JPS6012333B2 - レゾルシンの改良製造方法 - Google Patents

レゾルシンの改良製造方法

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JPS6012333B2
JPS6012333B2 JP8190476A JP8190476A JPS6012333B2 JP S6012333 B2 JPS6012333 B2 JP S6012333B2 JP 8190476 A JP8190476 A JP 8190476A JP 8190476 A JP8190476 A JP 8190476A JP S6012333 B2 JPS6012333 B2 JP S6012333B2
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JP
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resorcinol
crude
resorcin
acid
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JP8190476A
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忠志 小味山
和廣 寺田
藤夫 松田
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はオルトおよび又はパラ体のジニトロベンゼソを
含有するメタジニトロベンゼン(以下、粗〆タジニトロ
ベンゼンと略称する。
)を原料としてレゾルシンを製造する方法に関するもの
である。更に詳しくは粗〆タジニトロベンゼンを還元し
て相当するフェニレンジアミンを生成させ、フェニレン
ジアミンの異性体混合物を夫々の成分に分離することな
く、そのままハロゲン化水素酸により加水分解してレゾ
ルシンのみを収率良く得る方法に関するものである。純
メタジニトロベンゼンを原料としメタフェニレンジアミ
ンを経由してレゾルシンを製造する方法については既に
提供した。
しかしながら、上記した純メタジニトロベンゼンを原料
とする方法は、その原料の確保に問題があった。
即ち、ベンゼン又はニトロベンゼンをニトロ化すること
により製造されたメタジニトロベンゼンは、通常、オル
ト体を約2〜20%、パラ体を約1〜2%含んでいる。
これらの異性体を含むメタジニトロベンゼンから純メタ
ジニトロベンゼンを得る方法としては、ジニトロベンゼ
ンの蒸溜は爆発の危険性が大きいことから用いられず、
各異性体の溶解度の差を利用した結晶化法等がいよいよ
採用されている。しかし、この方法は、純メタジニトロ
ベンゼンの回収率を上げようとすると非常に煩雑な方法
となり、かなりのエネルギーを消費する。従って純メタ
ジニトロベンゼンは容易に入手できる安価な原料とはい
い難い。本発明者等は純メタジニトロベンゼンの代りに
、他の異性体を含有するメタジニトロベンゼンを原料と
して使用することを考え、種々の探索実験を行った結果
、まず粗〆タジニトロベンゼンを還元して相当するフェ
ニレンジアミンを生成させ、フェニレンジアミンの異性
体混合物を夫々の成分に分離することなく、そのままハ
ロゲン化水素酸と反応せしめることにより、他の異性体
を含有するメタフェニレンジアミンからしゾルシンのみ
を、収率良く生成し得ることを見し、出した。
即ち、メタフェニレンジアミンの大部分が加水分解され
る条件下でも異性体として存在するオルトフェニレンジ
アミンはカテコールへは殆んど加水分解されずその大部
分が未反応オルトフェニレンジアミン、オルトフェニレ
ンジアミンの分解または縮合生成物及びオルトアミノフ
ェノールとして存在する。一方、バラフェニレンジアミ
ンはオルトフェニレンジアミンよりも加水分解速度が速
いとはいえ、メタフェニレンジアミンに比較すると、か
なり加水分解速度が遅いので、これも未反応バラフェニ
レンジアミン「及びアミノ基の1個のみが加水分解され
る程度で殆んどパラアミノフェノールとして存在する。
また、オルトフヱニレンジァミンの分解もしくは縮合生
成物の生成量は加水分解反応に使用する酸の種類により
著しく影響される。しかし乍ら、メタフェニレンジアミ
ンよりのレゾルシンの収率には「オルトフェニレンジア
ミンの存在は殆んど悪影響及ぼさない。
かくして粗〆タフェニレンジアミンからしゾルシンのみ
を選択的に生成させることが出来る。それ故、加水分解
反応後のレゾルシンを含有する溶液を酸性で有機溶媒に
より抽出すればカテコール又はハイドロキノンを殆んど
含有しないレゾルシンを得ることができる。更に、抽出
後の水層にアンモニア又は苛性ソーダ等のアルカリを加
えてアミンを遊離させて後、有機溶媒で抽出することに
よりオルトフェニレンジアミンもしくはオルトアミノフ
エノール又はバラフエニレンジアミンもしくはパラアミ
ノフェノールを分離し得ることを見し、出し本発明の方
法に到達した。即ち、本発明の方法はオルトおよび又は
パラ体のジニトロベンゼンを含有するメタジニトロベン
ゼンを還元して相当するフェニレンジアミン(以下、粗
〆タフヱニレンジアミンと略称する。
)を生成させる第1工程と該フェニレンジアミンとハロ
ゲン化水素酸とを反応させてレゾルシンを生成させる第
2工程と該生成レゾルシンを分離する第3工程とよりな
る方法である。第1工程の粗〆タジニトロベンゼンの粗
〆タフェニレンジアミンへの還元は、通常実施される薮
触水素化による方法に加えて、それ以外の方法、例えば
、錫と塩酸、塩化第1錫と塩酸、鉄と塩酸、亜鉛と塩酸
、鉄と硫酸による還元等の化学薬品による還元によって
も実施できる。
本発明において用いられる水素添加用触媒としては、通
常用いられる、例えば実験化学講座17巻264〜34
8頁(1956王)(丸善株式会社発行)記載の水素添
加用触媒が用いられるがなかでも周期律表第8属の金属
を含む触媒が有効であり更に貴金属を含む触媒が有効で
ある。而して之等の水素添加用触媒を列挙すれば、例え
ばパラジウム「白金、ニッケル「 ロジウム、ルテニウ
ム、イリジウム、コバルト、鉄、銅、クロム等の金属及
びそれ等の酸化物並びに酸化モリブデンt酸化タングス
テン、硫化白金、硫化モリブデンおよび硫化タングステ
ン等を含有する一元又は二元以上の触媒があげられる。
而して、上記水素添加用触媒を一種又は二種以上の混合
物として使用することもできる。本発明で使用される前
記水素添加用触媒の使用量に関しても特に制限はないが
、その使用量が増大するほど反応速度が増大する傾向に
あり「通常ジニトロベンゼン1モルに対して0.001
〜100夕の範囲である。
この接触水素化反応を行う温度は触媒の種類によって異
なるが、通常0〜250午0の範囲で実施する。
また、この接触反応に使用する溶媒としては「特に制限
はないが、通常水又はメタノール、エタノール等のアル
コール類、ジェチルヱーテル、ジィソプロピルェーテル
等のエーテル類「ベンゼン、トルェン等の芳香族炭化水
素類又はこれらの混合物等を用いることができる。
水を反応媒体として用いた場合には接触水素化を行った
後に触媒を炉別し、炉液をそのまま第2工程の反応に採
用し得るので特に好都合である。
水以外の溶媒を使用した場合には触媒を炉遇した後の粗
フェニレンジアミン溶液を、そのまま次の加水分解工程
の反応に採用し得るが「通常は溶媒を溜去した後に使用
する。また、この接触水素添加反応をハロゲン化水素酸
、硫酸及び隣酸より選ばれた無機酸の一種または二種以
上の混合物との存在下で行うと水素添加の速度が遠くな
るのでより有利である。
水素圧については特に制限はないが白金属の触媒を用い
た場合には反応速度が速いので、常圧または必要に応じ
て加圧下に行う。
一方、白金属以外の触媒を用いた場合には、反応速度が
遅いので加圧下で行うことが好ましい。第2工程の粗〆
タフェニレンジアミンとハロゲン化水素酸とを反応させ
てレゾルシンを生成させる反応で使用されるハロゲン化
水素酸の具体例として塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸等
がある。
加水分解反応に使用するハロゲン化水素酸のフェニレン
ジアミンに対する使用モル比に特に制限はないが、通常
1.5〜3.0の範囲、好ましくは1.75〜2.5の
範囲である。而して、フェニレンジアミンに対するハロ
ゲン化水素のモル比が1.5に満たない場合には、反応
生成液中の未反応フェニレンジアミンの量が多くなり、
通常行なわれる禾反応物の反応系への再循環が煩雑とな
る。
一方モル比が3.0を越える場合には、反応器材質の腐
蝕が増大し、結果としてタール状物の生成を増大し、目
的とするレゾルシンの収率を低下せしめる。フエニレン
ジアミンに対するハロゲン化水素のモル比を1.75〜
2.50とする場合は、上述した未反応物の循環および
反応器材質の腐蝕の面でより有利であり、工業的レゾル
シンの製造においては、例えば2.05のようなモル比
がいよいよ用いられる。反応液中のメタフェニレンジア
ミンの濃度に関しては制限はないが1〜5の重量%、好
ましくは1〜35重量%の範囲が用いられる。
而して反応液中のフヱニレンジアミンの濃度が5低重量
%を越える場合は、反応管もしくは反応器が生成した無
機酸のアンモニウム塩結晶のため閉塞しやすくなり、ま
た1重量%に満たない場合は反応器効率が不良となり経
済的でない。この方法を実施する温度は150〜35ぴ
0好ましくは170〜320℃の範囲であり、温度が1
50qoよりも低い場合には反応速度が遅く実用的でな
い。
反応で使用する水はフェニレンジアミン1モルに対して
、レゾルシンを収率良く得るために通常2モル以上必要
であるが、好ましくは6モル以上を使用する。反応時間
は実施する温度によって変わるが、通常、数分ないし8
時間程度である。反応圧力は液相を保つのに必要な圧力
でよいが、反応に不活性なガス、例えば窒素、ヘリウム
、アルゴン、水素または一酸化炭素等で加圧してもよい
。
この工程はバッチ式、連続式のいずれの方法も行い得る
。この工程は反応器の材質によりレゾルシンの収率が著
しく影響を受ける。
反応液により腐蝕を受ける材質を用いた場合には、ター
ルの形成が著しく多くなり、レゾルシンの収率は低下す
る。本反応に用いる材質としては実質的に腐蝕のない材
質を用いると都合が良く、そのような材質の例としては
、例えばモリブデン、タングステン、金、白金、チタン
、、ジルコニウム、タンタル又はそれ等を含む合金、ハ
ステロィA、ハステロィ8、ハステロィC、ハステロィ
D、ハステロィF等のハステロイ(商品名)合金、又は
テフロン(商品名)、不浸透性黒鉛、ガラス、ホーロ−
、セラミック、耐酸石器および耐酸レンガ等がある。第
3工程であるレゾルシンの分離方法としては、特に制限
はないが通常採用される溶媒抽出法がそのまま適用でき
る。例えばエチルエーテル、イソブロピルェーテル等の
エーテル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等のケトン類、ブチルアルコール、アミルアルコー
ル等のアルコール類で水溶液中のレゾルシンを抽出し、
次に有機層と水層とを分離した後、有機層を蒸留するこ
とによりレゾルシンを得ることができる。一方、水層は
、アンモニア又は苛性ソーダ等のアルカリを加えてアミ
ンを遊離させて後、有機溶媒で抽出することにより、オ
ルトフェニレンジアミンもしくはオルトアミノフエノー
ル又は、バラフェニレンジアミンもしくはパラアミノフ
ヱノールを得ることができる。本法による利点は次のと
おりである。
オルト又はパラ体のジニトロベンゼンを含有するメタジ
ニトロベンゼンよりメタジニトロベンゼンを分離精製す
ることなくしゾルシンを高収率で得ることが出来るとい
う点である。更に、粗〆タジニトロベンゼンを還元して
得た他の異性体を含むメタフェニレンジアミンからメタ
フェニレンジアミンを分離精製することなく、そのまま
レゾルシン製造の原料として使用でき、その上、レゾル
シンを収率良く得ることが出来る点である。更に、加水
分解反応後の溶液中に存在する2価フェノールはしゾル
シンが大部分であり、カテコール及びハイドロキノンン
を殆んど含まないので、この溶液より分離したレゾルシ
ンは非常に純度が良く、レゾルシンの分離精製が非常に
簡単になったことである。実施例 1内容積300の‘
のハステロィB製のオートクレープに粗〆タジニトロベ
ンゼン4.78夕(0.0284モル、オルト体10%
、パラ体2%、メタ体88%)水100夕及び5%PQ
−カーボン担持触媒(以下PQ/Cと略記する。
)2夕を仕込み、オートクレーブ内の空気を窒素で置換
して後、水素を50k9/塊に)まで圧張りし、30q
oで90分間反応させた。その後、圧抜きをして後オー
トクレープを開けて内容物を取り出し、触媒を炉別し、
粗〆タフェニレンジアミン水溶液を得た。この炉液及び
36%塩酸5.75夕(塩化水素として0.0568モ
ル)を前述のオートクレープに仕込み、オートクレープ
内の空気を窒素で置換して後、ト250午0で3時間反
応させた。
その後、オートクレープを常温まで冷却して内容物を取
り出し、生成したレゾルシンをエチルエーテルで抽出し
た。しかる後エーテルを溜去して粗レゾルシン2.62
夕を得た。 ※..この
結晶をガスクロマトグラフにより分析した結果、レゾル
シンは2.57タ含まれていた。
収率93.4%。尚、カテコール及びハイドロキノンは
検出されなかった。
実施例2および比較例1〜4 実施例1の塩酸の代わりに臭化水素酸(実施例2)、燐
酸(比較例1)、酸性硫酸アンモニウム(比較例2)、
酸性硫酸ナトリウム(比較例3)、硫酸(比較例4)を
下表に示した量使用し、且つ、加水分解反応の温度、時
間を下表に示した条件で加水分解反応を行ない、下表の
結果を得た。
実施例 7内容積300机上のハステロィB製のオート
クレープに粗〆タジニトロベンゼン4.78夕(0.0
284モル、オルト体10%「パラ体2%、メタ体88
%)、36%塩酸5.75夕(塩化水素として0.05
68モル)、水100夕及び5%Pd/C2夕を仕込み
オートクレープ内の空気を窒素で置換した後、水素を5
0k9′のに)まで圧張りし、30qoで60分間反応
させた。
その後、圧抜きをして後、オートクレープを開け内容物
を取り出し、触媒を炉別し、粗〆タフェニレンジアミン
及び塩化水素を含有する水溶液を得た。この水溶液を前
述のオートクレープに仕込んだ。
それ以後は実施例1と同機に操作して粗レゾルシン2.
64夕を得た。ガスクロマトグラフにより分析した結果
、レゾルシンは2.56タ含まれていた。収率93.0
%。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 オルトおよび又はパラ体のジニトロベンゼンを含有
    するメタジニトロベンゼンを還元して相当するフエニレ
    ンジアミンを生成させる第1工程と、該フエニレンジア
    ミンとハロゲン化水素酸とを、ハロゲン化水素酸をフエ
    ニレンジアミンに対し、1.5〜3.0モル比の範囲で
    用いて反応させてレゾルシンを生成させる第2工程と、
    該生成レゾルシンを分離する第3工程よりなることを特
    徴とするレゾルシンの製造方法。
JP8190476A 1976-07-12 1976-07-12 レゾルシンの改良製造方法 Expired JPS6012333B2 (ja)

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JPS537630A JPS537630A (en) 1978-01-24
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63160636U (ja) * 1987-04-09 1988-10-20
JPH0454273U (ja) * 1990-09-18 1992-05-08

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63160636U (ja) * 1987-04-09 1988-10-20
JPH0454273U (ja) * 1990-09-18 1992-05-08

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