JPS60119559A - メタルマスクの製造方法 - Google Patents
メタルマスクの製造方法Info
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- JPS60119559A JPS60119559A JP58227161A JP22716183A JPS60119559A JP S60119559 A JPS60119559 A JP S60119559A JP 58227161 A JP58227161 A JP 58227161A JP 22716183 A JP22716183 A JP 22716183A JP S60119559 A JPS60119559 A JP S60119559A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- G03F1/78—Patterning of masks by imaging by charged particle beam [CPB], e.g. electron beam patterning of masks
-
- G—PHYSICS
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- C03C2218/00—Methods for coating glass
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- C03C2218/355—Temporary coating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体集積回路の製造に使用される光学メタル
マスクに関するものである。
マスクに関するものである。
現在、Ｌ８Ｊ・超ＬＳＩの製造に使われているフォトマ
スクとしては主にガラス基板上にクロム又は酸化クロム
の薄膜によってパターンが形成されたメタルマスクが使
用されている。
スクとしては主にガラス基板上にクロム又は酸化クロム
の薄膜によってパターンが形成されたメタルマスクが使
用されている。
このメタルマスクの洗浄法として、薬品にょる洗浄、超
音波洗浄、擦シ洗浄等が実施されているが、擦シ洗浄で
は金属層の表面に傷を付ける恐れがあり、又超音波洗浄
では洗浄条件が悪いと超音波ダメージが金属層やガラス
に入るという欠点がある。薬品による洗浄では酸洗浄と
界面活性剤洗浄に分類できるが、界面活性剤ではその洗
浄力において、酸に劣る点が多々ある。
音波洗浄、擦シ洗浄等が実施されているが、擦シ洗浄で
は金属層の表面に傷を付ける恐れがあり、又超音波洗浄
では洗浄条件が悪いと超音波ダメージが金属層やガラス
に入るという欠点がある。薬品による洗浄では酸洗浄と
界面活性剤洗浄に分類できるが、界面活性剤ではその洗
浄力において、酸に劣る点が多々ある。
以上の理由よシメタルマスクの洗浄法としては、酸洗浄
が最も効果的な洗浄法であシ、広〈実施されてりる。し
かし核酸洗浄は、その強力は洗浄力ゆえに金属層の表面
を微量ではあるが溶融してしまうという欠点があシ、こ
れが光学マスクの寿命を縮める要因の一つとなっている
。
が最も効果的な洗浄法であシ、広〈実施されてりる。し
かし核酸洗浄は、その強力は洗浄力ゆえに金属層の表面
を微量ではあるが溶融してしまうという欠点があシ、こ
れが光学マスクの寿命を縮める要因の一つとなっている
。
本発明の目的はこの欠点を補うべく耐酸性に優れたメタ
ルマスクを提供する事にある。
ルマスクを提供する事にある。
本発明の特徴は、ガラス基板の上にクロム単層もしくは
酸化クロム単層又は両金属の多層構造よ構成るメタルマ
スクの製造方法において、金属層の表面に電子ビームを
照射し、この金属層の耐酸性を向上させたメタルマスク
の製造方法にある。
酸化クロム単層又は両金属の多層構造よ構成るメタルマ
スクの製造方法において、金属層の表面に電子ビームを
照射し、この金属層の耐酸性を向上させたメタルマスク
の製造方法にある。
以下に第１図、第２図を用いて本発明の詳細な説明する
。
。
ガラス基板１上の６０ＯＡのクロム層上３００Ａ酸化ク
ロム層よ９成るメタルプレートの一部に電子ビーム４を
照射する（第１図）。次にこのメタルプレートを熱硝酸
・熱硫酸に計３分間浸す酸洗＃を１サイクルとして１０
０サイクル繰り返すと、第２図に示す様に電子ビームを
照射したエリアとしなかったエリアで酸化クロム層の消
失量に差がある事が確認された。この差は電子ビーム照
射エネルギーが０５μｃ／ｃｒｄの時、約３ＯＡであっ
た。即ち電子ビームの照射によって酸化クロム層の耐酸
性が向上したわけであるが、電子ビーム照射エネルギー
を増せばその効果はさらに大きくなる。
ロム層よ９成るメタルプレートの一部に電子ビーム４を
照射する（第１図）。次にこのメタルプレートを熱硝酸
・熱硫酸に計３分間浸す酸洗＃を１サイクルとして１０
０サイクル繰り返すと、第２図に示す様に電子ビームを
照射したエリアとしなかったエリアで酸化クロム層の消
失量に差がある事が確認された。この差は電子ビーム照
射エネルギーが０５μｃ／ｃｒｄの時、約３ＯＡであっ
た。即ち電子ビームの照射によって酸化クロム層の耐酸
性が向上したわけであるが、電子ビーム照射エネルギー
を増せばその効果はさらに大きくなる。
さて、上述した事を光学マスク製造プロセスに利用すれ
ば従来のものに比べ耐酸性が優れたメタルマスクを製造
できる様になる。実施するには、メタルマスクの製造工
程のどこかで電子ビームをクロム層に照射してやれば良
いわけである。マスクパターンを形成する前のメタルプ
レートの時点で行なっても良いし、マスクパターンが形
成された後でも形成の途中でも良いわけである。
ば従来のものに比べ耐酸性が優れたメタルマスクを製造
できる様になる。実施するには、メタルマスクの製造工
程のどこかで電子ビームをクロム層に照射してやれば良
いわけである。マスクパターンを形成する前のメタルプ
レートの時点で行なっても良いし、マスクパターンが形
成された後でも形成の途中でも良いわけである。
この様に本発明による製造法でメタルマスクを製造すれ
ば従来技術で製造したものに比べ耐酸性に優れたメタル
マスクを製造でき、マスクの寿命を大幅に述ばす事がで
きる。
ば従来技術で製造したものに比べ耐酸性に優れたメタル
マスクを製造でき、マスクの寿命を大幅に述ばす事がで
きる。
第１図および第２図は本発明の効果を示す図である。
１・・・・・・ガラス基板、２・・・・・・クロム層、
３・・・・・・酸化クロム層、４・・・・・・電子ビー
ム。
３・・・・・・酸化クロム層、４・・・・・・電子ビー
ム。
Claims (1)
- ガラス基板の上にクロム単層もしくは酸化クロム単層又
は両金属の多層構造よ構成るメタルマスクの製造方法に
おいて、金属層の表面に電子ビームを照射させる事を特
徴とするメタルマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58227161A JPS60119559A (ja) | 1983-12-01 | 1983-12-01 | メタルマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58227161A JPS60119559A (ja) | 1983-12-01 | 1983-12-01 | メタルマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60119559A true JPS60119559A (ja) | 1985-06-27 |
Family
ID=16856446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58227161A Pending JPS60119559A (ja) | 1983-12-01 | 1983-12-01 | メタルマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60119559A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012087408A (ja) * | 2010-10-18 | 2012-05-10 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 連続蒸着が可能な薄膜蒸着装置、並びにその薄膜蒸着装置に使われるマスク・ユニット及びクルーシブル・ユニット |
-
1983
- 1983-12-01 JP JP58227161A patent/JPS60119559A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012087408A (ja) * | 2010-10-18 | 2012-05-10 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 連続蒸着が可能な薄膜蒸着装置、並びにその薄膜蒸着装置に使われるマスク・ユニット及びクルーシブル・ユニット |
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