JPS60109292A - 非酸化物系セラミツク配線板の製造法 - Google Patents

非酸化物系セラミツク配線板の製造法

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Publication number
JPS60109292A
JPS60109292A JP21688783A JP21688783A JPS60109292A JP S60109292 A JPS60109292 A JP S60109292A JP 21688783 A JP21688783 A JP 21688783A JP 21688783 A JP21688783 A JP 21688783A JP S60109292 A JPS60109292 A JP S60109292A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
parts
weight
powder
producing
circuit board
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Pending
Application number
JP21688783A
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English (en)
Inventor
堀部 芳伸
宮 好宏
上山 守
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は非酸化物系セラミック配線板(以下配線板とい
う)の製造法に関する。
セラミックスのメタライズ法には厚膜法、薄膜法、メッ
キ法、高融点金属焼付法等がある。酸化物系セラミック
スのメタライズ法としては9例えば金、金−白金、銀、
銀−白金、銀−パラジウム等の貴金属粉にガラス及び結
合剤、溶剤を添加してペースト化したメタライズペース
トをセラミックス上に塗布し、空気中で焼付けするのが
一般的であった。しかし物理的、化学的に安定な非酸化
物系セラミックスに、上記のようなペーストを用いて上
記に示すような方法でメタライズを行なうと、導体部に
泡等が発生し、導体部と基板との満足な接着強度や気密
性が得られない。まだ面j半田性やボンディング性の面
でも満足すべきものではなかった。
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり。
導体部に泡等が発生せず、良好な接着強度及び気密性を
有し、耐半田性やボンディング性の面で満足できうる配
線板を提供することを目的とするものである。
本発明は非酸化物系セラミック焼結体(以下焼結体とい
う)K粒径が0.2〜8μmの貴金属粉100重量部に
軟化点が400〜900℃のガラス粉末を0.2〜5重
量部、結合剤及び溶剤を添加してなる非酸化物系セラミ
ックス用メタライズペーストを塗布し、ついで焼成する
配線板の製造法に関する。
なお9本発明において非酸化物系セラミック焼結体は炭
化珪素焼結体、窒化珪素焼結体等が用いられ、また貴金
属粉としては、金粉、金−白金粉。
銀粉、銀−白金粉、銀−パラジウム粉等が使用され特に
制限はないが9粒径は0.2〜8μmの範囲であること
が必要であり、好ましくは0.5〜5μmである。貴金
属粉の粒径が0.2μm未満では焼成中に泡等が発生し
、接着強度が弱く、8μmを越えると焼結があまり進ま
ずやはり接着強度が弱い。
ガラス粉末の組成は特に制限はないが、?なう珪酸系、
亜鉛−鉛系のガラス又はジルコニア、アルミナ、シリカ
等の酸化物を含むガラスを用いることが好ましい。しか
しその軟化点は400〜900℃の範囲である必要があ
り、好ましくは500〜800℃である。軟化点が40
0℃未満では、ふくれ等が発生し、900℃を越えると
接着強度が弱くなる。更に熱膨張係数が2〜6 X 1
0−6/ 6cのガラス粉末を使用すれば安定した接着
強度が得られるので好ましい。
またガラス粉末の添加量は、0.2〜5重量部であるこ
とが必要であり、0.2重量部未満では接着強度が非常
に弱く、5重量部を越えると泡、ふくれ等が発生し、接
着強度が弱い。
なお9本発明において結合剤としては、エチルセルロー
ス、ニトロセルロース、アクリルfljBW。
エポキシ樹脂等が、溶剤としては、テルピネオール、カ
ルピトールアセテート等が使用されるが。
これらの組成、配合量等については特に制限はない。
ペーストの塗布方法はスクリーン印刷法、珀塗り法等の
方法で行なわれ、また焼成条件については特に制限はな
いが、温度750〜1050℃でN9雰囲気中、大気中
の芥囲気中で焼成することが好ましい。
以下実施例により本発明を説明する。
実施例1 第1表に示す粒径の異なる銀粉80重量部と粒径の異な
るパラジウム粉20重量部との混合粉に第1表に示す各
種のガラス粉末を0〜10重量部。
更に結合剤としてエチルセルロース6M景部、テルピネ
オール40重量部添加して、らいかい機にて均一に混合
してメタライズペーストを得た。
次に炭化珪素焼結体(相対密度90%以上)及び窒化珪
素焼結体(相対密度90チ以上)に前記で得たメタライ
ズペーストをスクリーン印刷し。
ついで750〜1100℃の範囲の温度で焼成して本発
明になる配線板を得た。その後、直径0.8mmの銅線
に錫メッキを施したリード線をはんだ付けし、それを引
剥して接着強度試験を行なった。
また外観の観察も行なった。その試験結果も合わせて第
1表に示す。第1表において外観とは、焼成後のメタラ
イズ部分を顕微鏡観察したものである。
υ、下余白 実施例2 第2表に示す粒径の異なる金粉100重量部に第2表に
示す各種のガラスを1.0〜7.0重量部添加し、以下
実施例1と同様の配合組成及び同様の方法でメタライズ
ペーストを得た。
次に炭化珪素焼結体(相対密度90チ以上)及び窒化珪
素焼結体(相対密度90%以上)に前記で得たメタライ
ズペーストをスクリーン印刷し。
ついで750〜1100℃の範囲の温度で焼成して本発
明になる配線板を得た。その後実施例1と同様の方法で
接着強度試験及び外観1の観察を行なった。その試験結
果及び外観の観察の結果も合わせて第2表に示す。
第1表及び第2表かられかるように1本発明の実施例に
なる配線板は接着強度及び外観が良好であることがわか
る。
本発明の配線板は、焼結体に粒径が0.2〜8μmの貴
金属粉100重量部、軟化点が400〜900℃のガラ
ス粉末0.2〜5重量部、結合剤及び溶剤を混合してな
る非酸化物系セラミックス用メタライズペーストを塗布
し、ついで焼成するので導体部に泡等が発生せず、良好
な接着強度及び気密性を有し、it半田性やボンディン
グ性においても満足すべきものとなる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、非酸化物系セラミック焼結体に粒径が0.2〜8μ
    mの貴金属粉100重量部、軟化点が400〜900℃
    のガラス粉末0.2〜5重量部、結合剤及び溶剤を添加
    混合してなる非酸化物系セラミック用メタライズペース
    トを塗布し、ついで焼成することを特徴とする非酸化物
    系セラミック配線板の製造法。
JP21688783A 1983-11-17 1983-11-17 非酸化物系セラミツク配線板の製造法 Pending JPS60109292A (ja)

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JP21688783A JPS60109292A (ja) 1983-11-17 1983-11-17 非酸化物系セラミツク配線板の製造法

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JP21688783A JPS60109292A (ja) 1983-11-17 1983-11-17 非酸化物系セラミツク配線板の製造法

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JPS60109292A true JPS60109292A (ja) 1985-06-14

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ID=16695463

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JP21688783A Pending JPS60109292A (ja) 1983-11-17 1983-11-17 非酸化物系セラミツク配線板の製造法

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