JPS60116687A - チエノピロール誘導体、その製造方法および前記誘導体を含有する医薬組成物 - Google Patents
チエノピロール誘導体、その製造方法および前記誘導体を含有する医薬組成物Info
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- JPS60116687A JPS60116687A JP59236545A JP23654584A JPS60116687A JP S60116687 A JPS60116687 A JP S60116687A JP 59236545 A JP59236545 A JP 59236545A JP 23654584 A JP23654584 A JP 23654584A JP S60116687 A JPS60116687 A JP S60116687A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新しいチェノC2、3−b 〕ビロール誘ノ
:+、C体、その製造法およびこれらを含有する医薬組
成物に関する。
:+、C体、その製造法およびこれらを含有する医薬組
成物に関する。
本発明は、特に一般式
%式%
(式中、Rは水素原子、1個から5個までの炭素原子を
有する直鎖または分校アルギル 基、アルカリ金属才たはアルカリ土類 金属、アンモニウム基またはアルキル 基または各アルキル基が1個から5個 までの炭素原子を含有するモノ−、ジ ーまたはトリーアルキルアンモニウム 基を表わし、 R1は水素原子または1個から5個才での炭素原子を有
する直鎖または分枝ア ルキル基を表わし、 R2け水素原子、1個から5個までの炭素原子を有する
直鎖またCオ分分校アルギル基フェニル基、すたはアル
キル基が 直鎖または分枝であり、かつ1個から 541、S] tでの炭素ノヴ子を含有するフェニルア
ルキル基を表わし、 R3およびR4は四−茨たけ異なり、各々が水素原子、
ハロケリ原子または各1 個から5個才での炭素原子を有する直 ψ]4または分枝アルキル基才たはアルコキシ基を表わ
すかまたは R3およびR4は、−緒になって、これらが結合してい
るフェニル基と共にナフ チル基を形成するための式−CH=C’H−CI(=C
H−の基を表イっす) のチェノ(2,S−b:]−ビロールHδ尋体に関する
。
有する直鎖または分校アルギル 基、アルカリ金属才たはアルカリ土類 金属、アンモニウム基またはアルキル 基または各アルキル基が1個から5個 までの炭素原子を含有するモノ−、ジ ーまたはトリーアルキルアンモニウム 基を表わし、 R1は水素原子または1個から5個才での炭素原子を有
する直鎖または分枝ア ルキル基を表わし、 R2け水素原子、1個から5個までの炭素原子を有する
直鎖またCオ分分校アルギル基フェニル基、すたはアル
キル基が 直鎖または分枝であり、かつ1個から 541、S] tでの炭素ノヴ子を含有するフェニルア
ルキル基を表わし、 R3およびR4は四−茨たけ異なり、各々が水素原子、
ハロケリ原子または各1 個から5個才での炭素原子を有する直 ψ]4または分枝アルキル基才たはアルコキシ基を表わ
すかまたは R3およびR4は、−緒になって、これらが結合してい
るフェニル基と共にナフ チル基を形成するための式−CH=C’H−CI(=C
H−の基を表イっす) のチェノ(2,S−b:]−ビロールHδ尋体に関する
。
また、本発明は、
一般式H
0CH3
(式中、R2は@記に示す意味を治す)の誘導体を、一
般式2 (式中、式およびR4は前記?こ示す意味を有す)の7
4k 2−9体と、K2CO2およびアセトンの存在下
に処理して、一般式■ OH3 (式中、R2、R3およびR4は前記lこ却、定された
通りである) の誘導体を得、この化合物■をKNO2、HCz/H2
0およびCH30Hで処理して、一般式V(式中、R2
、R3およびR4は前記に示す意味を有す) の化合物を得、とのイし合物をエタノール中アヂピスイ
ソゾチロニトリルlこよって脱ジアゾ化して一般式■ (式中、R2、R3およびR4は、前記に示す意味を有
す) の化合物を得、この化合物を’i! 1” NaOH/
R2,O/C2H50H。
般式2 (式中、式およびR4は前記?こ示す意味を有す)の7
4k 2−9体と、K2CO2およびアセトンの存在下
に処理して、一般式■ OH3 (式中、R2、R3およびR4は前記lこ却、定された
通りである) の誘導体を得、この化合物■をKNO2、HCz/H2
0およびCH30Hで処理して、一般式V(式中、R2
、R3およびR4は前記に示す意味を有す) の化合物を得、とのイし合物をエタノール中アヂピスイ
ソゾチロニトリルlこよって脱ジアゾ化して一般式■ (式中、R2、R3およびR4は、前記に示す意味を有
す) の化合物を得、この化合物を’i! 1” NaOH/
R2,O/C2H50H。
次いでHCf/H20をもって処理して一般式1M(式
中、R2、Rr5およびR4は前記に示す意味を有す) の化合物を得、この化合物を銅およびキノリンの存在下
に加熱して、一般式■ (式中、R2、R3およびR4は前記に示す意味を有す
) の化合物を得、この化合物を一般式■ 1 (式中、R1は前記に示す意味を有し、R′は水素原子
を除いてRと同じ意味を有す) の@導体と、C2H5ONa/ C2H50Hの存在下
に処理して一般式■′ (式中、R′、lG5R2、R3およびR4は前記に示
す意味を有すン の誘導体を得、この誘導体(I′)をNaOH/R20
/ C2H50H。
中、R2、Rr5およびR4は前記に示す意味を有す) の化合物を得、この化合物を銅およびキノリンの存在下
に加熱して、一般式■ (式中、R2、R3およびR4は前記に示す意味を有す
) の化合物を得、この化合物を一般式■ 1 (式中、R1は前記に示す意味を有し、R′は水素原子
を除いてRと同じ意味を有す) の@導体と、C2H5ONa/ C2H50Hの存在下
に処理して一般式■′ (式中、R′、lG5R2、R3およびR4は前記に示
す意味を有すン の誘導体を得、この誘導体(I′)をNaOH/R20
/ C2H50H。
次いで均酸溶液と処理して一般式f“
(式中、R1、R2、R3およびR4は前記に示す意味
を有す) の誘導体を得ることを特徴とする、一般式■の誘導体の
製造方法にも関する。
を有す) の誘導体を得ることを特徴とする、一般式■の誘導体の
製造方法にも関する。
誘導体(1′)および(■“)の集合体は、一般式■の
誘導体の全体を形成する。
誘導体の全体を形成する。
一般式■の出発物質は、K、GewaldらによるCh
em、Ber、 (1966) 99、P、94および
2712により既知の原料から製造された。
em、Ber、 (1966) 99、P、94および
2712により既知の原料から製造された。
一般式■の誘導体は、興味深い薬理学的性質、特に鎮痛
性を有ししかも弱い抗炎症性を有する。
性を有ししかも弱い抗炎症性を有する。
これらの祥性は、低く、シかもマウスにおいて経口で確
めたそのLD50は1000 my/Icyより大きい
。
めたそのLD50は1000 my/Icyより大きい
。
本発明の誘導体の鎮痛活性は、特にフェニルベンゾキノ
ンにより誘発された腹部連理に関する、L、C,Hen
dershot 、 J、J、 Foz13aithの
J 、Pharmacol。
ンにより誘発された腹部連理に関する、L、C,Hen
dershot 、 J、J、 Foz13aithの
J 、Pharmacol。
Exp、Ther、 (1959L 125.237に
よる試験および酢酸によって誘発された苦悶に関するR
、KosterXM、Andersonlに、S、 、
de BeerのJ’ed、Pro−c、 (1959
)、18.412による試験によって示された。これら
の試験の各々について、本発明の誘導体の場合の平均有
効用量gD5゜は、マウスに経口投与する場合に50
mg / kyと200m9/に41の間である。
よる試験および酢酸によって誘発された苦悶に関するR
、KosterXM、Andersonlに、S、 、
de BeerのJ’ed、Pro−c、 (1959
)、18.412による試験によって示された。これら
の試験の各々について、本発明の誘導体の場合の平均有
効用量gD5゜は、マウスに経口投与する場合に50
mg / kyと200m9/に41の間である。
一般式Iの誘導体の前記の薬理学的性質および低77j
性によってこれらの誘導体は急性または慢性疼痛 tJ
ケに炎症反応(リウマチ痛または関節症、関節炎、力要
部坐骨神経痛など)、外傷、外傷後または術後の疼痛、
oRLl 口腔病的あるいは性尿器領域の疼痛、および
若干の頭部疼痛、神経痛、片頭4i@および癌痛さ関連
ある疼痛の治療において主に療法的に使用できる。
性によってこれらの誘導体は急性または慢性疼痛 tJ
ケに炎症反応(リウマチ痛または関節症、関節炎、力要
部坐骨神経痛など)、外傷、外傷後または術後の疼痛、
oRLl 口腔病的あるいは性尿器領域の疼痛、および
若干の頭部疼痛、神経痛、片頭4i@および癌痛さ関連
ある疼痛の治療において主に療法的に使用できる。
また、本発明は、例えば蒸留水、グルコース、ラクトー
ス、デンプン、タルク、エチルセルロース、ステアリン
酸マグネシウムまたはココア脂のような適切な医薬付膨
剤と混合または組み合せたー股式Iの化合物を活・朋成
分吉して含有する医薬組成物にも関する。
ス、デンプン、タルク、エチルセルロース、ステアリン
酸マグネシウムまたはココア脂のような適切な医薬付膨
剤と混合または組み合せたー股式Iの化合物を活・朋成
分吉して含有する医薬組成物にも関する。
このようにして得られた医薬組成物は、一般に/!il
j形であり、しかも活性成分25ノ+yから2501!
9才でを含有し?qる。これらの組成物は、例えば錠剤
、糖剤、セ゛ラチンコーチング丸剤、坐剤、注射性また
は飲用液剤の形または軟骨の形であっても良く、シかも
問題の症例によって、1日当たり25 m!7から25
0 ml/までの用献で1回から4回まで経口、経直腸
非経口または局所投与されてもよい。
j形であり、しかも活性成分25ノ+yから2501!
9才でを含有し?qる。これらの組成物は、例えば錠剤
、糖剤、セ゛ラチンコーチング丸剤、坐剤、注射性また
は飲用液剤の形または軟骨の形であっても良く、シかも
問題の症例によって、1日当たり25 m!7から25
0 ml/までの用献で1回から4回まで経口、経直腸
非経口または局所投与されてもよい。
下記の例は、本発明を説明し、特記しない限り、融点は
Kofler熱板を用いて測定する。
Kofler熱板を用いて測定する。
例 1
6−メチル−5−ベンゾイル−6−カルポキシメチルチ
エノ H2 OOH K.()ewaldの方法により製造された2−アセト
アミド−6−ジアツー4−メチル−5−エトキシカルボ
ニルチオフェン250gをアセトン1500me中でα
−ブロモアセトフェノン250gおよび炭酸カリウム2
20gと24時間還流する。次いで全部を氷水4 0
0 0 me中で沈殿する。イむられた沈殿をろ過し、
水/エタノール(1/1)の氷冷混合物10DO#+7
4をもって洗浄し、次いで乾燥し、最後にシクロヘキサ
ン/ベンゼン(9/1’)の冷混合物1000+++l
をもって洗浄するOこのようにして2−エトキシカルボ
ニル−5−)チ)シー4−アミノ−5−ベンゾイル−6
−アセチルチェノC 2 、 5−b )ビロール29
51を得る。
エノ H2 OOH K.()ewaldの方法により製造された2−アセト
アミド−6−ジアツー4−メチル−5−エトキシカルボ
ニルチオフェン250gをアセトン1500me中でα
−ブロモアセトフェノン250gおよび炭酸カリウム2
20gと24時間還流する。次いで全部を氷水4 0
0 0 me中で沈殿する。イむられた沈殿をろ過し、
水/エタノール(1/1)の氷冷混合物10DO#+7
4をもって洗浄し、次いで乾燥し、最後にシクロヘキサ
ン/ベンゼン(9/1’)の冷混合物1000+++l
をもって洗浄するOこのようにして2−エトキシカルボ
ニル−5−)チ)シー4−アミノ−5−ベンゾイル−6
−アセチルチェノC 2 、 5−b )ビロール29
51を得る。
融点188℃。
同じ方法で、
−2−エトキシカルボニル−
ミノ−5−(p−メチルベンゾイル)−6−アセチルチ
ェノ[2,5−b)ビロール、 融点198〜199°C1 −2−エトキシカルボニル− アミノ−5−ベンゾイル−6−アセチルチェノ[2.3
−b:]ビロール、 融点149℃、 −2−エトキシカルボニル−6−メチル−4−アミノ−
5−(3.4−ジメトキシベンゾイル)−6−アセチル
チェノ[:2.3−b)ビロール、融点204℃、 −2−エトキシカルボニル−6−メチル−4−アミノ−
5−(2−ナフトイル)−6−アセチルチェノ[2.3
−b)ビロール、 吊虫点 220 〜 2 2 1 ℃、−2−エトキシ
カルボニル−6−メチル−4−アミノ−5−(p−クロ
ロベンゾイル)−6−アセチルチェノ[2,3−b)ビ
ロール、 融点140℃、 −2−エトキシカルボニル−6−メチル−4−アミノ−
5−(p−メトキシベンゾイル)−6−アセチルチェノ
[2.5−blビロール、〜す;点2 0 1 °C が得られた。
ェノ[2,5−b)ビロール、 融点198〜199°C1 −2−エトキシカルボニル− アミノ−5−ベンゾイル−6−アセチルチェノ[2.3
−b:]ビロール、 融点149℃、 −2−エトキシカルボニル−6−メチル−4−アミノ−
5−(3.4−ジメトキシベンゾイル)−6−アセチル
チェノ[:2.3−b)ビロール、融点204℃、 −2−エトキシカルボニル−6−メチル−4−アミノ−
5−(2−ナフトイル)−6−アセチルチェノ[2.3
−b)ビロール、 吊虫点 220 〜 2 2 1 ℃、−2−エトキシ
カルボニル−6−メチル−4−アミノ−5−(p−クロ
ロベンゾイル)−6−アセチルチェノ[2,3−b)ビ
ロール、 融点140℃、 −2−エトキシカルボニル−6−メチル−4−アミノ−
5−(p−メトキシベンゾイル)−6−アセチルチェノ
[2.5−blビロール、〜す;点2 0 1 °C が得られた。
このようにして得られた2−エトキシカルボニル−3−
メチル−4−アミノ−5−ベンゾイル−6−アセチルチ
ェノ〔2.3−b:]ビロールを、メタノール2000
m/l!に懸濁し、次いてこれにHcz( 4 N )
2 5mlの部分およびH2O 2Q lnl中の硝
酸カリウム8.5ダの部分を、出うd動員また(まその
脱アセチル化類似体が消失するまで加える。次いで、反
応混合物をろ過し、水/メタノール1/1の混合物をも
って洗浄し、得られた生成物2−エトキシカルボニル−
3−メチル−4−ジアゾ−5−ペンゾイルー〔4H〕−
チェノ(2,3−b:1ビロールをそれ自体下記の方法
で用いる。再結晶試料は180℃において融解する。
メチル−4−アミノ−5−ベンゾイル−6−アセチルチ
ェノ〔2.3−b:]ビロールを、メタノール2000
m/l!に懸濁し、次いてこれにHcz( 4 N )
2 5mlの部分およびH2O 2Q lnl中の硝
酸カリウム8.5ダの部分を、出うd動員また(まその
脱アセチル化類似体が消失するまで加える。次いで、反
応混合物をろ過し、水/メタノール1/1の混合物をも
って洗浄し、得られた生成物2−エトキシカルボニル−
3−メチル−4−ジアゾ−5−ペンゾイルー〔4H〕−
チェノ(2,3−b:1ビロールをそれ自体下記の方法
で用いる。再結晶試料は180℃において融解する。
得られた生成物をエタノール1500mlおよび10%
のH2SO45mlに加え、次いでアデピスイソゾチロ
ニトリル(ABIN )触媒量を時々加え、次いで形成
されたアセトアルデヒドを留去しながら全体を還流する
。窒素の発生が終わると全体を冷却し、ロータリーエバ
ポレーターを用いてエタノールを蒸発し、次いで形成し
たイソブチロニトリルを減圧下に昇華する。このように
して、それ自体で使用できる2−エトキシカルボニル−
3−メチル−5−ベンゾイルチェノ[:2,3−b)f
ロール200gが得られる。再結晶試料は180゜から
181℃までにおいて融解する。
のH2SO45mlに加え、次いでアデピスイソゾチロ
ニトリル(ABIN )触媒量を時々加え、次いで形成
されたアセトアルデヒドを留去しながら全体を還流する
。窒素の発生が終わると全体を冷却し、ロータリーエバ
ポレーターを用いてエタノールを蒸発し、次いで形成し
たイソブチロニトリルを減圧下に昇華する。このように
して、それ自体で使用できる2−エトキシカルボニル−
3−メチル−5−ベンゾイルチェノ[:2,3−b)f
ロール200gが得られる。再結晶試料は180゜から
181℃までにおいて融解する。
同じ方法によって、
−2−エトキシカルボニル−3−メチル−5−(p−メ
チルベンゾイル)チェノ(2,3−b)ビロール、 融点198℃、 −2−エトキシカルボニル−6−プロピル−5−ベンゾ
イルチェノ(2,3−b)ビロール、融点151℃、 −2−エトキシカルボニル−3−メチル−5−(3,4
−ジメトキシベンゾイル)チェノ〔2゜6−b〕ビロー
ル、 融点270〜272℃、 −2−エトキシカルボニル−3−メチル−5−(少−ナ
フトイル)チェノ(2,3−b)ビロール、 〜 融点189〜190℃、 −2−エトキシカルボニル−6−メチル−5−(p−ク
ロロベンゾイル)チェノ[2,3−b)ビロール、 融点195℃、 −2−エトキシカルボニル−6−メチル−5−(p−メ
トキシベンゾイル)チェ/(2,3−h)ビロール、 融点155℃ が得られた。
チルベンゾイル)チェノ(2,3−b)ビロール、 融点198℃、 −2−エトキシカルボニル−6−プロピル−5−ベンゾ
イルチェノ(2,3−b)ビロール、融点151℃、 −2−エトキシカルボニル−3−メチル−5−(3,4
−ジメトキシベンゾイル)チェノ〔2゜6−b〕ビロー
ル、 融点270〜272℃、 −2−エトキシカルボニル−3−メチル−5−(少−ナ
フトイル)チェノ(2,3−b)ビロール、 〜 融点189〜190℃、 −2−エトキシカルボニル−6−メチル−5−(p−ク
ロロベンゾイル)チェノ[2,3−b)ビロール、 融点195℃、 −2−エトキシカルボニル−6−メチル−5−(p−メ
トキシベンゾイル)チェ/(2,3−h)ビロール、 融点155℃ が得られた。
さきに得られた2−エトキシカルボニル−3−メチル−
5−ベンゾイルチェノ(2,3−b)ビロール200g
をNaOH60El、水1500#Ilおよびエタノー
ル150Qmlの混合物中で加水分解が終わるまで(約
15時間)還流する。次いで、エタノールを蒸留し、次
に混合物を冷却、ろ過する。ろ液をP11約6オで酸性
化し、次いでろ過する。
5−ベンゾイルチェノ(2,3−b)ビロール200g
をNaOH60El、水1500#Ilおよびエタノー
ル150Qmlの混合物中で加水分解が終わるまで(約
15時間)還流する。次いで、エタノールを蒸留し、次
に混合物を冷却、ろ過する。ろ液をP11約6オで酸性
化し、次いでろ過する。
得られた生成物を水洗し、次いで乾燥し、それ自体で使
用する(収率はほぼ定量的である)。
用する(収率はほぼ定量的である)。
このようにして得られた酸をキノリン1200m1と混
合する。銅粉末2gを加え、次いで全体を加熱する。脱
炭酸は200℃から210℃までに起こり、温度を沸騰
才で上昇する。全体を冷却1次いで水を加えた塩1m(
4N)の化学量論量中で加水分解する。得られた沈殿を
ろ過し、H(J(N)をもって洗浄し、次いでエタノー
ル中で再結晶するO このようにして、3−メチル−5−ベンゾイルチェノ[
2,3−b)ビロール145g、を得る。
合する。銅粉末2gを加え、次いで全体を加熱する。脱
炭酸は200℃から210℃までに起こり、温度を沸騰
才で上昇する。全体を冷却1次いで水を加えた塩1m(
4N)の化学量論量中で加水分解する。得られた沈殿を
ろ過し、H(J(N)をもって洗浄し、次いでエタノー
ル中で再結晶するO このようにして、3−メチル−5−ベンゾイルチェノ[
2,3−b)ビロール145g、を得る。
融点=199℃。
同じ方法によって、
−3−メチル−5−(p−メチルベンゾイル)チェノ(
2,3−b)ビロール、 融点256℃、 −6−ブロビルー5−ベンゾイルチェノC2,3−b)
ビロール、 融点155℃、 −3−メチル−5−(3,4−ジメトキシ−ベンゾイル
)チェノ(2,3−b)ビロール、融点191℃、 −3−メチル−5−(2−ナフトイル)チェノ(2,3
−b〕ピロール、 融点179℃、 −3−メチル−5−(p−クロロベンゾイル)チェノ(
2,3−b)ビロール、 融点236℃、 −6−メチル−5−(p−メトキシベンゾイル)チェノ
(2,3−b)ビロール、 剃(点198°G がイ仔られな。
2,3−b)ビロール、 融点256℃、 −6−ブロビルー5−ベンゾイルチェノC2,3−b)
ビロール、 融点155℃、 −3−メチル−5−(3,4−ジメトキシ−ベンゾイル
)チェノ(2,3−b)ビロール、融点191℃、 −3−メチル−5−(2−ナフトイル)チェノ(2,3
−b〕ピロール、 融点179℃、 −3−メチル−5−(p−クロロベンゾイル)チェノ(
2,3−b)ビロール、 融点236℃、 −6−メチル−5−(p−メトキシベンゾイル)チェノ
(2,3−b)ビロール、 剃(点198°G がイ仔られな。
エタノール5 Q Q mlに(訃濁されたさきに得ら
れた3−メチル−5−ベンゾイルチェノ[2,3−b〕
ビロールを、エタノール500 mlにナトリウム24
.6 fZを6 ’I’)了すること1こよって暇→−
に製造されたナトリウムエトキシド溶液ζこ加える。次
いて全体を15分ト14拝する。次にゾロモ酢酸エチル
125gを加える。全体を4時間還流し、次いで水酸化
ナトリウムiff&(N)600mgを加えるこさによ
って加水分汀rする。全体を60分還流し、次いで蒸留
によってエタノールを除く。次いで冷却されたm液をろ
過する。ろ液をPH約3fこ酸性化し、次いで得られた
沈殿を水洗し、次にベンゼンとシクロヘキサンの混合物
中で再結晶する。このようにして、6−メチル−5−ベ
ンゾイル−6−カルボキシメチルチェノ[2,3−b)
fロールが得られる。融点197℃。
れた3−メチル−5−ベンゾイルチェノ[2,3−b〕
ビロールを、エタノール500 mlにナトリウム24
.6 fZを6 ’I’)了すること1こよって暇→−
に製造されたナトリウムエトキシド溶液ζこ加える。次
いて全体を15分ト14拝する。次にゾロモ酢酸エチル
125gを加える。全体を4時間還流し、次いで水酸化
ナトリウムiff&(N)600mgを加えるこさによ
って加水分汀rする。全体を60分還流し、次いで蒸留
によってエタノールを除く。次いで冷却されたm液をろ
過する。ろ液をPH約3fこ酸性化し、次いで得られた
沈殿を水洗し、次にベンゼンとシクロヘキサンの混合物
中で再結晶する。このようにして、6−メチル−5−ベ
ンゾイル−6−カルボキシメチルチェノ[2,3−b)
fロールが得られる。融点197℃。
例1に記載された方法により、下記の誘導体が得られた
。
。
ルボキシエチル)チェノ(2,3−b)ビロール、
■co ’ 1620 C1rL−1および1720c
m、 l。
m、 l。
6)3−メチル−5−(p−メトキシベンゾイル)−6
−カルボキシメチルチェノ[:2.3−1blピロール
、 1aす:点= 144 °C1 4)6−メチル−5−(p−クロロベンゾイル)−6−
(α−カルボキシエチル)チェノ〔2゜3−b〕ピロー
ル、 Id’U ” 117〜118℃、相当するナトリウム
塩の融点〉250°c1 5)6−メチル−5−(3,4−ジメトキシベンゾイル
)−6−(α−カルボキシエチル)チェノC2,6−+
b)ビロール、 融点:199°C′、 6)3−(n−プロピル)−5−ベンゾイル−6−(α
−カルボキシエチル)チェノ〔2,6−b〕ビロール、 ■oo:1610c1n−1および17ろDCIIL−
1,7)3−メチル−5−(p−メチルベンゾイル)−
6−(α−カルボキシエチル)チェノ〔2゜6−b〕ピ
ロール、 VCO:1610 C1,IN”および173 Den
−1,8)6−メチル−5−(2−ナフトイル)−6−
(α−カルボキシエチル)チェノ〔2,3−b〕ビロー
ル、 Voo:1615C11L−1および1725c1n−
1゜代理人 浅 村 晧
−カルボキシメチルチェノ[:2.3−1blピロール
、 1aす:点= 144 °C1 4)6−メチル−5−(p−クロロベンゾイル)−6−
(α−カルボキシエチル)チェノ〔2゜3−b〕ピロー
ル、 Id’U ” 117〜118℃、相当するナトリウム
塩の融点〉250°c1 5)6−メチル−5−(3,4−ジメトキシベンゾイル
)−6−(α−カルボキシエチル)チェノC2,6−+
b)ビロール、 融点:199°C′、 6)3−(n−プロピル)−5−ベンゾイル−6−(α
−カルボキシエチル)チェノ〔2,6−b〕ビロール、 ■oo:1610c1n−1および17ろDCIIL−
1,7)3−メチル−5−(p−メチルベンゾイル)−
6−(α−カルボキシエチル)チェノ〔2゜6−b〕ピ
ロール、 VCO:1610 C1,IN”および173 Den
−1,8)6−メチル−5−(2−ナフトイル)−6−
(α−カルボキシエチル)チェノ〔2,3−b〕ビロー
ル、 Voo:1615C11L−1および1725c1n−
1゜代理人 浅 村 晧
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式T R1−CH−C00R (式中、Rは水素原子、1個から5個までの炭素原子を
鳴する1i′+鎖才たは分枝アルキル基、アルカリ金属
また(オアルカリ土類金属、アンモニウム基才な(コア
ルキル基または香アルキル基が1個から5個 才での炭素原子を含有するモノ−、ジ ーまな(−1トリーアルキルアンモニウム粘を表わし、 R1は水系原子または1個から5個才での炭素原子を有
する直鎖または分枝ア ルキル基を表わし、 R2は水素原子、1個から5個までの炭素原子を有する
直鎖または分枝アルキ ル基、フェニル基、またはアルキル基 が泊鎖才たは分枝であり、かつ1個か ら5個までの炭素原子を含有するフェ ニルアルキル基を表わし、 R,およびR4は同一または異なり、各々が水素原子、
ハロゲン原子または各1 個から5個までの炭素原子を治する直 鎖または分枝アルキル基才たはアルコ ニトシ基を表わす力)また6才 R3およびR4は、−緒になって、これらが結合してい
るフェニル基さ共にナフ チル基を形成するための 式−CH=CH−C)J=CH−の基を表わす)のチェ
ノ[2,3−b)ビロール誘与体。 (2)6−メチル−5−ベンゾイル−6−カルボキシメ
チルチェノ〔2,6〜b〕ピロールである、特許請求の
範囲第1項に記載のチェノ[2,3−b〕ビロール誘導
体。 (3)6−メチル−5−ベンゾイル−6−(α−カルボ
キシエチル)−チェノ[2,3−b)ピロールである、
特許請求の範囲第1項lこ記載のチェノ(2,5−bl
ビロール誘導体。 (4)6−メチル−5−(p−メトキシベンゾイル)−
6−カルボキシ−メチルチェノ(2,3−b)ピロール
である、特許請求の範囲第1項に記載のチェノ(:2,
3−b)ピロール誘導体。 (5(6−メチル−5−(p−クロロベンゾイル)−6
−Cα−カルホキジエチル 6−b〕ビロールである、特許請求の範囲第1項に記載
のチェノ[2,3−b)ピロール誘導体。 (6)一般式■ C O C H:s (式中、R2、特許請求の範囲第1項に示す意味を有す
) H3 (式中、R2、R3およびR4は特許請求の範囲第1項
tこ示す意味を有す) の化合物を得、この化合物をエタノール中アゾビスイソ
ブチロニトリルによって脱ジアゾ化して一般式■ (式中、R2 、R3およびR,は特許請求の範囲第1
項に示す意味を有す) の化合物を得、この化合物を薗ず NaOH/ H20/C2H50H,次いでHCJ/H
20をもって処理して 一般式■ (式中、’R2 、R3およびR4は特Ft−請求の範
囲第1項に示す意味を有すン の化合物を得、この化合物を銅およびキノリンの存在下
に加熱して一般式■ (式中、R2 、R3およびR4は特許請求の範囲第1
J1i1に示す意味を有す) の誘導体を得、この誘導体を一般式V 1 (式中、R1は特許請求の範囲第1項に示す意味を有し
、R′はΔ(婚原子を除いて特許請求の範囲第1項に示
すRと同じ意味を有す) の誘導体き、C2H5ONa、/ C2H50Hノ存扛
下K11lLWI、 3て、一般式I′ (式中、R′、R1、R2、R3およびR4は前記に示
す意味を有す) の誘導体を得、この、j% 4体(I′)をNaOH/
H20/C2F(50H’。 次いで塩酸浴液で処理して、一般式r“R1−CH−C
00H (式中、R1、R2、R3およびR4は%許詣求の範囲
第1項に示す意味を有す) の誘導体を7むることを特徴とする特許請求の範囲第1
項の化合物の製造方法。 (7)活性成分として、翁許晶求の1m11第1項の化
合物を適当な伺形剤と共に含治する、医薬組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8317866 | 1983-11-10 | ||
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