JPS60130701A - 合成樹脂基板の反射防止膜 - Google Patents
合成樹脂基板の反射防止膜Info
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- JPS60130701A JPS60130701A JP58238811A JP23881183A JPS60130701A JP S60130701 A JPS60130701 A JP S60130701A JP 58238811 A JP58238811 A JP 58238811A JP 23881183 A JP23881183 A JP 23881183A JP S60130701 A JPS60130701 A JP S60130701A
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- layer
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
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- Optics & Photonics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は合成樹脂レンズのような合成樹脂基板の多層反
射防止膜に関する。
射防止膜に関する。
近年、成形の容易さと軽量とによって合成樹脂光学部品
、特にレジズが用いられるようになったが、これらの光
学部品の反射防止膜には、なお問題が残っている。
、特にレジズが用いられるようになったが、これらの光
学部品の反射防止膜には、なお問題が残っている。
従来、このような反射防止膜としては、例えば次のもの
が知られている。すなわち、特開昭５６〒１８９２２号
には、合成樹脂基板上に機械的強度を補うに十分７ｊ、
数μの膜厚の二酸化ケイ素（Ｓｉｎ２）からなる第１層
を形成し、その上に膜厚０，１５λ〜０２５λ〔λ（光
の波長）＝４５０〜５５０ｎｍ−）の酸化イツトリウム
（Ｙ２Ｏ２）膜からなる第２層、その上に膜厚０．３５
λ〜０．４５λの酸化ジルコニウム（ＺｐＯｔ）膜から
なる第３層、およびさらに第３層の上に膜１／２λ（λ
＝ ５３０ ｎｍ）の厚さに蒸着し、ついで第２層とし
て二酸化ケイ素をＶ４λの厚さに蒸着して多層反射防止
膜を形成することが開示されている。
が知られている。すなわち、特開昭５６〒１８９２２号
には、合成樹脂基板上に機械的強度を補うに十分７ｊ、
数μの膜厚の二酸化ケイ素（Ｓｉｎ２）からなる第１層
を形成し、その上に膜厚０，１５λ〜０２５λ〔λ（光
の波長）＝４５０〜５５０ｎｍ−）の酸化イツトリウム
（Ｙ２Ｏ２）膜からなる第２層、その上に膜厚０．３５
λ〜０．４５λの酸化ジルコニウム（ＺｐＯｔ）膜から
なる第３層、およびさらに第３層の上に膜１／２λ（λ
＝ ５３０ ｎｍ）の厚さに蒸着し、ついで第２層とし
て二酸化ケイ素をＶ４λの厚さに蒸着して多層反射防止
膜を形成することが開示されている。
また、特開昭５６−１２１００１号には、合成樹脂基板
上に第１層として膜厚２０ ｎｍ以下の一酸化ケィ素膜
、その上に第２層として膜厚０５０λ未満のアルミナ膜
、さらにその上に第３層として膜厚０．２５λ〜０３０
λのフン化マグネシウム（ＭｇＦ２）膜を順次積層した
プラスチック光学部品が開示されてい仝。
上に第１層として膜厚２０ ｎｍ以下の一酸化ケィ素膜
、その上に第２層として膜厚０５０λ未満のアルミナ膜
、さらにその上に第３層として膜厚０．２５λ〜０３０
λのフン化マグネシウム（ＭｇＦ２）膜を順次積層した
プラスチック光学部品が開示されてい仝。
さらに、特開昭５８−６０７０１号には、複数の、蒸着
条件を異にするため異った屈折率を持った一酸化ケイ素
の蒸着膜によって構成される多層反射防止膜が開示され
、具体的には基板上（＝屈折率１．６０〜１６８、光学
的膜厚がλ／４の一酸化ケイ素からなる第１層、その上
に屈折率１．７５〜１．８３、光学的膜厚がＶ４の一酸
化ケイ素からなる第２層、さらにその上に屈折率１５０
〜１，５５、光学的膜厚がλ／４の一酸化ケイ素膜から
なる第３層を、順次積層した多層反射防止膜が開示され
ている。この際、−酸化ケイ素の屈折率は蒸着速度の条
件下に酸素 ・ガス圧力を変化させたり、または酸素ガ
ス圧力一定の条件下に蒸着速度を変化させることによっ
て、変化させることが開示されている。
条件を異にするため異った屈折率を持った一酸化ケイ素
の蒸着膜によって構成される多層反射防止膜が開示され
、具体的には基板上（＝屈折率１．６０〜１６８、光学
的膜厚がλ／４の一酸化ケイ素からなる第１層、その上
に屈折率１．７５〜１．８３、光学的膜厚がＶ４の一酸
化ケイ素からなる第２層、さらにその上に屈折率１５０
〜１，５５、光学的膜厚がλ／４の一酸化ケイ素膜から
なる第３層を、順次積層した多層反射防止膜が開示され
ている。この際、−酸化ケイ素の屈折率は蒸着速度の条
件下に酸素 ・ガス圧力を変化させたり、または酸素ガ
ス圧力一定の条件下に蒸着速度を変化させることによっ
て、変化させることが開示されている。
これらの多層反射防止膜のうち、特開昭５６−１８９２
２号に開示されたものは、合成樹脂基板としてジエチレ
ングリコールビスアリルカーポネー）（ＣＲ−３９）が
使用され、メガネ用に開発された多層反射防止膜であり
、上記の構成膜をインジェクションおよびキャスト成形
された基板に適用すると第１層の二酸化ケイ素膜に亀裂
が発生する。
２号に開示されたものは、合成樹脂基板としてジエチレ
ングリコールビスアリルカーポネー）（ＣＲ−３９）が
使用され、メガネ用に開発された多層反射防止膜であり
、上記の構成膜をインジェクションおよびキャスト成形
された基板に適用すると第１層の二酸化ケイ素膜に亀裂
が発生する。
また特開昭５０−６７１４７号および特開昭５６−１２
１００１号に開示さ些たものは、膜の亀裂の発生は１１
いが、可視光領域における反射防止効果が低く、密着性
に若干の不安がある。
１００１号に開示さ些たものは、膜の亀裂の発生は１１
いが、可視光領域における反射防止効果が低く、密着性
に若干の不安がある。
さらに、特開昭５８−６０７０１号に開示されたものは
、−酸化ケイ素のみで構成されているので、大気中に放
置すると酸素の影響を受け、二酸化ケイ素に近ずくため
、経時的に分光反射特性が変化するという欠点がある。
、−酸化ケイ素のみで構成されているので、大気中に放
置すると酸素の影響を受け、二酸化ケイ素に近ずくため
、経時的に分光反射特性が変化するという欠点がある。
本発明の目的は、合成樹脂基板の種類に関係なく、基板
の補強効果と可視光領域における反射防止効果を向上さ
せた合成樹脂基板の反射防止膜を提供することにある。
の補強効果と可視光領域における反射防止効果を向上さ
せた合成樹脂基板の反射防止膜を提供することにある。
本発明のいま一つの目的は、カラーバランスが良好で、
基板に対する密着性が高く、かつ耐溶剤性、耐磨耗性、
耐環境性の良好な反射防止膜を圀供することにある。
基板に対する密着性が高く、かつ耐溶剤性、耐磨耗性、
耐環境性の良好な反射防止膜を圀供することにある。
本発明による合成樹脂基板の反射防止膜は、合成樹脂基
板上に形成された光学的膜厚０１３λ〜λ〔λ（光の波
長）＝４５０〜５５０ｎｍ）の−酸化ケイ素膜からなる
第１層、該第１層上に形成された０、１３λ〜λの二酸
化ケイ素膜からｒ（る第２層、該第２層上に形成された
光学的膜厚０．３６λ〜０．４４λ）のアルミナ、−酸
化ケイ素またはこれらの混合物の膜、或はアルミナおよ
び一酸化ケイ素の多層膜からなる第３層、該第３層上に
形成された光学的膜厚０１１８λ〜０．２２λの酸化ジ
ルコニウム、酸化セリウムまたはこれらの混合物の膜、
或は酸化ジルコニウムおよび酸化セリウムの多層膜から
なる第４層、該第４層上に形成された光学的膜厚００３
λ〜０．Ｏ１２の二酸化ケイ素、フッ化マグネシウムま
たはこれらの混合物の膜、或は二酸化ケイ素およびフン
化マダイ・シクムの多層膜からなる第５層、該第５層上
に形成された光学的膜厚０，２２λ〜０．２７λの五酸
化タンタル、−酸化チタン、二酸化テタ。
板上に形成された光学的膜厚０１３λ〜λ〔λ（光の波
長）＝４５０〜５５０ｎｍ）の−酸化ケイ素膜からなる
第１層、該第１層上に形成された０、１３λ〜λの二酸
化ケイ素膜からｒ（る第２層、該第２層上に形成された
光学的膜厚０．３６λ〜０．４４λ）のアルミナ、−酸
化ケイ素またはこれらの混合物の膜、或はアルミナおよ
び一酸化ケイ素の多層膜からなる第３層、該第３層上に
形成された光学的膜厚０１１８λ〜０．２２λの酸化ジ
ルコニウム、酸化セリウムまたはこれらの混合物の膜、
或は酸化ジルコニウムおよび酸化セリウムの多層膜から
なる第４層、該第４層上に形成された光学的膜厚００３
λ〜０．Ｏ１２の二酸化ケイ素、フッ化マグネシウムま
たはこれらの混合物の膜、或は二酸化ケイ素およびフン
化マダイ・シクムの多層膜からなる第５層、該第５層上
に形成された光学的膜厚０，２２λ〜０．２７λの五酸
化タンタル、−酸化チタン、二酸化テタ。
ンまたはこれらの２以上の混合物の膜、或は五酸化タン
タル、−酸化チタンおよび二酸化チタンの２以上の多層
膜から７．ｆる第６層、および該第６層上に形成された
光学的膜厚０．２４λ〜０．３０λの二酸化ケイ素、フ
ッ化マグネシウムまたはこれらの混合物の膜、或は二酸
化ケイ素およびフッ化マグネシウムの多層膜からなる第
７層からｆＩることを特徴とするものである。
タル、−酸化チタンおよび二酸化チタンの２以上の多層
膜から７．ｆる第６層、および該第６層上に形成された
光学的膜厚０．２４λ〜０．３０λの二酸化ケイ素、フ
ッ化マグネシウムまたはこれらの混合物の膜、或は二酸
化ケイ素およびフッ化マグネシウムの多層膜からなる第
７層からｆＩることを特徴とするものである。
本発明において、前記第２層から第７層までは活性化反
応蒸着により形成されたものであることが各層間の密着
性を高める上で好ましい。こ＼で「活性化反応蒸着」と
は、プラズマ化された活性ガス、例えば酸素ガス中で蒸
着を行なうことを意味する。
応蒸着により形成されたものであることが各層間の密着
性を高める上で好ましい。こ＼で「活性化反応蒸着」と
は、プラズマ化された活性ガス、例えば酸素ガス中で蒸
着を行なうことを意味する。
本発明における合成樹脂基板としては、特に小型カメラ
用レンズ、ビデオ力、メラ用レンズ、複写機用レンズ等
に利用される非球面レンズを目的としたレンズ構成に用
いられる合成樹脂レンズを挙げることができる。これら
の合成樹゛脂基板は、例えばジエチレングリコールビス
アリルカーボネート、キャスティング成形またはインジ
ェクション成形されたアクリル樹脂、ポリカーボネート
樹脂、スチレン樹脂からなる。
用レンズ、ビデオ力、メラ用レンズ、複写機用レンズ等
に利用される非球面レンズを目的としたレンズ構成に用
いられる合成樹脂レンズを挙げることができる。これら
の合成樹゛脂基板は、例えばジエチレングリコールビス
アリルカーボネート、キャスティング成形またはインジ
ェクション成形されたアクリル樹脂、ポリカーボネート
樹脂、スチレン樹脂からなる。
合成樹脂基板上に各層を順次積層するには、真空蒸着エ
レクトロンビームなどの公知の手段を用いることができ
るが、第２層から第７層までは前述した活性化反応蒸着
により積層するのが、各層相瓦間の密着性が高くなるの
で好ましい。第１層の一酸化ケイ素膜は合成樹脂との密
着性がよいので、特に活性化反応蒸着によらなくてもよ
い。
レクトロンビームなどの公知の手段を用いることができ
るが、第２層から第７層までは前述した活性化反応蒸着
により積層するのが、各層相瓦間の密着性が高くなるの
で好ましい。第１層の一酸化ケイ素膜は合成樹脂との密
着性がよいので、特に活性化反応蒸着によらなくてもよ
い。
本発明による多層反射防止膜において、−酸化ケイ素膜
からｒｚる第１層と二酸化ケイ素ｆｌｕからなる第２層
とは反射防止の機能とともに、基板の補強機能をも備え
ている。
からｒｚる第１層と二酸化ケイ素ｆｌｕからなる第２層
とは反射防止の機能とともに、基板の補強機能をも備え
ている。
以下に本発明を実施例によってさらに詳細に説明する。
実施例 １
第１図を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図は、この実施例の反射防止膜の一部の拡大断面図
である。インジェクション成形されたアクリル樹脂基板
１の表面に、真空度１ Ｘ １０” Ｔｏｒｒにおいて
一酸化ケイ素を抵抗加熱により、蒸着速度２λ／秒（一
定）で真空蒸着して膜厚０，５λ（λ−４５０〜５５０
ｎｍ）の第１層２を形成する。このときの第１層の屈折
率は１．６０〜１６８である。
である。インジェクション成形されたアクリル樹脂基板
１の表面に、真空度１ Ｘ １０” Ｔｏｒｒにおいて
一酸化ケイ素を抵抗加熱により、蒸着速度２λ／秒（一
定）で真空蒸着して膜厚０，５λ（λ−４５０〜５５０
ｎｍ）の第１層２を形成する。このときの第１層の屈折
率は１．６０〜１６８である。
第１層の上に二酸化ケイ素をエレクトロンビームで蒸着
して膜厚０．５λの第２層３を形成する。
して膜厚０．５λの第２層３を形成する。
第２層の屈折率は１．４５〜１４６である。第１層と第
２層とは基板の補強効果をも有している。
２層とは基板の補強効果をも有している。
第２層の上に、アルミナをエレクトロンビームで蒸着し
て膜厚０４λの第３層４を形成する。第３層の屈折率は
１５９〜１６２である。
て膜厚０４λの第３層４を形成する。第３層の屈折率は
１５９〜１６２である。
ついで、第３層の上に酸化ジルコニウムをエレクトロン
ビームで蒸着して膜厚０２λ、屈折率１．８９〜１９１
の第４層５を形成する。
ビームで蒸着して膜厚０２λ、屈折率１．８９〜１９１
の第４層５を形成する。
第４層の上に、二酸化ケイ素をエレクトロンビームで蒸
着して膜厚Ｑ、０４λ、屈折率１．４５〜１．４６の第
５層６を形成する。
着して膜厚Ｑ、０４λ、屈折率１．４５〜１．４６の第
５層６を形成する。
１５層の上に、五酸化タンタルをエレクトロンビームで
蒸着して膜厚０．２５λ、屈折率２０〜２１の第６層７
を形成する。
蒸着して膜厚０．２５λ、屈折率２０〜２１の第６層７
を形成する。
ついで、第６層の上に、二酸化ケイ素をエレクトロンビ
ームで蒸着して膜厚０．２８λの第７層８を形成する。
ームで蒸着して膜厚０．２８λの第７層８を形成する。
第７層の屈折率は１４５〜１．４６である。
このよう（−して得られた反射防止膜は、第２図に示さ
れた分光反射率曲線から明らかなように、可視光領域に
おいて良好ｆＩ分光反射率特性を示し、波長５．２０〜
５６０ｎｍの光の反射率がわずかに山形に高くなってい
るので反射光がｊｉ［Ｙか７［緑色となる。したがって
、眼鏡に対しても利用することができる。
れた分光反射率曲線から明らかなように、可視光領域に
おいて良好ｆＩ分光反射率特性を示し、波長５．２０〜
５６０ｎｍの光の反射率がわずかに山形に高くなってい
るので反射光がｊｉ［Ｙか７［緑色となる。したがって
、眼鏡に対しても利用することができる。
この反射防止膜を次の各試験に付した３３（］） 密着
性テスト二 上記のようにしてイ（すられた反射防止膜
の表面にセロハンテープにチバン）を接着させた後、こ
の表面にはゾ垂直な角度で、すばやくとりのぞくテスト
を１５回繰返したが、蒸着膜の剥離を生ずることがなか
った。
性テスト二 上記のようにしてイ（すられた反射防止膜
の表面にセロハンテープにチバン）を接着させた後、こ
の表面にはゾ垂直な角度で、すばやくとりのぞくテスト
を１５回繰返したが、蒸着膜の剥離を生ずることがなか
った。
（２）耐溶剤性テスト二 反射防止膜表面をエーテル、
アルコール混合液をつけたレンズ拭き紙（ンルポン紙）
で拭いたが、異常が認められなかった。
アルコール混合液をつけたレンズ拭き紙（ンルポン紙）
で拭いたが、異常が認められなかった。
（３）耐摩耗テスト二 反射防止膜表面の１ケ所をレン
ズ拭き紙（シルボン紙）を用いて３〜４ Ｋｙ／ｄの圧
で５０往復こすったが、異常が認められなかった。
ズ拭き紙（シルボン紙）を用いて３〜４ Ｋｙ／ｄの圧
で５０往復こすったが、異常が認められなかった。
（４）耐環境テスト： 反射防止膜を４５°Ｃ１相対湿
度９５チの恒湿槽中に１０００時間放置し、ついで熱衝
撃テスト（６０℃ニー３０℃）を５回繰返したが、異常
が認められなかった。
度９５チの恒湿槽中に１０００時間放置し、ついで熱衝
撃テスト（６０℃ニー３０℃）を５回繰返したが、異常
が認められなかった。
実施例 ２
実施例１における第２層３〜第７層８を真空度７ Ｘ
ＩＦ５〜１ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒにおいて高周波（
１３，５６ＭＨｚ）酸素プラズマ中において活性化蒸着
する。
ＩＦ５〜１ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒにおいて高周波（
１３，５６ＭＨｚ）酸素プラズマ中において活性化蒸着
する。
この実施例により得られた反射防止膜は、実施例１によ
り得られた反射防止膜と実質的に同じ分光反射特性を示
し、密着性テストにおける２０回の繰返しでも膜の剥離
は認められず、また耐溶剤性も実施例１の反射防止膜の
それと同等またはそれ以上であった。
り得られた反射防止膜と実質的に同じ分光反射特性を示
し、密着性テストにおける２０回の繰返しでも膜の剥離
は認められず、また耐溶剤性も実施例１の反射防止膜の
それと同等またはそれ以上であった。
この実施例において、第３層４のアルミナ１１つ）に代
えて一酸化ケイ素膜またはアルミナと一酸化ケイ素との
混合物の膜若しくはこれらの多層膜、第４層５のジルコ
ニウム膜に代えて酸化セリウム膜またはジルコニウムと
セリウムとの混合物の膜若しくはこれらの多層１換、第
５層６の二酸化ケイ素膜に代えてフッ化マグネシウム膜
または二酸化ゲイ素とフッ化マグネシウムとの混合物の
１１１λ若しくはそれらの多層膜、第６層７の五酸化タ
ンタル１１分に代えて一酸化チタン膜若しくは二酸化チ
タン１１ψまたは五酸化タンタル、−酸化チタン、二酸
化チタンの２以上の混合物の膜若しくはこれらの多層膜
、および／または第７層８の二酸化ケイ素膜に代えてフ
ッ化マグネシウム膜または二酸化ケイ素とフン化マダイ
・シウムとの混合物の膜若しくはこれらの多層膜を用い
て作製した反則防止膜は、いずれも密着性、耐溶剤性、
耐摩耗性および耐環境性において優れたものであった。
えて一酸化ケイ素膜またはアルミナと一酸化ケイ素との
混合物の膜若しくはこれらの多層膜、第４層５のジルコ
ニウム膜に代えて酸化セリウム膜またはジルコニウムと
セリウムとの混合物の膜若しくはこれらの多層１換、第
５層６の二酸化ケイ素膜に代えてフッ化マグネシウム膜
または二酸化ゲイ素とフッ化マグネシウムとの混合物の
１１１λ若しくはそれらの多層膜、第６層７の五酸化タ
ンタル１１分に代えて一酸化チタン膜若しくは二酸化チ
タン１１ψまたは五酸化タンタル、−酸化チタン、二酸
化チタンの２以上の混合物の膜若しくはこれらの多層膜
、および／または第７層８の二酸化ケイ素膜に代えてフ
ッ化マグネシウム膜または二酸化ケイ素とフン化マダイ
・シウムとの混合物の膜若しくはこれらの多層膜を用い
て作製した反則防止膜は、いずれも密着性、耐溶剤性、
耐摩耗性および耐環境性において優れたものであった。
本発明によれば、合成樹脂の種類、成形方法に無関係に
、合成樹脂基板の補強効果と可視光領域における良４好
ｆｊＱ反射防止効果とを兼ね備え、しカＳも密着性、耐
溶剤性、耐摩耗性および耐環境性Ｃニ優れた合成樹脂基
板の反射防止膜をうろこと力；できる。
、合成樹脂基板の補強効果と可視光領域における良４好
ｆｊＱ反射防止効果とを兼ね備え、しカＳも密着性、耐
溶剤性、耐摩耗性および耐環境性Ｃニ優れた合成樹脂基
板の反射防止膜をうろこと力；できる。
第１図は本発明の一実施例の反射防止膜の一部の拡大断
面図であり、第２図は上記反射防止膜の分光反射率特性
を示すグラフである。 １・・・基板 ２・・・第１層 ３・・第２層４・・・
第３層 ５・・第４層 ６・・・第５層７・・・第６層
８・・・第７層 第１図 第２図
面図であり、第２図は上記反射防止膜の分光反射率特性
を示すグラフである。 １・・・基板 ２・・・第１層 ３・・第２層４・・・
第３層 ５・・第４層 ６・・・第５層７・・・第６層
８・・・第７層 第１図 第２図
Claims (2)
- （１）合、成樹脂基板上に形成された光学的膜厚００１
３λ〜λ〔λ（光の波長）＝４５０〜５５０ｎｍ：］の
一酸化ケイ素膜からなる第１層、該第１層上に形成され
た０１３λ〜λの二酸化ケイ素膜からなる第２層、該第
２層上に形成された光学的膜厚０．３６λ〜０４４λの
アルミナ、−酸化ケイ素またはこれらの混合物の膜、或
はアルミナおよび一酸化ケイ素の多層膜からなる第３層
、該第３層上に形成された光学的膜厚０１８λ〜０．２
２λの゛ （ 酸化ジルコニクム、酸化セリウムまたはこれらの混合物
の膜、或は酸化ジルコニウムおよび酸化セリウムの多層
膜からなる第４層、該第４層上に形成された光学的膜厚
０．０３λ〜０．０４λの二酸化ケイ素、フッ化マグネ
シウムまたはこれらの混合物の膜、或は二酸化ケイ素お
よびフッ化マグネシウムの多層膜からなる第５層、該第
５層上に形成された光学的膜厚０２２λ〜０．２７λの
五酸化タンタル、−酸化チタン、二酸化チタンまたはこ
れらの２以上の混合物の膜、或は五酸化タンタル、−酸
化チタンおよび二酸化チタンの２以上の多層膜からなる
第６層および該第６層上に形成された光学的膜厚０．２
４λ〜０，３０λの二酸化ケイ素、フッ化マグネシウム
またはこれらの混合物の膜、或は二酸化ケイ素およびフ
ッ化マグネシウムの多層膜からなる第７層からなること
を特徴とする合成樹脂基板の多層反射防止膜。 - （２）前記第２層から第７層までが活性化反応蒸着によ
り形成されたものである特許請求の範囲第１項記載の反
射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58238811A JPS60130701A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58238811A JPS60130701A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60130701A true JPS60130701A (ja) | 1985-07-12 |
| JPH0461322B2 JPH0461322B2 (ja) | 1992-09-30 |
Family
ID=17035635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58238811A Granted JPS60130701A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60130701A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5597622A (en) * | 1991-08-28 | 1997-01-28 | Leybold Aktiengesellschaft | Process for the production of a reflection-reducing coating on lenses |
-
1983
- 1983-12-20 JP JP58238811A patent/JPS60130701A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5597622A (en) * | 1991-08-28 | 1997-01-28 | Leybold Aktiengesellschaft | Process for the production of a reflection-reducing coating on lenses |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0461322B2 (ja) | 1992-09-30 |
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