JPS6011373B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6011373B2 JPS6011373B2 JP91177A JP91177A JPS6011373B2 JP S6011373 B2 JPS6011373 B2 JP S6011373B2 JP 91177 A JP91177 A JP 91177A JP 91177 A JP91177 A JP 91177A JP S6011373 B2 JPS6011373 B2 JP S6011373B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- magnetic recording
- ion implantation
- coercive force
- Prior art date
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関する。
一般に、蒸着またはメッキによる磁性層の形成において
、所望の磁束を得ようとした時、一度に膜を形成すると
、抗磁力が低下して総合的な磁気エネルギーが得られな
いことが知られている。録音再生時の磁気エネルギーと
再生電圧は、ノＢＨ的Ｖｏｕｔであることが知られてい
る。なお、Ｂは磁束、日は抗磁力、Ｖｏｕｔは再生電圧
である。そこで従釆は、一層で適当な抗磁力の得られる
厚みに膜を形成した後、非磁性層を蒸着・またはメッキ
で形成した後、磁性層を重ね、多層化する方法が取られ
ていた。本発明は、多層化の際の分離層である非磁性層
の製造方法についてのものである。第１図は磁性体が蒸
着またはメッキされた基板の断面図を示す。
、所望の磁束を得ようとした時、一度に膜を形成すると
、抗磁力が低下して総合的な磁気エネルギーが得られな
いことが知られている。録音再生時の磁気エネルギーと
再生電圧は、ノＢＨ的Ｖｏｕｔであることが知られてい
る。なお、Ｂは磁束、日は抗磁力、Ｖｏｕｔは再生電圧
である。そこで従釆は、一層で適当な抗磁力の得られる
厚みに膜を形成した後、非磁性層を蒸着・またはメッキ
で形成した後、磁性層を重ね、多層化する方法が取られ
ていた。本発明は、多層化の際の分離層である非磁性層
の製造方法についてのものである。第１図は磁性体が蒸
着またはメッキされた基板の断面図を示す。
図において、１は高分子成形物や非磁性金属等よりなる
基板、２はその表面に形成された磁性層である。第２図
は第１図で示した磁気記録媒体の表面を、イオン注入で
非磁性化した状態を示す断面図である。
基板、２はその表面に形成された磁性層である。第２図
は第１図で示した磁気記録媒体の表面を、イオン注入で
非磁性化した状態を示す断面図である。
図において、３は非磁性層であり、イオン注入によって
形成される。イオン注入によって注入される物質は、磁
性体と化学反応を起し、非磁性化する０２，Ｎ２，ＣＩ
，Ｃ，比等の軽い元素以外に、非磁性材料である銅，ア
ルミ，スズなどの材料でもよく、また不純物として注入
され磁性体が非磁性体になる物質、たとえばＮｊ中への
Ｃｒのイオン注入による非磁性体への移行効果などでも
よく「以上磁性体がイオン注入によって非磁性化するも
のならどんな物質でもよい。第２図の構造では、工程の
繰返し‘こよって多層化され利用される。
形成される。イオン注入によって注入される物質は、磁
性体と化学反応を起し、非磁性化する０２，Ｎ２，ＣＩ
，Ｃ，比等の軽い元素以外に、非磁性材料である銅，ア
ルミ，スズなどの材料でもよく、また不純物として注入
され磁性体が非磁性体になる物質、たとえばＮｊ中への
Ｃｒのイオン注入による非磁性体への移行効果などでも
よく「以上磁性体がイオン注入によって非磁性化するも
のならどんな物質でもよい。第２図の構造では、工程の
繰返し‘こよって多層化され利用される。
非磁性層の厚みはイオン注入量によって制御され作成さ
れるが、磁性体の分離効果は、蒸着膜形のものに比較し
て薄くてよく、また内部歪による反の効果が少ない。第
３図は、基板１に磁性層２を厚く付けておいて後、イオ
ン注入により磁性層面より内部に非磁性層３を設けるこ
とを特徴としたもので、あらかじめ作られた磁性体２内
部に非磁性層３を作成するには、イオン注入の加速エネ
ルギーを適当に選ぶことによって任意の深さに作成する
ことができる。
れるが、磁性体の分離効果は、蒸着膜形のものに比較し
て薄くてよく、また内部歪による反の効果が少ない。第
３図は、基板１に磁性層２を厚く付けておいて後、イオ
ン注入により磁性層面より内部に非磁性層３を設けるこ
とを特徴としたもので、あらかじめ作られた磁性体２内
部に非磁性層３を作成するには、イオン注入の加速エネ
ルギーを適当に選ぶことによって任意の深さに作成する
ことができる。
第４図はイオン注入装置の概略図である。図において、
４はイオン注入装置のの容器で真空容器、５はイオン注
入される磁気記録媒体で、ここではテープ状になってい
る。６はイオン源であり、金属の場合、加熱されて分子
状にされた後、放電を起しイオン化される。
４はイオン注入装置のの容器で真空容器、５はイオン注
入される磁気記録媒体で、ここではテープ状になってい
る。６はイオン源であり、金属の場合、加熱されて分子
状にされた後、放電を起しイオン化される。
軽い元素ではそのまま放電を起しイオン化する。イオン
化された分子は加速電極７で加速される。８は加速電極
７の高圧電源、９は電磁石であり、イオンビームをこの
電磁石９で偏向させ、イオンビームの物質の純度を制御
するものである。
化された分子は加速電極７で加速される。８は加速電極
７の高圧電源、９は電磁石であり、イオンビームをこの
電磁石９で偏向させ、イオンビームの物質の純度を制御
するものである。
イオン６で発生された非磁性材料のイオンは、加速電極
７で加速され、電磁石９で純度が高められ、磁気記録媒
体５に到達する。この際、加速電圧を制御することによ
って、表面層に形成したり、内部に形成したりすること
ができる。第５図は、１層の磁性体膜厚と抗磁力の関係
を表す図である。
７で加速され、電磁石９で純度が高められ、磁気記録媒
体５に到達する。この際、加速電圧を制御することによ
って、表面層に形成したり、内部に形成したりすること
ができる。第５図は、１層の磁性体膜厚と抗磁力の関係
を表す図である。
機軸は一層の膜厚であり、単位は〆である。縦軸は抗磁
力Ｈｃであり、任意目盛である。
力Ｈｃであり、任意目盛である。
抗磁力は膜厚が厚くなるにしたがって低がる傾向にある
。そして抗磁力は材料，製造方法によって変るが、この
傾向は変らない。したがって、抗磁力を変えないで、磁
束を増加させるには、適当な層で多層化する必要がある
。
。そして抗磁力は材料，製造方法によって変るが、この
傾向は変らない。したがって、抗磁力を変えないで、磁
束を増加させるには、適当な層で多層化する必要がある
。
第６図は、多層化した磁性層の厚みと、単層の磁性層の
厚みを、録音再生の出力特性で比較したものである。横
軸は磁性層の膜厚であり、多層の場合、各層の磁性層を
加えたものであり、単層の場合は、磁性層の厚みそのも
のである。縦軸は再生出力であり、測定方法は最高感度
のバイアス電流で、同一レベルの録音を行ない、同一条
件で再生したものである。
厚みを、録音再生の出力特性で比較したものである。横
軸は磁性層の膜厚であり、多層の場合、各層の磁性層を
加えたものであり、単層の場合は、磁性層の厚みそのも
のである。縦軸は再生出力であり、測定方法は最高感度
のバイアス電流で、同一レベルの録音を行ない、同一条
件で再生したものである。
単位は（ｍＶ）であるが、増幅度によって左右れる。特
性Ａはイオン注入による非磁性の分離層を設け、多層化
した磁気記録媒体の膜厚−出力特性である。この特性か
ら見ると、出力と膜厚はノＢＨで比例関係にある。この
ことは磁束は膜厚に比例するが、抗磁力が変らなかった
ことを示す。特性Ｂは単層で作られた磁性膜厚と出力の
関係を示す。
性Ａはイオン注入による非磁性の分離層を設け、多層化
した磁気記録媒体の膜厚−出力特性である。この特性か
ら見ると、出力と膜厚はノＢＨで比例関係にある。この
ことは磁束は膜厚に比例するが、抗磁力が変らなかった
ことを示す。特性Ｂは単層で作られた磁性膜厚と出力の
関係を示す。
この場合磁性膜厚によって抗磁力が減少するので特性Ａ
に比較して出力は減少する。以上のように本発明のイオ
ン注入により抗磁力を上げるための磁気分離層を設ける
方法は、分離層の磁気的な特性が他の方法に比較して薄
くてよく、これは純度が上がるためと考えられる。また
単層の厚い膜を作っておいて後にイオン注入によって分
離することもできるなど、その製造方法は非常に効果的
な方法である。
に比較して出力は減少する。以上のように本発明のイオ
ン注入により抗磁力を上げるための磁気分離層を設ける
方法は、分離層の磁気的な特性が他の方法に比較して薄
くてよく、これは純度が上がるためと考えられる。また
単層の厚い膜を作っておいて後にイオン注入によって分
離することもできるなど、その製造方法は非常に効果的
な方法である。
第１図〜第３図は本発明の製造方法を説明するための磁
気記録媒体の断面図、第４図は本発明の製造方法に使用
するイオン注入装置の一例の概略構成図、第５図は磁気
記録媒体の抗磁力特性図、第６図は同出力特性図である
。 １・・…・基板、２・・…’磁性層、３・・・・・・非
磁性層。 総１図俗２図 第３図 第４図 節５図 節６図
気記録媒体の断面図、第４図は本発明の製造方法に使用
するイオン注入装置の一例の概略構成図、第５図は磁気
記録媒体の抗磁力特性図、第６図は同出力特性図である
。 １・・…・基板、２・・…’磁性層、３・・・・・・非
磁性層。 総１図俗２図 第３図 第４図 節５図 節６図
Claims (1)
- １ 高分子成形物，非磁性金属等よりなる基板に磁性層
を形成した後、その磁性層表面に非磁性材料をイオン注
入して非磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP91177A JPS6011373B2 (ja) | 1977-01-07 | 1977-01-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP91177A JPS6011373B2 (ja) | 1977-01-07 | 1977-01-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5385404A JPS5385404A (en) | 1978-07-27 |
| JPS6011373B2 true JPS6011373B2 (ja) | 1985-03-25 |
Family
ID=11486850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP91177A Expired JPS6011373B2 (ja) | 1977-01-07 | 1977-01-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6011373B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57179949A (en) * | 1981-04-29 | 1982-11-05 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS6085439A (ja) * | 1983-10-18 | 1985-05-14 | Nippon Mining Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP4912221B2 (ja) * | 2007-05-31 | 2012-04-11 | 宗司 中川 | 内燃機関のスキッシュ流発生方法とその構造 |
-
1977
- 1977-01-07 JP JP91177A patent/JPS6011373B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5385404A (en) | 1978-07-27 |
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