JPS60117251A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、基板ホルダーの基板保持部を回動することに
より、基板の角度を有して構成される２つの面を、基板
を取外すことなくマスクを介して露光するようにしたマ
スクアライメント装置に関するものである。

従来例の構成とその問題点 近年、マスクアライメント装置は、半導体素子の生産あ
るいは配線パターンの高密度化に欠くことのできない装
置として、その要求に合せて各種のマスクアライメント
装置が開発されている。

以下に従来のマスクアライメント装置について説明する
。

第１図、第２図は従来のマスクアライメント装置を示す
もので、第１図が］二面図、第２図が側面図である。

第１図、第２図において、１は露光用光源、２ハ顕微鏡
％３はマスクホルダー、４は基板ホルダ−１５は後述す
る基板とマスクの位置合ぜを行う調整機構で、６は操作
部であるｎ　ｒｌ！Ｉ記露光用元源１は、紫外線を平行
光にして発するようなされ、基台７に固定された支持１
拳８１／ｉｌ：取（＝Ｊりられている。

この露光用光源１から出た平行光はマスク９全通して基
板１０に照射される。前記顕微鏡２はマスク９に形成さ
れたパターンと基板１０どを見て、調整機構６でマスク
９のパターンと基板１０どの位置合せを行うもので、ガ
イド（４・ζ１１，１２に１１１１動可能に取付けられ
、露光を行う場合Ｖこは矢印方向に移動きせて、露光用
光源１のｙｒ：、’を遮断しないよう構成されている。

７１：た、マスクボルダ−３１’、ｉマスク９を真空吸
着などで固定し、マスク９のパターン形成部分は穴（図
示せず）を設けて露光用光源１の光を遮断しないよう構
成されている。このマスクホルダー３は矢印Ａの方向に
回動して２点鎖線で示した状態１で回動ｉ１ｊ能に支持
板１３゜１３′に取伺けられ、第１図の状態で支持板１
３゜１３′に真空吸着などにより固定されるよう構成さ
れている。そして、マスク９の取付け、取外しは、マス
クホルダ−３全２点鎖線の位置にした状態で行われる。

また、マスク９は基板１０側の面に露光用光源１の光音
遮断あるいは通過させるよう所定のパターン（図示せず
）を形成している。前記基板１ｏはマスク９側面に感光
性樹脂が数ｐｍの厚さで均一に塗布されており、マスク
９を通過した光で感電性樹脂が感光されるよう構成され
ている。また、基板ホルダー４は基板１０を真空吸着し
て固定し、マスク９のパターン形成面と基板１０の感光
性樹脂塗布面が密着あるいは微小な間隔全１１′ｉいて
平行になるようにするため、球面部４ａが設けられてい
る。前記調整機構５Ｆｉ、Ｘ方向、Ｙ方向および０の３
調整部と、基板１０とマスク９とが密着したり微小な間
隔を置いて平行となるように取る位置と、離間させるだ
めのＺ軸方向の４方向の調整ができるよう構成されると
共に、基板ホルダー４の球面ｔＪ　４２Ｌの一部と嵌合
する球面座５２Ｌを設け、基板１０とマスク９全離間さ
せた状態からＺ　１ｌｌｌ＋方向の調整で基板１０（ｉ
７マスク９に近づけるとき、自動的に基板１ｏの感光性
樹脂形成面とマスク９のパターン形成面とが％　”ｉＮ
着または微小な間隔を置いて平行となるよう自動的に調
整することができるよう構成されている。前記操作部６
は、露光用光源１の光のＯＮ、０ＦＦ（通常、光源１は
点燈された！、まで露光用う“Ｃ源１内に設けられたシ
ャック−のＩ；ｉ′１閉で露光用光源１のＯＮ。

０ＦＦｅ行う。）、マスクホルダー３の真空吸着、基板
ホルダー４の真空吸着、支持板１３．１３’の真空吸着
等の操作が１ケ所に１とめて行われ２）ようなされてい
る。１４．１４′ｔまガイド棒１１，１２全両端で支持
し基台７に固定している固定具である。

以上のように構成さり、ｆｃ従来のマスクアライメント
装置について、露光方法を説明する。

捷ず、顕微鏡２を矢印方向に移動させ、マスクホルダー
３を２点鎖線の位１１“１１に回動さ１−ると共に調整
機構６のＺ軸調整でマスク９と基板１ｏが肉［］間した
状態の位置へ基板ホルダー４を移動させる。

次に、マスク９および基板１０’ｉ、マスクホルダー３
．基板ホルダー４にそれぞれ真空吸着させて固定する。

次に、マスクホルダー３を回動させて第１図の状態とし
、支持板１３．１３’で真空吸着し７固定する。次いで
、顕微鏡２を第１図の状態にもどし、ｉＪ微鏡２でマス
ク９のパターンおよび基板１０ｆｆ：見ながら各方向調
整を行い、マスク９のノリーンと基板１０と全所定の状
態に位置合せを行い、顕微鏡２全矢印方向に移動させて
露光用光源１の光を遮断しないようにする。次に、露光
用光源１を所定の時間ＯＮの状態にして基板１０の感光
性樹脂膜を感光させる。

次に、調整機構６の２軸調整でマスク９と基板１ｏ　ｘ
　ｒｎ間させると共に、支持板１３９１３’の真空吸着
全解除してマスクホルダー３を２点鎖線の状態に回動さ
せる。次に、基板ホルダー４の真空吸着を解除して基板
１０を取り出すと、マスクアライメントによる感光性樹
脂を感光させる露光工程が終了する。

以上のような方法で基板１０の一面に塗布された感光性
樹脂をマスクパターン全通して露光することができる。

寸だ、露光用光源およびマスフラノ、（板の両ｆｌｌｌ
ｌに設けて基板の対向する両面に同１１４Ｖこ露）ＹＳ
を行うマスクアライメント装置もある。

しかしながら、前記のような構成では、第３図に示すよ
うに基板１０の１０ｄ面と１０ｂ面の」：うに互いに対
向するＹ行な２平而の露光は同１時に行うことができる
が、ＩＱＩＬ面と１００面のように角度を持って構成さ
れる２つの面をマスクボルダ−に一度保持した状態で２
つの面を露光するということはできないという問題点を
有していた。

才だ、一度１０！Ｌ面全露光して次に１０Ｃ面を露光す
るという方法では、第４図に示すように微細なパターン
Ｐを１０ｉＬ面と１００面に連続して形成するための露
光を行うことができないという問題点を持っていた。

発明の目的 本発明の目的は前記従来の間；但点を解消するもので、
基板ホルダーに一度基板’；ｃ　ＪＢ、４：Ｊけた状態
で角度を有して形成された２つの面をマスクを通してｊ
；露光することのできるマスクアライメント装置全提供
することＫある。

発明の構成 この目的を達成するために本発明は、露光用光源と、マ
スクホルダーと、基板ホルダーと全備えたマスクアライ
メント装置であり、基板ボルダ−の基板保持部全回動可
能とし、と）２によって基板の一面全露光した後、角度
を有して形成される他の一面を基板保持部を回動させて
露光することにより、基板を保持しなおすことなく、基
板の角度を有する２つの面に露ブ（：ヲ行うこＪ：ので
きるものである。

実施例の説明 以下、本発明の一実施例につい−Ｃ図面を参照しながら
説明する。

第６図、第６１凶は本発明の一実施例のマスクアライメ
ント装置金示す正面図と側面図である。

第５図と第６図において、１５は露光用光源、１６は光
学顕微鏡、１７はマスクホルダー、１８はマスク、１９
は基板、２０は基板保持部材、２１は位置合せ手段、２
２は操作盤である。そして。

露光用光源１５は紫外線の平行光をマスク１８゜基板１
９に向って１［６射する。この露光用光源１６０平行光
の照射、遮断は、露光用光６＋；ｉ　１６にシャッター
（図示１−でいない）を内蔵し、て、シャック−の開閉
を操作盤２２で操作することにより行うよう構成し、基
台２３に固定したケ１、Ｙ棒１６２Ｌに固定している。

また、光学顕微鏡１６＆：ｌ−％マスク１８、基板１９
および基板保持部４Ａ２０を兄ながら位置合せ手段２１
により、マスク１８と１．！１１板１９、あるい（ｄマ
スク１８と基板保持Ｔ？ｌ＋　４Ａ’　２０との位置合
せを行うもので、取例棒１ｅ　ａ　を介して摺動１−ｉ
）能ｌで案内棒１６ｂ、１６０，１６ｄに取イマｊけ、
露光用光源１６の光を基板１９に１１（補、Ｉする場合
は矢印方向に摺動移動させて、露）℃用光源１６の光を
遮断しないよう構成している。前記案内棒１６ｂ。

１６０．１６１１は基台２３に固定した保持金具１６ｅ
ｌ、１６ｆに固定している。前記マスクボルダ−１７は
マスク１８をその外周γτ１≦で真空吸着して固定し、
露光用光源１６の光をマスク１８の必要範囲に照射でき
るよう穴（図示していない）を設けている。このマスク
ホルダー１７はマスク１８の真空吸着操作が操作盤２２
で行えるよう可撓性パイプ１７＆で操作盤２２と接続１
〜でいる。また、マスクホルダー１７は基台２３に固定
された取付板２４．２４’に回動自在に取付けられ、第
２図の２点鎖線で示す状態まで回動範囲金持ち、第１図
の状態で取付板２４．２４’に真空吸着で固定する」：
う構成している。そして、取伺板２４．２４’は可撓性
パイプ２４１Ｌ、２４’ａによりそれぞれ操作盤２２に
連結され、マスクホルダー１７の真空吸着操作が操作盤
２２で行えるようにし７ている。

マスク１８は第７図に示すように、露光用光源１６の光
を透過する部分（白ぬき部で図示）と光音遮断する部分
（黒点で図示）からなる所定のパターンを基板１９側の
面に形成している。第７図において、１８八は基板１９
の一面を露光するだめのパターンで、１８ｂは基板１９
の他の一面を露光するだめのパターンで、１８Ｃは基板
保持部材２０との位置合せを行うためのパターンである
。

基板１９は第８図に示すように、板状で面１９ａ。

１９ｂ、１ｇｏに銅などの導体層１９Ｃ１を形成すると
共に、面１９ａ、１９ｂの表面に感光性樹脂膜１９ｅを
数μｎｌの厚みで均一に形成し、がっ面１９ａと面１９
ｂば９ｏ０の角度を有している。基板１９とマスク１８
との関係に［、基板１９の長さＬをマスク１８の長さｌ
と略々間等にし、基板１９の巾Ｗがマスク１８のパター
ン１８　ａ　（７）Ｗ　ト対１６し、基板１９の厚さＨ
がマスク１８のパターン１８ｂに対応するような関係で
ある。基板１９とマスク１８は上記関係ヲ長って構成さ
れている。

第９図は基板保持耶４２２０を示す分Ｍ’ｌ′ネ；１祝
図である。第９図において、２５は支１、−基台、２６
　ｉ（１：基板取付金具、２７．２８は支４１金具、２
９は球面台である。ｔ？ｉＪ記支持台２６　ｒｊ：　：
＋の字型形状で内側に基台取付金具２６が位ＩＣＴ　Ｌ
、両端に支持金具２７．２８’ｉそれぞれねじ２９で取
（−Ｊけていると共に球面台２９を底面に取付ける」、
う構成している。前記基板取付金具２６はベーｊ′リン
グ３０，３０′を介して支持金具２７．２８に回動可能
にＩＩＶ付けられ、前記基板１９を真空吸着するだめの
溝２６Ｎおよび吸着穴２６　ｂ　、ｉ設けている。この
基板取付金具２６０基板取付面２６Ｃｉ、平面度良く仕
上げられ、基板１９を取付けるときの規制ピン２６６を
設けている。−１だ、基板取（・Ｊ金具２６には、基板
１９の１９さＨより高くならｋ、いようその基板１９の
厚さＨと略々間等の高さで凸部２６０を構成している。

この凸７ｆｌ（２６ｅの面２６ｆｉ、ｊ真直性よく仕上
げて、前記マスク１８のパターン１８０で位１１ｎ合せ
ができる」こう構成している。１）ｉＪ記支持金具２７
は、基板１９を真空吸着するために０リング３１および
リング３２が入る穴部２７＆とベアリング３０’が入る
穴部２ｙｂおよび真空吸着のだめの穴２７Ｃとを有して
いる。３３に１パイプ接続部で支持金具２７の穴２７Ｃ
にネジ止めし、可撓性のパイプ３４を接続している。こ
の可撓性のバイブ３４は他端が前記操作盤２２に接続さ
れ、基板１９の真空吸着操作が操作盤２２でできるよう
にし′Ｃいる。丑だ、前記支持金具２８は、ベアリング
３０．リング３６および波ワツシヤ３６が入る穴部２Ｅ
ｌと、ベアリング３０看！リング３６．波ワッシャ３６
を介して押圧ネジ３了Ｖこより基板取イ」金其２６に押
圧するネジｔｅｌＳ２８　ｂ　ｆ６・有し、基板取付金
具２６を支持金具２７との間に遊びがないよう回動可能
に取イ１けている。１だ、支持金具２８は第１０図の斜
視図に示すように、基板取イマ］金具２６側面に凹状部
２８Ｃを設け、Ｊ、ｌ；板取（＝Ｊ金具２６に設けた回
動位置規制ピン３８を而２８ｄと面２８ｅｌの２位置で
係止し、９０°の回動範囲を有するよう構成している。

３９ｖ１、回動レバーで、ネジ４２で基板取付金具２６
に固定し、バネ掛は部３９ｆＬｉ設けて構成している。

４０はバネ掛はピンで、支持金具２８に取付は固定しＣ
いる。このバネ掛はピン４ｏと回動レバー３９のバネ掛
は部３９１Ｌとの間にバネ４１を・かけトグル機構を構
成している。

第１１図（ａ）＋　＜ｂ）ｕ、基板保持Ｗｌ’４’ｌ’
　２０　’ｉ構成する基板取付金具２６の回動状態を示
すものである。。

第１１図（ａ）の状態で、基板取（；１金Ｊ（２６は］
・グル機構により矢印■方向の回動力′ＩＪ：　１１１
９１き、回動位置規制ピン３８を支持金具２８の面２８
ｄに押し付０るようになり、面２８ｄで係止されてその
状態を保持することができる１゜ 次に、矢印■方向の回動力に抗して矢印０の方向に回動
レバー３９を回動さぜると、第１１図（ｂ）の状態とな
る。このとき、トグル機構により基板取付金具２６は矢
印＠方向に回動力が働き、回動位置規制ピン３８Ｉ″ｉ
支持くσ具２８の面２８ｅｌに圧接係止され、その状態
が維持される。

さらに、前記位置合せ手段２１　＆′Ｊ、その具体構成
全図示していないが、Ｘ方向ν　Ｙ方向と角度０を調整
する機構と、基板１９とマスク１８との間隔を調整する
Ｚ軸方向の調整機４’ｆ７ｉとを備えると共に、球面台
２９と係合する球面座２１＆を設けており、Ｚ軸方向全
調整してマスク１８に基板１９を密接させるとき、自動
的にマスク１８のバタ・−ン形厄面と、基板１９の露光
面とが全面にわたって均一な状態で密接されるよう構成
している。また、基板保持部月２０の球面台２９を位１
Ｎ合せ手段２１の球面座２１ａに真空吸着させて、基板
保持部材２０を位置合ぜ手段２１に固′）ｉＺするよう
構成し。

可撓性のパイプ４３で操ｆ′１・７１ｊ：　２２と接続
し、真空吸着操作を操作盤２２で行えるようにしている
。。

次に、マスク１８と基板１９之　基板保持部）ＩＡ２０
との関係について第１２図を用いて説明する。７トす、
第１２図（ａ）の状態で基板１９の血１９ａの露光を行
うが、この状態で基板保持ｆ’？１（４）Ｊ’　２　Ｏ
ｆ、１構成する基板取付金具２６の凸部２６θとマスク
１８のパター７１８０とにより、基板保ｉ”４７′？ｌ
ｌ材２Ｑとマスク１８との位置調１１％ができる」、う
構成している。この々き基板保持Ｔ？ｌＳ　（Ａ’　２
０と基板１９とはｍ制ビン２６ｄにより所定の関係なテ
１１）って取（＝Ｊけられているので？パターン１８０
と基板保ＬＩ１部ＪＩＡ２゜の凸部２６ｅとの間で位置
関係を・調整することにより、基板１９の露光面１９ａ
がマスク１８のパター７１８ａのＷ部にヌ・］応した状
態となる。このとき第１２図（ａ）のＭとマスク１８の
ｍの寸法がス゛・」応した関係となる。この位置合せが
終了した状態で基板保持部材２ｏを位置合せコ一段２１
にｔｊＧ空吸着して固定する。次に、基板取（＝１金具
２６を回動レバー３９を操作して回動させて、第１２図
（ｂ）の状態にして基板１９の面１９ｂ全露光する。

しかし、第１２図（ａ）の状態から第１２図（ｂ）の状
態Ｖこするには、基板１９の最長回転半径Ｒを取るため
位置合せ手段２１のＺ　：ｔｑ＋１方向を操作して基板
１９とマスク１８との相対位置関係を必要な移動量Ｓｊ
：りも大きくＴだけ移動させて、基板取＋１金具２６全
回動させ、さらにＺ　１ｉｌｌ＋　＠調整してＴだけ移
動させてマスク１８と基板１９の１９ｂ面とを密接させ
て、第１２図中）の゛回想とする。ここで、基板取付金
具２６の回動中心から基板１９の露光面１９１Ｌまでの
長さＵと同じく回動中心から露光面１９ｂまでの長さＶ
とは等しくなるよう構成しているので、Ｚ軸は第１２図
（ａ）と第１２図（ｂ）とで同じ位置にあり、Ｚ　：ｌ
ｉ＋ｂを調整してＴだけ移動させる操作を有してもマス
ク１８との位ろ″関係を第１２図（ａ）と第１２図（ｂ
）との間で精度よく保つことができる。第１２図（ｂ）
の状態で基板１９０面１９ｂｆ露光する。

ここで、マスク１８と基板１９の露光面１９ａ。

１９ｂおよび基板取付金具２６との関係を第１２図（Ｃ
）と第７図を用いて説明する。第１２図（Ｃ）で基板１
９と基板取（＝Ｊ金具２６の凸ｊ？ｌ（２６６との関係
は、面１９ｂとの間でＹ、而１９ａとの間でＭとなり、
マスク１８でそれぞれｙとｍとに対応する。

従って、−ｒスフ１８に、１８ａ、１８ｂ、１ｓｃで示
すようにそれぞれ異なる位置に凸？ｆｌ（２６６゜面１
９＆、而１９ｂに対する各々のパターン全形成すること
ができるよう構成していＺ）。つ寸すマスク１８に必要
なパター７ｆ　１　Ｂ　＆、　１８ｂ、１８０と各々異
なる位置に形成し、ぞ：Ｊｌ、ぞれのパターンに対応す
るよう基板保持）２１Ｓ祠２０看：構成することにより
、基板１９の面１９１１，１９ｂの２つの面を露光する
際に、一度マスク１（３ど基板保ト’ｊ’　Ｔ？＋＋　
４４２０との位置調整をしておけばｓ　１ｌｉｉ　１９
　ａを露）Ｙｌした後、　Ｚｌｆｌ＋ｆｆｉ調整して基
板取（１’　＜＋＞、具２６を回動させるだけで面１９
ｂの露光全１１９ことができる。ｌ以」二のような関係
をｊう〜て基板法］−１ｌｉ′１１夕、ＩＪ’　２０と
位置合せ手段２１により基板ホルダーを構成している。

以上のように構成した本実施例のマスクアライメント装
膜について、以下その操作について説明する。第１３図
（ＩＬ）〜（ｉ）ｔ：を操作順序に従ってマスク１８、
基板１９．基板ホルダーを構成する基板取付金具２６の
それぞれの関係を示したものである。

まず、マスクホルダー１７を第６図の２点鎖線に示す位
置に回動させると共に位置合せ手段２１のＺ軸を調整し
て基板取付金具２６を第１３図（ａ）の矢印の方向に移
動させる。次に、操作盤２２を操作してマスク１８をマ
スクホルダー１７に真空吸着させて固定すると共に、基
板１９を基板取付金具２６に真空吸着させて固定する。

この状態を第１３図（ｂ）に示す。次に、マスクホルダ
ー１７を回動させ、操作盤２２を操作してマスクホルダ
ー１了全取イーＪ板２４，２４’に真η二吸着して固定
する。

この状態が第１３図（Ｃ）の状態である。次に、位置合
せ手段２１のＺ軸合調整して基板保持部材２０を第１３
図（Ｃ）の矢印方向に移動させて、マスク１８のパター
ン１８Ｃと基板取（＝１金具２６の凸部２６＋３が共に
顕微鏡１６で見える位置状態とする。この状態で、位置
合す手段２１にＪ、すＸ方向、Ｙ方向１θ調整全行い、
マスク１８と凸ｊτ１５２６θお」二び基板１９との関
係全所定の状態に今・ｌＶる。次に、位置合せ手段２１
によりＺ　：１１１１６調ｉ１ｉ％　ｌ、てマスク１８
と基板１９の面１９ａ全密着さＩＵ１操作盤２２を操作
して基板保持部材２０（５位置合ぜ手段２１に真空吸着
して固定し、露光用光ｉ％ｊ　１６からの平行光をマス
ク１８を通して基板１９ｖＣ照射して露光し、基板１９
の感光性樹脂膜１９θの必要部分を感光させる。次に、
基板取イχｊ金１ｔ２６’ｉ第１３図（（１）の矢印方
向に位置合ぜ手段２１のＺ１１１１１方向調整により第
１３図（Ｃ３）のＴだけ移動ｐ’５−１ｊ７た後、基板
取付金具２６を第１３図（ｅ）の矢印方向に回動させて
。

第１３図（ｆ）の状態とする。次に、；１，１；板取（
−１金具２６を位置合せ手段２１ＶＣより第１３゛図（
ｆ）の矢印方向にＴだけ移動させて基板１９の１９ｂ面
とマスク１８と全密着させ、第１３図（ｇ）の状Ｃ１唄
とし、操作盤２２ケ操作して基板１９の１９ｂ面を露光
する、。

次に、マスク１Ｂと基板１９とヲ１順間させ−Ｃ第１３
図中）の状態どした後、基板板イ・］金ＪＬ２６を第１
３図（ｈ）の矢印方向に回動させる。次に、操作盤２２
を操作して取付板２４＋２４’の江喰吸着を解除してマ
スクホルダー１７を第６図の２点鎖線の状態に回動さぜ
、第１３図（１）の状態とする。ここで、操作盤２２を
操作して基板数（＝Ｊ金具２６の真空吸着を解除して基
板１９１．（］Ｉｇ出す。次に、操作盤２２を操作して
マスクホルダー１７のｌｊ、空吸着を解除し、マスク１
８を取外すと共に、位置合せ手段２１の真空吸着全解除
することにより操作全終了する。

以上の」：うに本実施例によるマスクアライメント装置
を用いて露光したノ、（板１９の感光性樹脂膜１９　ｅ
　ｆ、１現像し、導体金１７，４１９　ｄ　ｆエツチン
グすることにより％第１４図に示すように基板↑９の面
１９２Ｌ、１９ｂに所定の導体金属パターンを形成する
ことができる。

以上のように本実施例によれ＆：ｖ１基板ホルダーの基
板保持部材全回動可能に設けることにより、基板の角度
（９０）現）を有し構成された２つの面に一度基板を保
持しただけで露光操作を行うことができる。

以下、本発明の第２の実施例について第１６図により説
明する。

第１６図において、１９’［基板で而１９ａ′と而１９
ｂ′との角度が１３６度の場合（ｊｌ；　１の実施例で
示した９０度と異なる）で、前記基板数（＝Ｊ金具２６
の回動角Ｒ′、回動中心と基板１９′面との長さｖ′ヲ
適切に選んで構成することに」：す、第１の実施例と同
様にマスク１８と基板１９′の面１９ａ′と１９ｂ′に
構成でき、同様の操作で面１９ａ′と１９ｄを露光でき
る。このとき基板１９′を実線で示した状態で面１９２
Ｌ’　ｆｆ露光し、２点鎖線で示した状態で１９ｄ面を
露光するものである。従って、第１の実施例の支持金具
２８の凹状部２８０の範囲を小さく構成して、回動角全
車さくしたものである１゜他の構成および操作について
し［第１の実施例と同様である。

以上のように第２の実施例によれば、基板数（＝Ｊ金具
の回動角と、回動中心と基板の露光面との長さを第１の
実施例と変えて構成することにより、基板の２つの露光
面の有する角度が９０°でなくでも、その２つの面の露
光を行うことができる。

なお、第１．第２の実施例において、基板１９の露光面
１９ａ、１９ｂにそれぞれ対応するように、マスク１８
にパターン１８ａ、１８ｂを設けたが、１９＆面と１９
ｂ面に同様の・くターンあるいは１９ｂ面に１９＆面の
一部分の〕（ターンを露光するのであれば、位置合せ手
段２１１Ｍ整して露光をすればよく１本実施例のように
基板１９の１９＆、１９ｂ而の各々の面に対してそわ５
ぞれのマスクパターンを形成する必要のないことはいう
１でもない。

１だ、第１の実施例において、マスク１８と基板１９’
（ｃｌＮＩＩ隔、密接させる場合に、位置合せ手段２１
を操作して基板１９側を移動させたが、これハマスクポ
ルダー１７を移動させてマスク１８と基板１９　ｆ密接
、離隔させるようにしても良いことはいう１でもない。

発明の効果 本発明のマスクアライメント装置は１位置合せ手段と回
動可能な基板保持部材とを有する基板ホルダー金設けて
いることに、１．す、−１Ｗ基板を保持した状態で角度
を有する２つの面Ｖこ露−＞ｔができるだけでなく、角
度を有する而に連絡した微細なパターンを精度よく製作
するだめのｉ、＋Ｍ九ケもできるようにすることができ
、その実用的効果娯、大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のマスクアライメント装置を示す正面図、
第２図はその側面図、第３図Ｑ、１同装置により露光す
る基板を示す斜視図、第４図はパターン形成状態を示す
基板の部分側７３Ｉ！図、第６図は本発明の第１の実施
例を示すマスクアライメント装置の正面図、第６図はそ
の側面図、第７図は同装置を構成するマスクのパターン
図、第８図ｖ、１間装置を説明するだめの基板の斜視図
、第９図に［同じく基板保持部材全構成する基板上（Ｚ
Ｉ金共の分１ｖ「斜視図、第１０図は基板保持くν具の
支持金具を示す斜視図、第１１図（＆）、　（ｂ）ｉ、
Ｊ基板保持金具の動作全説明する側面図、第１２図（ａ
）、　（ｂ）＋　（０）はマスクと基板および基板保持
金具との１ｙｊ係を説明する図、第１３図（ａ）〜（ｉ
）は同じくそれらの操作順序を説明する図、ｖ；１４図
はエツチング後の金属導体パターン形成状態を示す基板
の余（親図、第１６図は本発明の第２の実施例を示す原
理全説明する図である。 １５・・・・・・露光用光源、１７・・・・・・マスク
ホルダー、１８・・・・・・マスク、１９・・・・・・
基板、２ｏ・・・・・・基板保持都（２，２１・・・・
・・位置合ぜ手段、２６・・・・・・基板取イ覧」金具
。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　はが１名第１
図 ！ 第２図 第　３　図 １θ−が 第　５　図 第６図 第　７　図 第１１図　第１ （α） （４−２ ２図 （リ トイ ぴ〕 第１３図 （αう （Ｃ） 第１３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 平行光を発する露光用光源と、前記露光用光源からの光
   の通過経路で光を遮断あるいけ通過可能に所定のパター
   ンを形成してなるマスクを保持するマスクホルダーと、
   前記露光用光源と前記マスクホルダーおよび前記マスク
   を介して対向する側で感光性樹脂を表面に形成した板状
   の基板を保持し、前記基板の一面と前記マスクのパター
   ン形成面とを略々平行となす第１の位ｆＷｉと前記基板
   の−・面と角度を有して形成された他の一面とＯｉＪ記
   マスクのパターン形成面とを平行となす第２の位置とを
   取るよう回動自在に設けた基板保持部４Ａと、前記マス
   クのパターンと前記基板お」：び前記基板保持部拐との
   位置合せを行う位置合ぜ手段と１．前記基板と前記マス
   クとを当接した状態と肉１１間した状態とに相対的に移
   動させる離接手段とを有する基板ホルダーとを備えたこ
   とを特徴とするマスクアライメント装置。