JPS6012720B2 - デイジタル電荷転送デバイス - Google Patents

デイジタル電荷転送デバイス

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JPS6012720B2
JPS6012720B2 JP53054355A JP5435578A JPS6012720B2 JP S6012720 B2 JPS6012720 B2 JP S6012720B2 JP 53054355 A JP53054355 A JP 53054355A JP 5435578 A JP5435578 A JP 5435578A JP S6012720 B2 JPS6012720 B2 JP S6012720B2
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JP
Japan
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potential
electrode
transfer device
charge transfer
connection point
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JP53054355A
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JPS53139940A (en
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クルト・ホフマン
マンフレ−ト・マウテ
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Siemens Corp
Original Assignee
Siemens Corp
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D44/00—Charge transfer devices
    • H10D44/40—Charge-coupled devices [CCD]
    • H10D44/45—Charge-coupled devices [CCD] having field effect produced by insulated gate electrodes 
    • H10D44/454—Output structures
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/28—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
    • G11C19/282—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements with charge storage in a depletion layer, i.e. charge coupled devices [CCD]
    • G11C19/285—Peripheral circuits, e.g. for writing into the first stage; for reading-out of the last stage
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D44/00—Charge transfer devices
    • H10D44/40—Charge-coupled devices [CCD]
    • H10D44/45—Charge-coupled devices [CCD] having field effect produced by insulated gate electrodes 
    • H10D44/456—Structures for regeneration, refreshing or leakage compensation

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  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Networks Using Active Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は一つの半導体層の上に絶縁して一連の転送電
極が設けられこれらの電極に互に移相したクロック電圧
が印加され、出力側には基体半導体層に対して逆導電形
の領域がありこの領域が第一参照電位を断続的に投入す
るスイッチと一つのトランジスタ段の入力端とに結合さ
れているディジタル電極転送デバイスに関するものであ
る。
この種のデバイスは Kosonocky、Char戦
−Conpled Device − An o〜ew
iew 、 WesconTeChniCal Pap
e岱、18、〔211〕pl−20(1974)に記載
されている。この装置ではディジタル入力信号として順
次に送られてくる論理状態が評価され例えば論理状態“
1”では第一転送電極の下の電位の谷にキャリャが集め
られ、“0”ではそれが集められない。個々の評価の間
ではそれまでに作られたキャリャが予め定められた数の
電極間隔だけ転送されるからディジタル入力信号は一連
のキャリャ集群に変えられその形で半導体層内を電極列
に沿って入力側の逆導電形領域に向って歩動的に送られ
る。上記の文献の第10b図に示されている出力側の電
界効果トランジスタ段は最初ディジタル出力信号の第一
論理信号レベルを送り出すが出力側領域にキャリャ集群
が到達すると第二論理信号レベルの送り出しを開始し、
入力信号に対応し通常は反転された出力信号が形成され
る。しかし熱によって発生したキャリャに基く階流のた
め付加的なキャリャが電極の下に集められ信号の経過に
誤差を生ずる。別の誤差の原因としては必ずしも総ての
キャリャが一つの転送電極から次の転送電極に送られな
いことが挙げられる。これらの誤差により出力信号の電
位上昇が低下し多くの場合に正しい信号の伝達は不可能
となる。この点を考えて出力信号の論理状態の間に完全
な電位上昇関係を回復させる再生回路が使用されている
。集積MOS回路では基生用として第一電荷転送デバイ
スに並べて同じ基板上に第二の同種デバイスを設けこれ
を同じクロック電圧で駆動することが提案されている(
lEEE Journal ofSolid−S鷺te
CircuitsSC−7、p.237−242(19
72))。
第一デバイスの半導体層内には転送電極の下に逆導電形
の半導体領域があり第二デバイスの入口電極となる転送
電極に結合される。二進入力信号を表わす第一デバイス
のキャリャは第二デバイスの入口転送電極の電位を制御
し、第二デバイスの出力側において信号の評価が行われ
る。この場合誤りのない信号伝達が行われるための前提
条件は入口転送電極が第一デバイス中を転送された電荷
を検知する際充分大きな電位差が加えられることである
。冒頭に挙げた電荷転送デバイスにフリップフ。
Iソプ回路を含むMOS再生論理回路を設けたものは既
に発表されている(lEEEJom船lofSolid
一State CirCuiは、SC−11〔1〕p.
18一24(i976))。この装置には出力側の逆導
電形領域の電位と共に一つの参照電位が加えられる。こ
の参照電位は後にコンパレータ回路を持つ別の電荷転送
デバイスにおいて論理状態“0”と“1’’を評価する
際の出力側領域の電位差として形成されるものである。
フリツプ・フロップの出力端からはこの参照電位が出力
側領域の電位の上にあるかに従って充分な電位差を持つ
ディジタル信号が送り出される。しかしこれに対しては
極めて高度の回路技術が要求される。この公知装置では
出力側の逆導電形領域の前に半導体層に対して絶縁され
た一つの電極が別に設けられる。この電極は予め与えら
れた別の参照電位に接続され電位障壁を形成する。この
発明の目的は冒頭に挙げたディジタル電荷転送デバイス
において外部からの妨害の影響を受けることのなく正し
い電圧関係を保持する出力信号を送り出すことができる
ようにすることである。
この目的は出力側の逆導電形領域の前にある最後の転送
電極をトランジスタ段の一の接続点に電位結合し、この
接続点は一つの論理レベルを表わす電荷量が出力側領域
に送り込まれる際残りの転送電極の下においての電位変
化にほぼ対応して電位変化を起すものとし、出力側領域
の前の最後の転送電極と出力側領域との間に基体半導体
層に対して絶縁された別の電極を設けこの電極を接続点
Aの電位を超えない中間値を持つ参照電位に接続するこ
とによって達成される。
この発明によるデバイスの長所は製作の容易な出力段を
使用してディジタル出力信号の入力信号に対するビット
誤差率を極めて低く保つことができ、同時に出力信号が
最高の電位シフトを示すことである。
出力側領域の前に電位障壁を作るための参照電位がこの
電位シフトを低下させることはない。図面に示した実施
例についてこの発明を更に詳細に説明する。
第1図にこの発明による2相電荷転送の概略を示す。
1はp形のシリコン基板でありその表面は絶縁層例えば
Sj02層2で覆われ、この絶縁層内に電極E1,11
b,12b・・…・nlbおよびn2bと電極11a,
12a,・・・・・・nla,n2aおよびRIが図に
示すように上下二段に設けられている。
これらの電極の上には更に絶縁層を設けることができる
が図には簡単のためこの絶縁層は示されていない。電極
組11a,11bは共通の接続点11により一つのクロ
ック電圧UIに接続される。クロック電圧の時間経過ダ
イヤグラムは第4図に示す。次の電極組12a,12b
は共通接続線12によりクロック電圧U2に接続され、
以下の電極組も同様にして順次にクロック電圧U1,U
2,U1,・・・・・・に接続される。電極列の最後に
ある電極組nla,nlbおよびn2a,n2bの中前
の電極組は接続線nlによりクロック電圧UIに接続さ
れるが後のものはクロック電圧U2ではなく第4図に示
されている電圧URKに接続される。このように配置さ
れた電極は転送電極と呼ばれている。
電極EIは入口電極であって回路の入力端Eに結ばれ、
最後の電極RIには接続線Rが接触している。3は電荷
転送デバイスのソース領域となるn+ドーブ領域であり
、4は出力側のn十ドーブ領域である。
出力側領域4は接続線5を通して電界効果スイッチング
・トランジスタTIのソース領域と結ばれる。このトラ
ンジスタのドレン領域は第一参照電圧UR,に接続され
る。GIはTIのゲート電極接続線である。TIのソー
ス接触は第二の電界効果トランジスタT2のゲート電極
に結ばれ、T2のソース接触はインピーダンス6を介し
て地雷位に接続される。T2のドレン接触はクロック電
圧U2と結ばれている。T2のソース接続線とインピー
ダンス6の接続線との交点は同時に回路出口Aでありこ
こから出力信号が取り出される。点Aは出力側領域4の
前にある最後の転送電極の共通接続線n2と結ばれてい
る。第4図に示したクロック電圧UIの作用でその正電
圧パルスP1,P2,P3,・・・・・・の一つが到達
したとき例えば時刻tlに転送電極の下の基板1の表面
の電位CIは第2図に示した分布となる。第2図には電
極列の下において基板1の長さ方向にとった軸S上の電
位JIが示されている。パルスPIが印加されている転
送電極の下に電位の谷PT1,PT2等が形成される。
領域3から基板1に少数キャリャが注入され、同時に入
力端Eに高いレベルのディジタル入力信号が加えられる
と電極11bの下にある電位の谷PTIはこのキャリャ
によって実質的に満たされる。クロック電圧U2の次の
正パルスP1′が到達すると例えば時刻t2に電位の谷
PTI等が移動しそこに集められていたキャリャs方向
に次の転送電極の下に移され、基板1の表面には第3図
に示した電位分布が作られる。第2図の電位の谷PT3
はトランジスタTIのゲートに加えられた電圧UG1(
第4図)の正パルスP1rがトランジスタTIを導適状
態とし、領域4がパルスPI″の継続時間中参照電位U
R,に置かれそれによって第一参照電位JRIに戻され
るために形成されるものである。第2図に領域4の中は
s4で示されている。接続線Rは常に第二参照電圧に接
続されるが、この参照電圧は電極RIの下に第二参照電
位JR2を作る。各パルス(PI″)の背面の斜面が終
ると領域4は再び電圧UR,から遮断され、フローティ
ングと呼ばれる状態に移される。領域4が電位OR,を
保持するかこの電位がフローティング状態でも余り変化
しない場合にはT2は導通状態でありU2の一つのパル
スPI′の存続中インピーダンス6または点Aには電圧
U2にほぼ対応する電圧URKがかかる。これにより時
刻t2には第4図に示した電圧関係と第3図の右半分に
実線で示した電位分布J2が得られる。この場合n2の
電圧URKにより電位の谷PT4も形成されている。第
3図に斜線を引いて面積に示すように電位の谷PT4に
キャリャ群が送り込まれると領域区間s4において一定
の電位障壁を越えて拡がり矢印で示したように電位UR
,が移動する。
これによって電気伝導性が低下したトランジスタT2の
作用でA点の電圧URKが降下し、電極層n2a,n2
bの下の電位が第3図に矢印で示したように変化する。
s4とn2a,n2bの下の電位の最後の到達点は第3
図に斜線を引いて示され、第4図では時刻t3において
ある。A点においての電圧を時刻t2およびt3後にお
いて次のパルスPI″の前に検知すると上記のフィード
バック過程がない場合基板1に伝送された低い論理信号
しベル即ち“0”に対応するより高いURKのレベルが
得られるがフィードバック作用がある場合には高い論理
信号レベル“1”に対応する低いURK電圧レベルが測
定される。第二参照電位JR2は点Aとn2a,n2b
の下との間の電位変化の一つの中間値に対応する。
この場合JR2の値はRIの下の電位障壁が“1”を表
わすキャリャ群だけを通過させるように選ばれる。例え
ば転送中晴流の影響により誤差を生じた“1”信号はn
2a,n2bの下の電位の谷を電位障壁の高さまで埋め
ることなくs4領域およびn2a,n2bの下で電位の
移動が発生することはない。従ってこのような誤差の原
因は考慮する必要なく、出力点Aにおいての電圧シフト
の減少は起らない。第1図において想定した基板1と層
3および4の間の導電形の関係は逆にすることができる
。
その上任意の構成の電荷転送デバイスもク。ック駆動方
式の異なるものを含めてこの発明の考えに従って構成す
ることができる。しかしいずれの場合においても逆導電
形出力側領域の前にある最後の転送電極は通常それに加
えられるクロック電圧から外して自由に接続し、出力側
の逆導電形領域にキャリャ群を移したとき転送電極の下
においてのクロック電圧の影響によって生ずる電位変化
に対応する振幅変化を受ける電圧を出力側のトランジス
タ回路の接続点を通して加える。第5図に示した実施例
においては第1図の電荷転送デバイスにその接続点Aを
介して第二の同様に構成された電荷転送デバイスが結合
されている。
この第二電荷転送デバイスの基板1′もP形にドープさ
れn+ドーブ領域3′がキャリャ注入領域となる。入力
電極EI′は接続点Aと結ばれ、3′とBI′の間に設
けられた参照電極対REは電位の谷PH4と電位障壁P
SIを作る。領域3″の接続線を通して加えられる電圧
Uidの各正電圧パルスP…(第4図)の間に注入され
たキャリャは高い信号レベルに際してはそのときに形成
される電位の谷PT6に達し、低い信号レベルに際して
はこのようなことがなく、次のパルスP′′′が加えら
れている間に領域3′または電位の谷PT5に戻る。こ
のようにして電極EI′の下には一連のキャリャ集群が
形成されるがこのキャリャ集群は領域4を介して電極n
2bの下にキャリャ群が存在しないことが確められたと
き常に発生する。電位の谷PT6中に形成されたキャリ
ャ群はそこから出て基板内1′内を通常接続線VS1,
VS2等を介してクロック電圧を加えられる転送電極の
作用で第5図の装置の右側の出力端に向って転送される
。
【図面の簡単な説明】
第1図と第5図はそれぞれこの発明の互に異なる実施例
を示し第2図と第3図と第4図は第1図の装置の電位分
布と情報読出し中の電位分布の変化と電圧の時間経過を
示すダイヤグラムである。 第1図において1は基板、2は絶縁層、3と4は逆導電
形領域、EIは入力端電極、RIは出力端電圧、11a
,11b,12a,12bおよびnla,nib,n2
a,n2bは転送電極、TIとT2はトランジスタ段で
ある。Fi9.1 口9.2 Fi9.3 Fi9.4 Fi9.5

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 出力側の逆導電形領域4の前に設けられた最後の転
    送電極n2a,n2bが一つの論理レベル(“1”)を
    表わす電荷量が出力側領域4に送り込まれる際に残りの
    転送電極11a,11b,12a,12b,……の下に
    おいての電位変化にほぼ対応する電位変化を起すトラン
    ジスタ段T2の接続点Aと電位結合されていること、出
    力側領域の前の最後の転送電極と出力側領域との間に基
    体半導体層に対して絶縁された別の電極R1が設けられ
    この電極が接続点Aの電位を超えない中間値を持つ第二
    の参照電位に接続されていることを特徴とする一つの半
    導体層の上に絶縁して設けられた一連の転送電極に互に
    移相されたクロツク電圧が印加され、出力側には基体半
    導体層に対して逆導電形の領域があり領域は第一参照電
    位を断続的に投入するスイツチと一つのトランジスタ段
    の入力端に結合されているデイジタル電荷転送デバイス
    。 2 接続点Aが互に直列に一つの給電源に接続されてい
    る一つの電荷効果トランジスタのソース・ドレン区間と
    一つの負荷素子6との結合点であることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の電荷転送デバイス。 3 接続点Aがソース・フオロワ接続の電界効果トラン
    ジスタのソース接触であることを特徴とする特許請求の
    範囲第2項記載の電荷転送デバイス。 4 接続点Aが同時にデイジタル回路出力端となってい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第2項または第3項
    記載の電荷転送デバイス。 5 電界効果トランジスタのドレン接触にクロツク電圧
    の一つが加えられることを特徴とする特許請求の範囲第
    2項乃至第4項の一つに記載の電荷転送デバイス。 6 接続点Aが別の電荷転送デバイスの入力電極に結合
    されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至
    第5項の一つに記載の電荷転送デバイス。
JP53054355A 1977-05-10 1978-05-08 デイジタル電荷転送デバイス Expired JPS6012720B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2721039.5 1977-05-10
DE2721039A DE2721039C2 (de) 1977-05-10 1977-05-10 Digitale Ladungsverschiebeanordnung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS53139940A JPS53139940A (en) 1978-12-06
JPS6012720B2 true JPS6012720B2 (ja) 1985-04-03

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ID=6008536

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP53054355A Expired JPS6012720B2 (ja) 1977-05-10 1978-05-08 デイジタル電荷転送デバイス

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JP (1) JPS6012720B2 (ja)
BE (1) BE866926A (ja)
CA (1) CA1124403A (ja)
DE (1) DE2721039C2 (ja)
FR (1) FR2390802A1 (ja)
GB (1) GB1599830A (ja)
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