JPS60131807A - ウエツト酸素雰囲気生成装置 - Google Patents
ウエツト酸素雰囲気生成装置Info
- Publication number
- JPS60131807A JPS60131807A JP10458284A JP10458284A JPS60131807A JP S60131807 A JPS60131807 A JP S60131807A JP 10458284 A JP10458284 A JP 10458284A JP 10458284 A JP10458284 A JP 10458284A JP S60131807 A JPS60131807 A JP S60131807A
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- JP
- Japan
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- core tube
- container
- oxygen
- hydrogen
- box
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- Pending
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- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はウェット酸素生成装置に関し、特に酸化処理ま
たは拡散処理を行なう炉心管内にウェット酸素を供給す
る装置に関するものである。たとえば、熱処理技術に関
してはElectronic Inte−grated
C1rcui ts (J 、 AI l 1son
著)の48頁〜50頁に紹介されている。
たは拡散処理を行なう炉心管内にウェット酸素を供給す
る装置に関するものである。たとえば、熱処理技術に関
してはElectronic Inte−grated
C1rcui ts (J 、 AI l 1son
著)の48頁〜50頁に紹介されている。
半導体装置等の製造における半導体薄板(ウェハ)め酸
化・拡散プロセスにおいてをま、熱酸イヒ膜の生成や高
精度のデポジション濃度、拡散の深さを得るために、水
素(Hi、酸素(0,)の直接反応によるウェット酸素
生成法()く−ンニング法)が一般に採用されている。
化・拡散プロセスにおいてをま、熱酸イヒ膜の生成や高
精度のデポジション濃度、拡散の深さを得るために、水
素(Hi、酸素(0,)の直接反応によるウェット酸素
生成法()く−ンニング法)が一般に採用されている。
この種のウニ・ノド酸素生成法としては第1図に示すよ
うにノ(イロジ工ニック用水素燃焼機構が知られて℃・
る。すなわち、炉の石英ガラスからなる炉心管(プロセ
スナ二−1ブ)1の細い尾管2に石英ガラスからなる水
素供給管3を相互のすり、合せ面を介し℃気密状態で挿
入して、炉心管1内に水素(H2)を供給するようにす
る。また、尾管2と平行に炉心管1の閉塞端に枝管4を
作り、この枝管4を介して炉心管1内に酸素(0,)を
供給する。また、炉心管1の外周には均熱管やヒータ等
からなるヒータ部5が配設され、炉心管1内の処理室6
を適宜な温度に加熱している。そして、ウエノ・に酸化
膜を形成する場合には、所定の温度に加熱されて(・る
処理室6内に図示しない熱処理治具等を用℃・てシ1)
コンウェハ奪入れ、その後、枝管4から酸素を処理室6
内に供給するとともに水素供給管3から処理室6内忙水
素を入れる。処理室6内が所定温度忙達していることと
、水素および酸素がそれぞれ所定の比率で処理室6内に
送られることから、水素および酸素は爆発することなく
燃焼(−中央7゛を示す)して水蒸気(図中点で示t。
うにノ(イロジ工ニック用水素燃焼機構が知られて℃・
る。すなわち、炉の石英ガラスからなる炉心管(プロセ
スナ二−1ブ)1の細い尾管2に石英ガラスからなる水
素供給管3を相互のすり、合せ面を介し℃気密状態で挿
入して、炉心管1内に水素(H2)を供給するようにす
る。また、尾管2と平行に炉心管1の閉塞端に枝管4を
作り、この枝管4を介して炉心管1内に酸素(0,)を
供給する。また、炉心管1の外周には均熱管やヒータ等
からなるヒータ部5が配設され、炉心管1内の処理室6
を適宜な温度に加熱している。そして、ウエノ・に酸化
膜を形成する場合には、所定の温度に加熱されて(・る
処理室6内に図示しない熱処理治具等を用℃・てシ1)
コンウェハ奪入れ、その後、枝管4から酸素を処理室6
内に供給するとともに水素供給管3から処理室6内忙水
素を入れる。処理室6内が所定温度忙達していることと
、水素および酸素がそれぞれ所定の比率で処理室6内に
送られることから、水素および酸素は爆発することなく
燃焼(−中央7゛を示す)して水蒸気(図中点で示t。
)となり、水蒸気を含む酸素すなわちウェット酸素を炉
心管1の中央方向に供給し、ウェハ表面に熱酸化(Si
0* )膜を形成させることが行なわれている。 、。
心管1の中央方向に供給し、ウェハ表面に熱酸化(Si
0* )膜を形成させることが行なわれている。 、。
しかし、このような機構ではつぎのような欠点がある。
S パ
(1) 細長い炉心、誉は一般に一列に並べだ3采のヒ
ータA、B、Cによって温度制御され、第2図で示すよ
うに、その中央部は一定の温度分布となる。また、一定
の長さに亘って一定の温度分布となるようにするために
1両端部に位置するヒータA、Cによって、炉心管の両
端部は中央部に較べてわずかに温度が高くなるように制
御される。しかし、炉心管の閉塞端部で水素と酸素を反
応させて燃焼させ、ると、炉心管の奥は第2図の二点鎖
線で示すように部分的に温度が上り、炉心管内の均一な
温度分布が損なわれ、酸化膜の生成が不均一となる。な
お、一般的には中央のヒータBは一定の温度を上下動す
るだけの役割゛しか果たさず、炉心管の両端の温度格差
を是正する作用はしない。
ータA、B、Cによって温度制御され、第2図で示すよ
うに、その中央部は一定の温度分布となる。また、一定
の長さに亘って一定の温度分布となるようにするために
1両端部に位置するヒータA、Cによって、炉心管の両
端部は中央部に較べてわずかに温度が高くなるように制
御される。しかし、炉心管の閉塞端部で水素と酸素を反
応させて燃焼させ、ると、炉心管の奥は第2図の二点鎖
線で示すように部分的に温度が上り、炉心管内の均一な
温度分布が損なわれ、酸化膜の生成が不均一となる。な
お、一般的には中央のヒータBは一定の温度を上下動す
るだけの役割゛しか果たさず、炉心管の両端の温度格差
を是正する作用はしない。
(2)安全性あるいは適正に酸化膜生成が成され1いう
カ、否ヵ、等編棒ぶめ、えあ1点火(燃焼)状態を確i
す逮必袂があるが、燃焼は炉心管内で付層われ、炉心管
はi側をヒータ部で取り囲まれていることから、点火(
炎7)を確認するには炉心管?開口部から覗かねばなら
ない。しかし、炉心管内には、ウェハが林立状態等で挿
入されているため、点火(燃焼)を確認できにくい難点
がある。
カ、否ヵ、等編棒ぶめ、えあ1点火(燃焼)状態を確i
す逮必袂があるが、燃焼は炉心管内で付層われ、炉心管
はi側をヒータ部で取り囲まれていることから、点火(
炎7)を確認するには炉心管?開口部から覗かねばなら
ない。しかし、炉心管内には、ウェハが林立状態等で挿
入されているため、点火(燃焼)を確認できにくい難点
がある。
(3)水素と酸素の混合比が変化したり、処理室の温度
が低くなって爆発が生じた場合、炉心管は石英ガラスで
形作られているため粉粉に破壊して周辺に飛び散り、危
険であるとともに、ウエノ1やヒータ部を破損させる欠
点がある。
が低くなって爆発が生じた場合、炉心管は石英ガラスで
形作られているため粉粉に破壊して周辺に飛び散り、危
険であるとともに、ウエノ1やヒータ部を破損させる欠
点がある。
(4)特に拡散炉の場合などには、反応ガスを供ぃ給す
るために、炉心管の閉塞端側には尾管以外に、新に枝管
を設けるのが一般的である。しかしなか、ら、上述した
ものでは、炉心管の構造が竺雑となり、製造コスト、が
高くなる。また、炉心管の−、端には細くて折れ易い尾
管、枝管が2つもあることから取扱゛も従来0尾管グー
炉′6管7較″′倒である。
るために、炉心管の閉塞端側には尾管以外に、新に枝管
を設けるのが一般的である。しかしなか、ら、上述した
ものでは、炉心管の構造が竺雑となり、製造コスト、が
高くなる。また、炉心管の−、端には細くて折れ易い尾
管、枝管が2つもあることから取扱゛も従来0尾管グー
炉′6管7較″′倒である。
したが?て、本発明の目的は、処理室内の温度分布を乱
すことのないウニご卜酸素生成装置及びそれを有する熱
処理炉な提供するこザある。
すことのないウニご卜酸素生成装置及びそれを有する熱
処理炉な提供するこザある。
また・±発明の他の目、的は、点火状態が確認し易く、
かつ安全性の高いものを提供することにある。
かつ安全性の高いものを提供することにある。
□ さらに、本発明の他の目的は、最も一般セな単純な
構造である閉塞端側に導管のみを有する炉心管を使用す
ることのできるものを提供することにある。
構造である閉塞端側に導管のみを有する炉心管を使用す
ることのできるものを提供することにある。
このような目的を達成するために本発明の一実□施例は
、気密性の容器と、この容器内に酸素を供給する酸素供
給機構と、前記i器内に水素噴出ノズルを突出するとた
もに水素噴出ノズルに水素を供給する水素供給機構と、
少なくとも水素噴出ノズルの先端、部周辺−城を加熱す
るヒータ7などの加熱手段と、前記水素噴出ノズルの先
端部で反応生成された水蒸気と酸素とを熱処理炉の炉心
管等に導く導管とを有するものであって、以下本発明を
図に示す実施例を用いて具体的に説−する。
、気密性の容器と、この容器内に酸素を供給する酸素供
給機構と、前記i器内に水素噴出ノズルを突出するとた
もに水素噴出ノズルに水素を供給する水素供給機構と、
少なくとも水素噴出ノズルの先端、部周辺−城を加熱す
るヒータ7などの加熱手段と、前記水素噴出ノズルの先
端部で反応生成された水蒸気と酸素とを熱処理炉の炉心
管等に導く導管とを有するものであって、以下本発明を
図に示す実施例を用いて具体的に説−する。
1第3図は本発明の一実施例であるウェット酸素生成装
置及びそれを有する拡散炉を示す略図である。同図忙は
石英ガラスからなる気密性の容器(ボックス)8が示さ
れている。この容器8は拡散炉のドーピングボックス9
内に収容される。また、前記容器8は三層構造からなり
、最内層ボックス10は不純物を発生したすせず、また
高温にも耐えられることのできるよう忙石英ガラスから
なっている。また、最外層ボックス11会実容器内で爆
発が起きても破損しない強度を有する金属容器、たとえ
ばステンレスからなっている。また、最外層ボックス1
1と最内層ボックス10との間には断熱効果を高めるた
めに石英ウール等の断熱材が入れられ、断熱層12を形
作っている。
置及びそれを有する拡散炉を示す略図である。同図忙は
石英ガラスからなる気密性の容器(ボックス)8が示さ
れている。この容器8は拡散炉のドーピングボックス9
内に収容される。また、前記容器8は三層構造からなり
、最内層ボックス10は不純物を発生したすせず、また
高温にも耐えられることのできるよう忙石英ガラスから
なっている。また、最外層ボックス11会実容器内で爆
発が起きても破損しない強度を有する金属容器、たとえ
ばステンレスからなっている。また、最外層ボックス1
1と最内層ボックス10との間には断熱効果を高めるた
めに石英ウール等の断熱材が入れられ、断熱層12を形
作っている。
前記最内層ボックス1Oにはその上面および側部に複数
のパイプ13が一体的に取り付けられている。すなわち
、−側壁には水素ガスを容器8内に導入する水素供給管
14および酸素ガスを容器8内に導入する酸素供給管1
5が設げられている。
のパイプ13が一体的に取り付けられている。すなわち
、−側壁には水素ガスを容器8内に導入する水素供給管
14および酸素ガスを容器8内に導入する酸素供給管1
5が設げられている。
水素供給管14は最内層ボックス1oを貫通して容器内
に延び、その先端は最内層ボックス1oの天井の中央の
下方に突出している。また、容器8内の水素供給管14
部分には螺旋形のヒータ16が巻き付けられ、その両端
は最内層ボックスエoo。
に延び、その先端は最内層ボックス1oの天井の中央の
下方に突出している。また、容器8内の水素供給管14
部分には螺旋形のヒータ16が巻き付けられ、その両端
は最内層ボックスエoo。
断熱層12.最外層ボックス11を貫いて容器外に延び
、図示しない所定の電源部に接続されている。また、こ
のヒータ16は外側を石英ガラスで被われるとともに、
最内層ボックス1oには石英ガラスを介して溶着され、
挿入部の気密性が保たれている。また、ヒータ16の螺
旋部17の上部は水素供給管14の先端部のノズル部1
8の延長上に亘って延び、ノズル部18の周囲を加熱す
るようになっている。
、図示しない所定の電源部に接続されている。また、こ
のヒータ16は外側を石英ガラスで被われるとともに、
最内層ボックス1oには石英ガラスを介して溶着され、
挿入部の気密性が保たれている。また、ヒータ16の螺
旋部17の上部は水素供給管14の先端部のノズル部1
8の延長上に亘って延び、ノズル部18の周囲を加熱す
るようになっている。
また、前記ノズル部18に対面する最内層ボックス10
の天井には導管19が設けられ、ノズル部18から噴き
出される水素ガスと容器内に充満する酸素ガスとの燃焼
反応によって生じた水蒸気(図中散点で示す。)を容器
8の外に酸素と共に導くよう釦なっている。また、燃焼
による炎20の温度を検出するために、熱電対端子21
が炎20の近傍にまで容器外から侵入している。この熱
電対端子21は内端が閉塞した最内層ボックス10から
延びる石英ガラスからなる保護管22で被われている。
の天井には導管19が設けられ、ノズル部18から噴き
出される水素ガスと容器内に充満する酸素ガスとの燃焼
反応によって生じた水蒸気(図中散点で示す。)を容器
8の外に酸素と共に導くよう釦なっている。また、燃焼
による炎20の温度を検出するために、熱電対端子21
が炎20の近傍にまで容器外から侵入している。この熱
電対端子21は内端が閉塞した最内層ボックス10から
延びる石英ガラスからなる保護管22で被われている。
また、容器8の下部側面には容器底に溜った水を抜く石
英ガラスからなるドレーンバイブ23が取り付けられて
いる。このドレーンパイプ23にはドレーンコック24
が設けられている。また、図示しないが、被処理体を処
理するための反応ガス供給管が容器8に設げられている
。
英ガラスからなるドレーンバイブ23が取り付けられて
いる。このドレーンパイプ23にはドレーンコック24
が設けられている。また、図示しないが、被処理体を処
理するための反応ガス供給管が容器8に設げられている
。
さらに、容器8内で燃える炎20を容器外から観察でき
るように、最外層ボックス11および断熱層12は部分
的に取り除かれて観察窓25が作られている。なお、こ
の観察窓25には最内層ボックス10が爆発した際保護
板となる耐熱性の優れた透明保護板を取り付けておいて
もよい。さらに、前記最内層ボックス10.断熱層12
は最外層ボックス11から順次取り外しが可能な構造と
なっている。
るように、最外層ボックス11および断熱層12は部分
的に取り除かれて観察窓25が作られている。なお、こ
の観察窓25には最内層ボックス10が爆発した際保護
板となる耐熱性の優れた透明保護板を取り付けておいて
もよい。さらに、前記最内層ボックス10.断熱層12
は最外層ボックス11から順次取り外しが可能な構造と
なっている。
一方、容器8から突出した導管19は標準型の炉心管2
6の細い尾管27にフッ素樹脂などからなるチューブか
らなる補助導管28を介して連結される。なお、連結部
には一般公知のこのytパイプを連結するコネクタ29
がそれぞれ用いられる。
6の細い尾管27にフッ素樹脂などからなるチューブか
らなる補助導管28を介して連結される。なお、連結部
には一般公知のこのytパイプを連結するコネクタ29
がそれぞれ用いられる。
また、コネクタ29および補助導管28の外周にはリボ
ンヒータ30が巻き付けられ、補助導管28内を流れる
水蒸気の水滴化を防止するとともに常に一定温度のウェ
ット酸素が炉心管に供給されるようになっている。また
、図中31は炉心管26を加熱するヒータ部である。
ンヒータ30が巻き付けられ、補助導管28内を流れる
水蒸気の水滴化を防止するとともに常に一定温度のウェ
ット酸素が炉心管に供給されるようになっている。また
、図中31は炉心管26を加熱するヒータ部である。
つぎに、炉心管26にウェット酸素を供給する作業につ
いて説明する。ヒータ16によって水素供給管14のノ
ズル部18の近傍を所定温度忙加熱するとともに、容器
8内に酸素供給管15から酸素ガスを噴射させて酸素を
充満させる。また、ノズル部18から水素ガスを噴射さ
せる。なお、水素ガスおよび酸素ガスの供給量は所定比
となるように供給する。この結果、ノズル部18から噴
射される水素は酸素と反応して燃焼し、水蒸気を発生ス
る。そして、容器8内の圧力が高いこともあって、容器
内の水蒸気と酸素と(必要に応じて拡散不純物などの反
応ガスと)とは導管19.補助導管28を通って炉心管
26内に順次供給される。
いて説明する。ヒータ16によって水素供給管14のノ
ズル部18の近傍を所定温度忙加熱するとともに、容器
8内に酸素供給管15から酸素ガスを噴射させて酸素を
充満させる。また、ノズル部18から水素ガスを噴射さ
せる。なお、水素ガスおよび酸素ガスの供給量は所定比
となるように供給する。この結果、ノズル部18から噴
射される水素は酸素と反応して燃焼し、水蒸気を発生ス
る。そして、容器8内の圧力が高いこともあって、容器
内の水蒸気と酸素と(必要に応じて拡散不純物などの反
応ガスと)とは導管19.補助導管28を通って炉心管
26内に順次供給される。
このような実施例によれば、っぎのような効果を奏する
。
。
(1)炉心管へ供給されるウェット酸素はリボンヒータ
によって常に一定温度に維持されて炉心管に供給される
。このため、炉心管の温度分布は安定するため、品質お
よび信頼性の優れたクエハ処理が行なえ、歩留も向上す
る。
によって常に一定温度に維持されて炉心管に供給される
。このため、炉心管の温度分布は安定するため、品質お
よび信頼性の優れたクエハ処理が行なえ、歩留も向上す
る。
(2)燃焼状態は容器の観察窓から簡単に観察できるこ
とから、炉心管に確実に水蒸気が送られているか否かを
確認できる。したがって、水蒸気が行なわれていない状
態でウェハ処理を行なうことも避けられる。
とから、炉心管に確実に水蒸気が送られているか否かを
確認できる。したがって、水蒸気が行なわれていない状
態でウェハ処理を行なうことも避けられる。
(3)容器内で爆発が生じても、容器の最外層ボックス
は耐圧性で強度が大きいことから、従来のように容器外
に石英ガラスの破片が飛び散ることもない。したがって
、安全である。また、従来のようにウェハな飛散する石
英ガラス片で破損させることもないので、歩留の低下を
引き起こすこともない。さらに、飛散する石英ガラス片
でヒータ部を破壊させることもないので、熱処理炉装置
各部の寿命も長くなり、製品の処理コストの軽減化にも
繋がる。
は耐圧性で強度が大きいことから、従来のように容器外
に石英ガラスの破片が飛び散ることもない。したがって
、安全である。また、従来のようにウェハな飛散する石
英ガラス片で破損させることもないので、歩留の低下を
引き起こすこともない。さらに、飛散する石英ガラス片
でヒータ部を破壊させることもないので、熱処理炉装置
各部の寿命も長くなり、製品の処理コストの軽減化にも
繋がる。
(4)炉心管は尾管な有する標準品を使用することがで
きることから、設備費も安価となる。
きることから、設備費も安価となる。
なお、本発明は前記実施例に限定されない。また、この
ウェット酸素生成装置は他の機器にも簡単に取り付けて
使用することができる。
ウェット酸素生成装置は他の機器にも簡単に取り付けて
使用することができる。
第1図は従来の拡散炉の炉心管へウェット酸素を供給す
るウェット酸素生成機構を示す一部断面図、第2図は同
じく炉心管における温度分布を示す温度曲線図、第3図
は本発明に係本ウェット酸素生成装置を示す断面図であ
る。 1・・・炉心管、3・・・水素供給管、5・・・ヒータ
部、6・・・処理室、7・・・炎、8・・・容器、10
・・・最内層ボンクス、11・・・最外層ボックス、1
2・・・断熱層、14・・・水素供給管、15・・・酸
素供給管、16・・・ヒータ、18・・・ノズル部、1
9・・・導管、20・・・炎、21・・・熱電対端子、
25・・・観察層、26・・・炉心管、27・・・尾管
、28・・・補助導管、30・・・リボンヒータ、31
・・・ヒータ部。
るウェット酸素生成機構を示す一部断面図、第2図は同
じく炉心管における温度分布を示す温度曲線図、第3図
は本発明に係本ウェット酸素生成装置を示す断面図であ
る。 1・・・炉心管、3・・・水素供給管、5・・・ヒータ
部、6・・・処理室、7・・・炎、8・・・容器、10
・・・最内層ボンクス、11・・・最外層ボックス、1
2・・・断熱層、14・・・水素供給管、15・・・酸
素供給管、16・・・ヒータ、18・・・ノズル部、1
9・・・導管、20・・・炎、21・・・熱電対端子、
25・・・観察層、26・・・炉心管、27・・・尾管
、28・・・補助導管、30・・・リボンヒータ、31
・・・ヒータ部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1Ja)耐熱性部材により形成された生成室と(b)上
記生成室の内部忙水素ガスを導入するためのガス導入管
と (C)上記生成室に酸素ガスを導入するためのガス導入
手段と (d)上記生成室内での酸水素化合反応を促進するため
の反応補助手段と (e)上記反応により生成した水蒸気を送出するための
送出孔 よりなるウェット酸素雰囲気生成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10458284A JPS60131807A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | ウエツト酸素雰囲気生成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10458284A JPS60131807A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | ウエツト酸素雰囲気生成装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15986078A Division JPS5590405A (en) | 1978-12-27 | 1978-12-27 | Forming device for wet oxygen and heat treatment furnace provided with the said device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60131807A true JPS60131807A (ja) | 1985-07-13 |
Family
ID=14384425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10458284A Pending JPS60131807A (ja) | 1984-05-25 | 1984-05-25 | ウエツト酸素雰囲気生成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60131807A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111170764A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-05-19 | 娄底市安地亚斯电子陶瓷有限公司 | 一种湿氢系统及其工作方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123667A (en) * | 1977-04-04 | 1978-10-28 | Mitsubishi Electric Corp | Generator for semiconuctor oxidized film |
-
1984
- 1984-05-25 JP JP10458284A patent/JPS60131807A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123667A (en) * | 1977-04-04 | 1978-10-28 | Mitsubishi Electric Corp | Generator for semiconuctor oxidized film |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111170764A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-05-19 | 娄底市安地亚斯电子陶瓷有限公司 | 一种湿氢系统及其工作方法 |
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