JPS6013308B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPS6013308B2
JPS6013308B2 JP52096538A JP9653877A JPS6013308B2 JP S6013308 B2 JPS6013308 B2 JP S6013308B2 JP 52096538 A JP52096538 A JP 52096538A JP 9653877 A JP9653877 A JP 9653877A JP S6013308 B2 JPS6013308 B2 JP S6013308B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lid
bottom plate
wall
insulating material
contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP52096538A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5323274A (en
Inventor
ライナ・エマイス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Corp
Original Assignee
Siemens Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Corp filed Critical Siemens Corp
Publication of JPS5323274A publication Critical patent/JPS5323274A/ja
Publication of JPS6013308B2 publication Critical patent/JPS6013308B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W76/00Containers; Fillings or auxiliary members therefor; Seals
    • H10W76/10Containers or parts thereof
    • H10W76/12Containers or parts thereof characterised by their shape
    • H10W76/13Containers comprising a conductive base serving as an interconnection
    • H10W76/138Containers comprising a conductive base serving as an interconnection having another interconnection being formed by a cover plate parallel to the conductive base, e.g. sandwich type

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属製の底板と金属製の蓋からなる平形容器
を備え、前記底板と蓋とが絶縁物質で機械的に相互に結
合されそして前記容器内に半導体素子が封入され、前記
底板および蓋に押し付けられてこれらと熱的および電気
的に接触する半導体装置に関する。
公知のこの種半導体装置は、可視・性の絶縁物質リング
を用いて封止されるか、可塑性絶縁物質を用いてモール
ドされていた。
液状絶縁物質の流入を避けるために、場合によっては、
可孫性の絶縁物質リングと、可塑性絶縁物質により形成
された絶縁体とを組合わせることも行われてきた。この
場合、半導体素子と底板ないし素子と蓋との間で「単に
加圧接触のみが行われるときには、封止に対して厳格な
要求が課せられる。というのは、液状のないし可塑状態
にある合成樹脂が、毛細管作用により底板、蓋および半
導体素子間の接触面を濡らす煩向があるからである。さ
らにモールドのために、注形用のあるいはトランスファ
ーモールドのための型が必要である。このような型は高
価であり、半導体装置の価格を引き上げることになる。
本発明の目的は、最初に述べた形式の半導体装置を改良
し、複雑な型を用いることないこ簡単に封止を行えるよ
うにすることにある。
本発明は、蓋を底部および壁部を備えたつば状体として
形成し、半導体素子の一方の電極を底部に接触させ、つ
ば状体の壁部が入り込む溝を底板に設け、半導体素子の
他の電極を溝から隔たった底板の表面に接触させそして
溝を、壁部が浸されるまで絶縁性の物質で充たすことを
特徴とする。
溝を絶縁物質で充たすにあたり、半導体素子の電極と接
触する面が絶縁物質と触れない範囲内の充填を行うのが
望ましい。こうすれば、絶縁物質による接触面の濡れを
防ぐための特別の封止処置が不要となる。半導体素子を
蓋内に保持するようにすると有利である。これを伴い、
組立てが著しく簡単になる。底板に、閉止可能な排気口
を設けることができる。
この開□はtリベットを用いて閉じられる。排気口を通
して、容器組立ての際に封じ込まれた空気は、絶縁物質
を通過することないこ排気される。以下本発明を図示の
実施例について詳しく説明する。
半導体装置の容器の蓋を「第1図に符号1で示す。
この蓋は、銅やアルミニウムのような熱良導性の金属か
らなる。蓋はつば状に形成され、底部2と壁部3を備え
る。蓋i‘ま半導体素子軍Qを受容する働きをし、この
場合「壁部3の内蓬は、蓋亀から半導体素子】0が落ち
出さないように「素子10の外径と適合されている。半
導体装置の容器の底板を第2図に符号亀で示す。
底板4は「蓋亀の壁部3の形状を適合し,た形の溝5を
有する。両部分は、例えばリング状であり得る。溝5で
取り囲まれた面は半導体素子IQの接触面として働き、
符号6を付されている。底板4は、排気口7を備える。
溝5はト段部亀2を有することができる。菱に排気口を
設けることも可能である。装置の組立てに際しては、溝
5内に液状の「硬化可能なないいま他の方法で固化する
絶縁物質を充たし(第3図)、次いで蓋1を底板4上に
、壁部3が絶縁材料9中に浸たるよう戦層する。
この場合、壁部3が、その全域で溝5の壁と等しい間隔
を持つようにして、蓋1と底板4との心合わせを行うと
有利である。壁部3をできる限り薄くして「押し出され
る絶縁物質の量を可能な限り少なくするのが望ましい。
壁部3を溝5内に浸す際「絶縁物質の一部だけが押しの
けられ、この結果液面が上昇する。
この際、毅部軍2も充たされ、これに伴って、蓋1と底
板亀との間の、絶縁物質9の沿面距離が増大する。絶縁
物質9の体積は「壁部3の浸贋時、物質9が接触面6ま
で上昇しないように選ぶのが望ましい。こうすれば〜底
板4と半導体素子IQとの電気的、熱的接触がト侵入し
た物質により妨げられることがない。蓋亀を溝内に浸し
た際容器の内部に封入された空気は、排気口?を通して
抜き取られる。半導体素子10が庭坂母上に接触すると
、排気口7‘ま、例えばリベット8を用いて閉鎖される
。半導体素子1叫ぶ通例の通りト縁部に露出するpn接
合を保護するためのワニス亀富を備えることができる。
絶縁物質9の硬化に伴い、半導体装置は最終的に姿止さ
れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の−実施例に係る半導体装置の蓋ならび
にここに収容された半導体素子の縦断面図、第2図は底
板の縦断面図、第3図は完成した半導体装道の縦断面図
である。 富…・・・蓋、2……底部、3……壁部、4…・・・底
板「 5…・・・溝、9・・・・・・絶縁物質、10…
・・・半導体素子。 Fig.’ Fig.2 Fi9.3

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 金属製の底板と金属製の蓋からなる平形容器を備え
    、前記底板と蓋とが絶縁物質で機械的に相互に結合され
    そして前記容器内に半導体素子が封入されて前記底板お
    よび蓋に押しつけられ、これらと熱的および電気的に接
    触するものにおいて、蓋を底部および壁部を備えたつぼ
    状体として形成し、半導体素子の一方の電極を底部に接
    触させ、つぼ状体の壁部が入り込む溝を底板に設け、半
    導体素子の他方の電極を溝で囲まれた底板の表面に接触
    させ、そして壁部の一部のみが浸されるまで、しかも半
    導体素子には触れないように絶縁性の物質で溝を充たし
    たことを特徴とする半導体装置。
JP52096538A 1976-08-13 1977-08-11 半導体装置 Expired JPS6013308B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2636629.0 1976-08-13
DE19762636629 DE2636629A1 (de) 1976-08-13 1976-08-13 Halbleiterbauelement mit scheibenfoermigem gehaeuse

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5323274A JPS5323274A (en) 1978-03-03
JPS6013308B2 true JPS6013308B2 (ja) 1985-04-06

Family

ID=5985435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP52096538A Expired JPS6013308B2 (ja) 1976-08-13 1977-08-11 半導体装置

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPS6013308B2 (ja)
DE (1) DE2636629A1 (ja)
FR (1) FR2361747A1 (ja)
GB (1) GB1548109A (ja)
IT (1) IT1085732B (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4161746A (en) * 1978-03-28 1979-07-17 Westinghouse Electric Corp. Glass sealed diode
US5081327A (en) * 1990-03-28 1992-01-14 Cabot Corporation Sealing system for hermetic microchip packages
FR2660797A1 (fr) * 1990-04-06 1991-10-11 Motorola Semiconducteurs Boitier d'encapsulage perfectionne pour dispositif a semiconducteur.
US5371386A (en) * 1992-04-28 1994-12-06 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device and method of assembling the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR74228E (fr) * 1957-09-30 1960-11-07 Gen Motors Corp Transistor perfectionné
DE1564665C3 (de) * 1966-07-18 1975-10-30 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2014289A1 (de) * 1970-03-25 1971-10-14 Semikron Gleichrichterbau Scheibenförmiges Halbleiterbauele ment und Verfahren zu seiner Herstellung

Also Published As

Publication number Publication date
GB1548109A (en) 1979-07-04
JPS5323274A (en) 1978-03-03
FR2361747A1 (fr) 1978-03-10
IT1085732B (it) 1985-05-28
DE2636629A1 (de) 1978-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3817791A (en) Lithium iodine battery
KR930014852A (ko) 반도체 집적 회로 장치의 제조 방법, 그것에 사용되는 성형장치 및 성형 재료
JPH04321259A (ja) 半導体装置
JPS6013308B2 (ja) 半導体装置
JPS62172683A (ja) 自己制御発熱体の製造方法
KR950010028A (ko) 액체를 함유한 마이크로전자 장치 패키지 및 그 제조방법
JPS5824464Y2 (ja) 混成集積回路装置
US3969143A (en) Enclosure for lithium-iodine cell and method of making the same
GB1201595A (en) Encapsulated semiconductor device
SE7904113L (sv) Verme- och elisolerade och tetande distansstycke mellan mantlade motstands mantelendar och endanslutningar samt sett for dess tillverkning
US3199001A (en) Temperature stable transistor device
US5013505A (en) Method of molding a casing on a rotary electric component
JPS624975Y2 (ja)
JPS5818288Y2 (ja) 半導体装置
JPS607484Y2 (ja) 電子部品の樹脂モ−ルド装置
JPS54162963A (en) Manufacture of resin-sealed semiconductor device
JPS56164543A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS5931427A (ja) センサ−部のシリコン樹脂の充填方法
JPS56167337A (en) Manufacture of resin-sealed type module
JPS5843201Y2 (ja) 部品ケ−スのシ−ル構造
JPS5837694B2 (ja) 半導体装置
JPS54149582A (en) Manufacture of resin-sealed semiconductor device
JPS6316122Y2 (ja)
JPS5685832A (en) Semiconductor device
JPS585348U (ja) 樹脂封止型半導体装置