JPH0330979B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、基板ホルダーの基板保持部を回動す
ることにより、基板の角度を有して構成される２
つの面を、基板を取外すことなくマスクを介して
露光するようにした露光装置に関するものであ
る。

従来例の構成とその問題点 近年、露光装置は、半導体素子の生産あるいは
配線パターンの高密度化に欠くことのできない装
置として、その要求に合せて各種の露光装置が開
発されている。

以下に従来の露光装置について説明する。

第１図、第２図は従来の露光装置を示すもの
で、第１図が正面図、第２図が側面図である。

第１図、第２図において、１は露光用光源、２
は顕微鏡、３はマスクホルダー、４は基板ホルダ
ー、５は後述する基板とマスクの位置合せを行う
調整機構で、６は操作部である。前記露光用光源
１は、紫外線を平行光にして発するようになさ
れ、基台７に固定された支持棒８に取付けられて
いる。この露光用光源１から出た平行光はマスク
９を通して基板１０に照射される。前記顕微鏡２
はマスク９に形成されたパターンと基板１０とを
見て、調整機構５でマスク９のパターンと基板１
０との位置合せを行うもので、ガイド棒１１，１
２に摺動可能に取付けられ、露光を行う場合には
矢印方向に移動させて、露光用光源１の光を遮断
しないよう構成されている。また、マスクホルダ
ー３はマスク９を真空吸着などで固定し、マスク
９のパターン形成部分は穴（図示せず）を設けて
露光用光源１の光を遮断しないよう構成されてい
る。このマスクホルダー３は矢印Ａの方向に回動
して２点鎖線で示した状態まで回動可能に支持板
１３，１３′に取付けられ、第１図の状態で支持
板１３，１３′に真空吸着などにより固定される
よう構成されている。そして、マスク９の取付
け、取外しは、マスクホルダー３を２点鎖線の位
置にした状態で行われる。また、マスク９は基板
１０側の面に露光用光源１の光を遮断あるいは通
過させるよう所定のパターン（図示せず）を形成
している。前記基板１０はマスク９側面に感光性
樹脂が数μmの厚さで均一に塗布されており、マ
スク９を通過した光で感光性樹脂が感光されるよ
う構成されている。また、基板ホルダー４は基板
１０を真空吸着して固定し、マスク９のパターン
形成面と基板１０の感光性樹脂塗布面が密着ある
いは微小な間隔を置いて平行になるようにするた
め、球面部４ａが設けられている。前記調整機構
５は、Ｘ方向、Ｙ方向およびθの３調整部と、基
板１０とマスク９とが密着したり微小な間隔を置
いて平行となるように取る位置と、離間させるた
めのＺ軸方向の４方向の調整ができるよう構成さ
れると共に、基板ホルダー４の球面部４ａの一部
と嵌合する球面座５ａを設け、基板１０とマスク
９を離間させた状態からＺ軸方向の調整で基板１
０をマスク９に近づけるとき、自動的に基板１０
の感光性樹脂形成面とマスク９のパターン形成面
とが、密着または微小な間隔を置いて平行となる
よう自動的に調整することができるよう構成され
ている。前記操作部６は、露光用光源１の光の
ON，OFF（通常、光源１は点燈されたままで露
光用光源１内に設けられたシヤツターの開閉で露
光用光源１のON，OFFを行う。）、マスクホルダ
ー３の真空吸着、基板ホルダー４の真空吸着、支
持板１３，１３′の真空吸着等の操作が１ケ所に
まとめて行われるようなされている。１４，１
４′はガイド棒１１，１２を両端で支持し基台７
に固定している固定具である。

以上のように構成された従来の露光装置につい
て、露光方法を説明する。

まず、顕微鏡２を矢印方向に移動させ、マスク
ホルダー３を２点鎖線の位置に回動させると共に
調整機構５のＺ軸調整でマスク９と基板１０が離
間した状態の位置へ基板ホルダー４を移動させ
る。次に、マスク９および基板１０を、マスクホ
ルダー３、基板ホルダー４にそれぞれ真空吸着さ
せて固定する。

次に、マスクホルダー３を回動させて第１図の
状態とし、支持板１３，１３′で真空吸着し固定
する。次いで、顕微鏡２を第１図の状態にもど
し、顕微鏡２でマスク９のパターンおよび基板１
０を見ながら各方向調整を行い、マスク９のパタ
ーンと基板１０とを所定の状態に位置合せを行
い、顕微鏡２を矢印方向に移動させて露光用光源
１の光を遮断しないようにする。次に、露光用光
源１を所定の時間ONの状態にして基板１０の感
光性樹脂膜を感光させる。

次に、調整機構５のＺ軸調整でマスク９と基板
１０を離間させると共に、支持板１３，１３′の
真空吸着を解除してマスクホルダー３を２点鎖線
の状態に回動させる。次に、基板ホルダー４の真
空吸着を解除して基板１０を取り出すと、マスク
アライメントによる感光性樹脂を感光させる露光
工程が終了する。

以上のような方法で基板１０の一面に塗布され
た感光性樹脂をマスクパターンを通して露光する
ことができる。

また、露光用光源およびマスクを基板の両側に
設けて基板の対向する両面に同時に露光を行う露
光装置もある。

しかしながら、前記のような構成では、第３図
に示すように基板１０の１０ａ面と１０ｂ面のよ
うに互いに対向する平行な２平面の露光は同時に
行うことができるが、１０ａ面と１０ｃ面のよう
に角度を持つて構成される２つの面をマスクホル
ダーに一度保持した状態で２つの面を露光すると
いうことはできないという問題点を有していた。
また、一度１０ａ面を露光して次に１０ｃ面を露
光するという方法では、第４図に示すように微細
なパターンＰを１０ａ面と１０ｃ面に連続して形
成するための露光を行うことができないという問
題点を持つていた。なお第４図に示す基板１０
は、例えば端面型サーマルヘツドに用いられるも
のであり、一面１０ａ側のパターンＰは制御回路
（例えばトランジスタ回路）が接続されるもので
あり、この一面１０ａと角度を有して形成された
他の一面１０ｃ側のパターンＰは発熱抵抗体が接
続されるものである。

発明の目的 本発明の目的は前記従来の問題点を解消するも
ので、基板ホルダーに一度基板を取付けた状態で
角度を有して形成された２つの面をマスクを通し
て露光することのできる露光装置を提供すること
にある。

発明の構成 この目的を達成するために本発明は、露光用光
源と、マスクホルダーと、基板ホルダーとを備え
たものにおいて、基板ホルダーの基板保持部を回
動可能とするとともに、マスクには基板の一面と
他の一面とに対応する第１、第２パターンを設
け、これによつて基板の一面を露光した後、角度
を有して形成される他の一面を基板保持部を回動
させて露光することにより、基板を保持しなおす
ことなく、基板の角度を有する２つの面に露光を
行うことのできるものである。

実施例の説明 以下、本発明の一実施例について図面を参照し
ながら説明する。

第５図、第６図は本発明の一実施例の露光装置
を示す正面図と側面図である。

第５図と第６図において、１５は露光用光源、
１６は光学顕微鏡、１７はマスクホルダー、１８
はマスク、１９は基板、２０は基板保持部材、２
１は位置合せ手段、２２は操作盤である。そし
て、露光用光源１５は紫外線の平行光をマスク１
８、基板１９に向つて照射する。この露光用光源
１５の平行光の照射、遮断は、露光用光源１５に
シヤツター（図示していない）を内蔵して、シヤ
ツターの開閉を操作盤２２で操作することにより
行うよう構成し、基台２３に固定した支持棒１５
ａに固定している。また、光学顕微鏡１６は、マ
スク１８、基板１９および基板保持部材２０を見
ながら位置合せ手段２１により、マスク１８と基
板１９、あるいはマスク１８と基板保持部材２０
との位置合せを行うもので、取付棒１６ａを介し
て摺動可能に案内棒１６ｂ，１６ｃ，１６ｄに取
付け、露光用光源１５の光を基板１９に照射する
場合は矢印方向に摺動移動させて、露光用光源１
５の光を遮断しないよう構成している。前記案内
棒１６ｂ，１６ｃ，１６ｄは基台２３に固定した
保持金具１６ｅ，１６ｆに固定している。前記マ
スクホルダー１７はマスク１８をその外周部で真
空吸着して固定し、露光用光源１５の光をマスク
１８の必要範囲に照射できるよう穴（図示してい
ない）を設けている。このマスクホルダー１７は
マスク１８の真空吸着操作が操作盤２２で行える
よう可撓性パイプ１７ａで操作盤２２と接続して
いる。また、マスクホルダー１７は基台２３に固
定された取付板２４，２４′に回動自在に取付け
られ、第６図の２点鎖線で示す状態まで回動範囲
を持ち、第５図の状態で取付板２４，２４′に真
空吸着で固定するよう構成している。そして、取
付板２４，２４′は可撓性パイプ２４ａ，２４′ａ
によりそれぞれ操作盤２２に連結され、マスクホ
ルダー１７の真空吸着操作が操作盤２２で行えよ
うにしている。

マスク１８は第７図に示すように、露光用光源
１５の光を透過する部分（白ぬき部で図示）と光
を遮断する部分（黒点で図示）からなる所定のパ
ターンを基板１９側の面に形成している。第７図
において、１８ａは基板１９の一面を露光するた
めの第１のパターンで、１８ｂは基板１９の他の
一面を露光するための第２のパターンで、１８ｃ
は基板保持部材２０との位置合せを行うためのパ
ターンである。

基板１９は第８図に示すように、板状で面１９
ａ，１９ｂ，１９ｃに銅などの導体層１９ｄを形
成すると共に、面１９ａ，１９ｂの表面に感光性
樹脂膜１９ｅを数μmの厚みで均一に形成し、か
つ面１９ａと面１９ｂは90゜の角度を有している。
基板１９とマスク１８との関係は、基板１９の長
さＬをマスク１８の長さｌと略々同等にし、基板
１９の巾Ｗがマスク１８のパターン１８ａのｗと
対応し、基板１９の厚さＨがマスク１８のパター
ン１８ｂに対応するような関係である。基板１９
とマスク１８は上記関係を持つて構成されてい
る。

第９図は基板保持部材２０を示す分解斜視図で
ある。第９図において、２５は支持基台、２６は
基板取付金具、２７，２８は支持金具、２９は球
面台である。前記支持基台２５はコの字型形状で
内側に基板取付金具２６が位置し、両端に支持金
具２７，２８をそれぞれねじ４４で取付けている
と共に球面台２９を底面に取付けるよう構成して
いる。前記基板取付金具２６はベアリング３０，
３０′を介して支持金具２７，２８に回動可能に
取付けられ、前記基板１９を真空吸着するための
溝２６ａおよび吸着穴２６ｂを設けている。この
基板取付金具２６の基板取付面２６ｃは平面度良
く仕上げられ、基板１９を取付けるときの規制ピ
ン２６ｄを設けている。また、基板取付金具２６
には、基板１９の厚さＨより高くならないようそ
の基板１９の厚さＨと略々同等の高さで凸部２６
ｅを構成している。この凸部２６ｅの面２６ｆは
真直性よく仕上げて、前記マスク１８のパターン
１８ｃで位置合せができるよう構成している。前
記支持金具２７は、基板１９を真空吸着するため
にＯリング３１およびリング３２が入る穴部２７
ａとベアリング３０′が入る穴部２７ｂおよび真
空吸着のための穴２７ｃとを有している。３３は
パイプ接続部で支持金具２７の穴２７ｃにネジ止
めし、可撓性のパイプ３４を接続している。この
可撓性のパイプ３４は他端が前記操作盤２２に接
続され、基板１９の真空吸着操作が操作盤２２で
できるようにしている。また、前記支持金具２８
は、ベアリング３０、リング３５および波ワツシ
ヤ３６が入る穴部２８ａと、ベアリング３０をリ
ング３５、波ワツシヤ３６を介して押圧ネジ３７
により基板取付金具２６に押圧するネジ部２８ｂ
を有し、基板取付金具２６を支持金具２７との間
に遊びがないよう回動可能に取付けている。ま
た、支持金具２８は第１０図の斜視図に示すよう
に、基板取付金具２６側面に凹状部２８ｃを設
け、基板取付金具２６に設けた回動位置規制ピン
３８を面２８ｄと面２８ｅの２位置で係止し、
90゜の回動範囲を有するよう構成している。３９
は回動レバーで、ネジ４２で基板取付金具２６に
固定し、バネ掛け部３９ａを設けて構成してい
る。４０はバネ掛けピンで、支持金具２８に取付
け固定している。このバネ掛けピン４０と回動レ
バー３９のバネ掛け部３９ａとの間にバネ４１を
かけトグル機構を構成している。

第１１図ａ，ｂは、基板保持部材２０を構成す
る基板取付金具２６の回動状態を示すものであ
る。

第１１図ａの状態で、基板取付金具２６はトグ
ル機構により矢印○イ方向のの回動力が働き、回動
位置規制ピン３８を支持金具２８の面２８ｄに押
し付けるようになり、面２８ｄで係止されてその
状態を保持することができる。

次に、矢印○イ方向の回動力に抗して矢印○ロの方
向に回動レバー３９を回動させると、第１１図ｂ
の状態となる。このとき、トグル機構により基板
取付金具２６は矢印○ロ方向に回動力が働き、回動
位置規制ピン３８は支持金具２８の面２８ｅに圧
接係止され、その状態が維持される。

さらに、前記位置合せ手段２１はその具体構成
を図示していないが、Ｘ方向、Ｙ方向と角度θを
調整する機構と、基板１９とマスク１８との間隔
を調整するＺ軸方向の調整機構とを備えると共
に、球面台２９と係合する球面座２１ａを設けて
おり、Ｚ軸方向を調整してマスク１８に基板１９
を密接させるとき、自動的にマスク１８のパター
ン形成面と、基板１９の露光面とが全面にわたつ
て均一な状態で密接されるよう構成している。ま
た、基板保持部材２０の球面台２９を位置合せ手
段２１の球面座２１ａに真空吸着させて、基板保
持部材２０を位置合せ手段２１に固定するよう構
成し、可撓性のパイプ４３で操作盤２２と接続
し、真空吸着操作を操作盤２２で行えるようにし
ている。

次に、マスク１８と基板１９、基板保持部材２
０との関係について第１２図を用いて説明する。
まず、第１２図ａの状態で基板１９の面１９ａの
露光を行うが、この状態で基板保持部材２０を構
成する基板取付金具２６の凸部２６ｅとマスク１
８のパターン１８ｃとにより、基板保持部材２０
とマスク１８との位置調整ができるよう構成して
いる。このとき基板保持部材２０と基板１９とは
規制ピン２６ｄにより所定の関係を持つて取付け
られているので、パターン１８ｃと基板保持部材
２０の凸部２６ｅとの間で位置関係を調整するこ
とにより、基板１９の露光面１９ａがマスク１８
のパターン１８ａのｗ部に対応した状態となる。
このとき第１２図ａのＭとマスク１８のｍの寸法
が対応した関係となる。この位置合せが終了した
状態で基板保持部材２０を位置合せ手段２１に真
空吸着して固定する。次に、基板取付金具２６を
回動レバー３９を操作して回動させて、第１２図
ｂの状態にして基板１９の面１９ｂを露光する。

しかし、第１２図ａの状態から第１２図ｂの状
態にするには、基板１９が最長回転半径Ｒを取る
ため位置合せ手段２１のＺ軸方向を操作して基板
１９とマスク１８との相対位置関係を必要な移動
量Ｓよりも大きくＴだけ移動させて、基板取付金
具２６を回動させ、さらにＺ軸を調整してＴだけ
移動させてマスク１８と基板１９の１９ｂ面とを
密接させて、第１２図ｂの状態とする。ここで、
基板取付金具２６の回動中心から基板１９の露光
面１９ａまでの長さＵと同じく回動中心から露光
面１９ｂまでの長さＶとは等しくなるよう構成し
ているので、Ｚ軸は第１２図ａと第１２図ｂとで
同じ位置にあり、Ｚ軸を調整してＴだけ移動させ
る操作を有してもマスク１８との位置関係を第１
２図ａと第１２図ｂとの間で精度よく保つことが
できる。第１２図ｂの状態で基板１９の面１９ｂ
を露光する。

ここで、マスク１８と基板１９の露光面１９
ａ，１９ｂおよび基板取付金具２６との関係を第
１２図ｃと第７図を用いて説明する。第１２図ｃ
で基板１９と基板取付金具２６の凸部２６ｅとの
関係は、面１９ｂとの間でＹ、面１９ａとの間で
Ｍとなり、マスク１８でそれぞれｙとｍとに対応
する。従つて、マスク１８に、１８ａ，１８ｂ，
１８ｃで示すようにそれぞれ異なる位置に凸部２
６ｅ、面１９ａ、面１９ｂに対する各々のパター
ンを形成することができるよう構成している。つ
まりマスク１８に必要なパターンを１８ａ，１８
ｂ，１８ｃと各々異なる位置に形成し、それぞれ
のパターンに対応するよう基板保持部材２０を構
成することにより、基板１９の面１９ａ，１９ｂ
の２つの面を露光する際に、一度マスク１８と基
板保持部材２０との位置調整をしておけば、面１
９ａを露光した後、Ｚ軸を調整して基板取付金具
２６を回動させるだけで面１９ｂの露光を行うこ
とができる。

以上のような関係を持つて基板保持部材２０と
位置合せ手段２１により基板ホルダーを構成して
いる。

以上のように構成した本実施例の露光装置につ
いて、以下その操作について説明する。第１３図
ａ〜ｉは操作順序に従つてマスク１８、基板１
９、基板ホルダーを構成する基板取付金具２６の
それぞれの関係を示したものである。

まず、マスクホルダー１７を第６図の２点鎖線
に示す位置に回動させると共に位置合せ手段２１
のＺ軸を調整して基板取付金具２６を第１３図ａ
の矢印の方向に移動させる。次に、操作盤２２を
操作してマスク１８をマスクホルダー１７に真空
吸着させて固定すると共に、基板１９を基板取付
金具２６に真空吸着させて固定する。この状態を
第１３図ｂに示す。次に、マスクホルダー１７を
回動させ、操作盤２２を操作してマスクホルダー
１７を取付板２４，２４′に真空吸着して固定す
る。この状態が第１３図ｃの状態である。次に、
位置合せ手段２１のＺ軸を調整して基板保持部材
２０を第１３図ｃの矢印方向に移動させて、マス
ク１８のパターン１８ｃと基板取付金具２６の凸
部２６ｅが共に顕微鏡１６で見える位置状態とす
る。この状態で、位置合せ手段２１によりＸ方
向、Ｙ方向、θ調整を行い、マスク１８と凸部２
６ｅおよび基板１９との関係を所定の状態に合せ
る。次に、位置合せ手段２１によりＺ軸を調整し
てマスク１８と基板１９の面１９ａを密着させ、
操作盤２２を操作して基板保持部材２０を位置合
せ手段２１に真空吸着して固定し、露光用光源１
５からの平行光をマスク１８を通して基板１９に
照射して露光し、基板１９の感光性樹脂膜１９ｅ
の必要部分を感光させる。次に、基板取付金具２
６を第１３図ｄの矢印方向に位置合せ手段２１の
Ｚ軸方向調整により第１３図ｅのＴだけ移動させ
た後、基板取付金具２６を第１３図ｅの矢印方向
に回動させて、第１３図ｆの状態とする。次に、
基板取付金具２６を位置合せ手段２１により第１
３図ｆの矢印方向にＴだけ移動させて基板１９の
１９ｂ面とマスク１８とを密着させ、第１３図ｇ
の状態とし、操作盤２２を操作して基板１９の１
９ｂ面を露光する。次に、マスク１８と基板１９
とを離間させて第１３図ｈの状態とした後、基板
取付金具２６を第１３図ｈの矢印方向に回動させ
る。次に、操作盤２２を操作して取付板２４，２
４′の真空吸着を解除してマスクホルダー１７を
第６図の２点鎖線の状態に回動させ、第１３図ｉ
の状態とする。ここで、操作盤２２を操作して基
板取付金具２６の真空吸着を解除して基板１９を
取出す。次に、操作盤２２を操作してマスクホル
ダー１７の真空吸着を解除し、マスク１８を取外
すと共に、位置合せ手段２１の真空吸着を解除す
ることにより操作を終了する。

以上のように本実施例による露光装置を用いて
露光した基板１９の感光性樹脂膜１９ｅを現像
し、導体金属１９ｄをエツチングすることによ
り、第１４図に示すように基板１９の面１９ａ，
１９ｂに所定の導体金属パターンを形成すること
ができる。なお第１４図の基板１９は端面型サー
マルヘツドに用いられるものであり、一面１９ａ
のパターンには制御回路が接続され、他の一面１
９ｂのパターンには発熱抵抗体が接続される。

以上のように本実施例によれば、基板ホルダー
の基板保持部材を回動可能に設けることにより、
基板の角度（90度）を有し構成された２つの面に
一度基板を保持しただけで露光操作を行うことが
できる。

以下、本発明の第２の実施例について第１５図
により説明する。

第１５図において、１９′は基板で面１９a′と
面１９b′との角度が135度の場合（第１の実施例
で示した90度と異なる）で、前記基板取付金具２
６の回動角R′、回動中心と基板１９′面との長さ
V′を適切に選んで構成することにより、第１の
実施例と同様にマスク１８と基板１９′の面１９
a′と１９b′に構成でき、同様の操作で面１９a′と
１９b′を露光できる。このとき基板１９′を実線
で示した状態で面１９a′を露光し、２点鎖線で示
した状態で、１９b′面を露光するものである。従
つて、第１の実施例の支持金具２８の凹状部２８
ｃの範囲を小さく構成して、回動角を小さくした
ものである。他の構成および操作については第１
の実施例と同様である。

以上のように第２の実施例によれば、基板取付
金具の回動角と、回動中心と基板の露光面との長
さを第１の実施例と変えて構成することにより、
基板の２つの露光面の有する角度が90゜でなくて
も、その２つの面の露光を行うことができる。

なお、第１，第２の実施例において、基板１９
の露光面１９ａ，１９ｂにそれぞれ対応するよう
に、マスク１８にパターン１８ａ，１８ｂを設け
たが、１９ａ面と１９ｂ面に同様のパターンある
いは１９ｂ面に１９ａ面の一部分のパターンを露
光するのであれば、位置合せ手段２１を調整して
露光をすればよく、本実施例のように基板１９の
１９ａ，１９ｂ面の各々の面に対してそれぞれの
マスクパターンを形成する必要のないことはいう
までもない。

また、第１の実施例において、マスク１８と基
板１９を離隔、密接させる場合に、位置合せ手段
２１を操作して基板１９側を移動させたが、これ
はマスクホルダー１７を移動させてマスク１８と
基板１９を密接、離隔させるようにしても良いこ
とはいうまでもない。

発明の効果 本発明のマスクアライメント装置は、位置合せ
手段と回動可能な基板保持部材とを有する基板ホ
ルダーを設けるとともに、マスクには基板の一面
と他の一面とに対応する第１、第２パターンを設
けたので、一度基板を保持した状態で角度を有す
る２つの面に露光ができるだけでなく、角度を有
する面に連絡した微細なパターンを精度よく製作
するための露光をもできるようにすることがで
き、その実用的効果は大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の露光装置を示す正面図、第２図
はその側面図、第３図は同装置により露光する基
板を示す斜視図、第４図はパターン形成状態を示
す基板の部分斜視図、第５図は本発明の第１の実
施例を示す露光装置の正面図、第６図はその側面
図、第７図は同装置を構成するマスクのパターン
図、第８図は同装置を説明するための基板の斜視
図、第９図は同じく基板保持部材を構成する基板
取付金具の分解斜視図、第１０図は基板保持金具
の支持金具を示す斜視図、第１１図ａ，ｂは基板
保持金具の動作を説明する側面図、第１２図ａ，
ｂ，ｃはマスクと基板および基板保持金具との関
係を説明する図、第１３図ａ〜ｉは同じくそれら
の操作順序を説明する図、第１４図はエツチング
後の金属導体パターン形成状態を示す基板の斜視
図、第１５図は本発明の第２の実施例を示す原理
を説明する図である。 １５……露光用光源、１７……マスクホルダ
ー、１８……マスク、１９……基板、２０……基
板保持部材、２１……位置合せ手段、２６……基
板取付金具。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 平行光を発する露光用光源と、前記露光用光
   源からの光の通過経路で光を遮断あるいは通過可
   能に所定のパターンを形成してなるマスクを保持
   するマスクホルダーと、表面に感光性樹脂層を設
   けた基板を保持した基板ホルダーとを備え、前記
   基板ホルダーは、前記基板の一面と前記マスクの
   パターン形成面とを略々平行となす第１の位置と
   前記基板の一面と角度を有して形成された他の一
   面と前記マスクのパターン形成面とを平行となす
   第２の位置とを取るよう回動自在に設けた基板保
   持部と、前記マスクのパターンと前記基板および
   前記基板保持部との位置合せを行う位置合せ手段
   と、前記基板と前記マスクとを当接あるいは近接
   した状態と離間した状態とに相対的に移動させる
   離接手段とを有する構成とし、前記マスクのパタ
   ーンは、前記基板保持部材が第１の位置の時に基
   板の一面に対応する第１パターンと、基板保持部
   材が第２の位置の時に基板の他の一面に対応する
   第２パターンにより構成したことを特徴とする露
   光装置。