〜６０００人の膜厚に塗布した。１５０℃！ＩＯ分
のベークを行なった後更に２００℃６０分のベータを行
ない保説層３を形成した。
このようにして作成した力２−フィルターは保藏層に用
いｆｃ樹脂中に含有されていた有機溶剤によって色素層
が溶解、白濁およびヒビ割れを生じることは全く無かっ
た。
いｆｃ樹脂中に含有されていた有機溶剤によって色素層
が溶解、白濁およびヒビ割れを生じることは全く無かっ
た。
又、このカラーフィルターの耐久性を調べる為に、８５
℃８５％の環境下に５００時間放置したが、カラーフィ
ルターにクラック等の外観上の変化は無く、また分光透
過率の変化もほとんどなかった。
℃８５％の環境下に５００時間放置したが、カラーフィ
ルターにクラック等の外観上の変化は無く、また分光透
過率の変化もほとんどなかった。
比較として色素ノーに直接セミコファインを塗布したと
ころ樹脂に含まれる溶剤（ビルリドン系溶剤）によシ各
色素層が溶解又は白濁してしまいカラーフィルターの分
光透過率が者しく変化してしまった。
ころ樹脂に含まれる溶剤（ビルリドン系溶剤）によシ各
色素層が溶解又は白濁してしまいカラーフィルターの分
光透過率が者しく変化してしまった。
第１図は本発明の実施例で作成したカラーフィルターの
断面図である。 １・・・ガラス基板 ２・・・下引層 ６・・・保諜層 Ｂ・・・背合ｆｊ、索 Ｒ・・・赤色要素 Ｙ・−・黄色要素
断面図である。 １・・・ガラス基板 ２・・・下引層 ６・・・保諜層 Ｂ・・・背合ｆｊ、索 Ｒ・・・赤色要素 Ｙ・−・黄色要素
Claims (1)
- （１）気相堆積によ多形成した色素膜上に、保薩Ｊ偏の
塗布形成の除色素膜の溶出防止作用を為す下引層および
該下引層の上に保饅層を有することを０徴とするカラー
フィルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58149761A JPS6042705A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | カラ−フイルタ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58149761A JPS6042705A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | カラ−フイルタ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6042705A true JPS6042705A (ja) | 1985-03-07 |
Family
ID=15482162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58149761A Pending JPS6042705A (ja) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | カラ−フイルタ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6042705A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6289906A (ja) * | 1985-06-10 | 1987-04-24 | Nec Corp | カラ−フイルタ− |
| JPS6289905A (ja) * | 1985-06-10 | 1987-04-24 | Nec Corp | カラ−フイルタ− |
| JPS62163016A (ja) * | 1986-01-14 | 1987-07-18 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | カラ−フイルタ− |
| JPS62196868A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-31 | Seiko Epson Corp | カラ−固体イメ−ジセンサ− |
| JPS62280807A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Nec Corp | カラ−フイルタ− |
-
1983
- 1983-08-17 JP JP58149761A patent/JPS6042705A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6289906A (ja) * | 1985-06-10 | 1987-04-24 | Nec Corp | カラ−フイルタ− |
| JPS6289905A (ja) * | 1985-06-10 | 1987-04-24 | Nec Corp | カラ−フイルタ− |
| JPS62163016A (ja) * | 1986-01-14 | 1987-07-18 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | カラ−フイルタ− |
| JPS62196868A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-31 | Seiko Epson Corp | カラ−固体イメ−ジセンサ− |
| JPS62280807A (ja) * | 1986-05-30 | 1987-12-05 | Nec Corp | カラ−フイルタ− |
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