JPS60138431A - 表面音波センサ - Google Patents
表面音波センサInfo
- Publication number
- JPS60138431A JPS60138431A JP18009883A JP18009883A JPS60138431A JP S60138431 A JPS60138431 A JP S60138431A JP 18009883 A JP18009883 A JP 18009883A JP 18009883 A JP18009883 A JP 18009883A JP S60138431 A JPS60138431 A JP S60138431A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- temperature
- pressure
- regions
- propagation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Measurement Of Mechanical Vibrations Or Ultrasonic Waves (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明は一般に表面音波を用い知力を6(1j定するセ
ンサに係り、特に1表面音波を用いて高圧力を測定する
のに適した非常に安定性及び感度の艮い圧力センサに係
る口 遅延線や共振器のような表面晋e(以下SAWと称する
)装置を用いたセンサは、加速度や、ストレス及び歪や
、圧力を測定するものとして知られている。これらのセ
ンサは、一般に、加速度やストレス又は歪や圧力を受け
た時に変形する薄い可撓性ダイヤフラムにわたって表面
音波が伝搬することに基いている。表面音波の速度及び
経路長さはダイヤフラムの変形と共に鋭化するので、渋
面音波の遅延時間は、外部から与えられた加速度、スト
レス又は歪、或すは圧力の関数となる。表面音波の伝搬
特性の変化は、再生フィードバックループにおいてSA
W装置と直列に接続された外部発振回路の発振周波数の
変化として測定される。
ンサに係り、特に1表面音波を用いて高圧力を測定する
のに適した非常に安定性及び感度の艮い圧力センサに係
る口 遅延線や共振器のような表面晋e(以下SAWと称する
)装置を用いたセンサは、加速度や、ストレス及び歪や
、圧力を測定するものとして知られている。これらのセ
ンサは、一般に、加速度やストレス又は歪や圧力を受け
た時に変形する薄い可撓性ダイヤフラムにわたって表面
音波が伝搬することに基いている。表面音波の速度及び
経路長さはダイヤフラムの変形と共に鋭化するので、渋
面音波の遅延時間は、外部から与えられた加速度、スト
レス又は歪、或すは圧力の関数となる。表面音波の伝搬
特性の変化は、再生フィードバックループにおいてSA
W装置と直列に接続された外部発振回路の発振周波数の
変化として測定される。
1976年9月7日に発行されたReader 氏等の
米国特許第3,978,731号、並びに1975年2
月4日に発行されたvan de Vaart 氏等の
米国特許第3.863,497号には、このようなSA
Wセンサが開示されている。
米国特許第3,978,731号、並びに1975年2
月4日に発行されたvan de Vaart 氏等の
米国特許第3.863,497号には、このようなSA
Wセンサが開示されている。
S A Wセンサの感圧ダイヤフラムを製造する方法は
多砂知られている。薄膜技術によってスチールビームに
付着された圧電トランスジューサを有するセンサが、1
978年8月15日イマ1のにlewlt氏の米国特許
第4,107,626号に開示されている。拐′hが同
じで且つ互いに同じ向きに接合された2つの基体、即ち
SAW基体及びペース基体を有するセンサが、1980
年8月5日付のWagner 氏の米国特許第4.21
6.401号に開示きれている。このようなセンサはそ
の作動特性に甚だしい制約があるか、或いは接合上の制
約によって性能低下を受けた如実際上機能不良を生じた
りする。
多砂知られている。薄膜技術によってスチールビームに
付着された圧電トランスジューサを有するセンサが、1
978年8月15日イマ1のにlewlt氏の米国特許
第4,107,626号に開示されている。拐′hが同
じで且つ互いに同じ向きに接合された2つの基体、即ち
SAW基体及びペース基体を有するセンサが、1980
年8月5日付のWagner 氏の米国特許第4.21
6.401号に開示きれている。このようなセンサはそ
の作動特性に甚だしい制約があるか、或いは接合上の制
約によって性能低下を受けた如実際上機能不良を生じた
りする。
又、例えば、1978年7月180付のCallen氏
等の米国特許第4.100,811号に開示されたよう
に、5AW一体に中央91jl#lをあけることによっ
て感圧ダイヤフラムが形成される。この解決策では、感
知領域で接合を行なわずにすむが、この形式の穴あけさ
れたダイヤフラムは、所望の厚み又は非常に薄い厚みに
作ることが容易で々く、又、膜面を平行に作ることも容
易でない。更に、鋭くて深い隅にストレスが集中し、こ
れによりこのセンサは低圧力の使用目的に駆足される。
等の米国特許第4.100,811号に開示されたよう
に、5AW一体に中央91jl#lをあけることによっ
て感圧ダイヤフラムが形成される。この解決策では、感
知領域で接合を行なわずにすむが、この形式の穴あけさ
れたダイヤフラムは、所望の厚み又は非常に薄い厚みに
作ることが容易で々く、又、膜面を平行に作ることも容
易でない。更に、鋭くて深い隅にストレスが集中し、こ
れによりこのセンサは低圧力の使用目的に駆足される。
上記した問題の幾つかを解決する円筒状の感圧ダイヤフ
ラムが、1975年4月15日付のDlas氏等の米国
特許第5,878.477号に開示されている。流体を
ダイヤプラムの内部に入れて圧力の測定を行なうために
各エンドキャッグが設けられている。然し乍ら、このよ
うな円筒状ダイヤフラムは、m変質化が圧力測定に悪影
響を及ぼすという点で欠点がある。
ラムが、1975年4月15日付のDlas氏等の米国
特許第5,878.477号に開示されている。流体を
ダイヤプラムの内部に入れて圧力の測定を行なうために
各エンドキャッグが設けられている。然し乍ら、このよ
うな円筒状ダイヤフラムは、m変質化が圧力測定に悪影
響を及ぼすという点で欠点がある。
一般に、DIδS 氏等の特許に開示された円筒状感圧
ダイヤフラムを含むSAW装置を用いたセンサは温度変
化によって悪影響を受ける。このよりなSAW装置は、
一般に、水晶、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム
のような圧電拐料のSAW基体か、或いは酸化亜鉛のよ
う々圧電材料の適当な薄膜を有するシリコンのような複
合処理基体を備えており、これらは全てその表面下布の
化に応答して表面音波伝搬速度に測定可能な変化を与え
るに充分な音響−電気結合を示す。これらの側斜は温度
やストレスや加速度を含む歪関連現象を感知するので、
王カセンサは温度変化を浦IAする手段を備えていなけ
ればならないか、或いはSTカット((Vxwl)0°
/42 、75° )父はSSTカット((yxwl)
0°/−49,22°、伝搬方向は二方晶細から26°
)のような幌度補IAの方向が使用これる場合には、
所嶋の温度又はH「与の狭い温度範囲で作動しなければ
ならない。
ダイヤフラムを含むSAW装置を用いたセンサは温度変
化によって悪影響を受ける。このよりなSAW装置は、
一般に、水晶、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム
のような圧電拐料のSAW基体か、或いは酸化亜鉛のよ
う々圧電材料の適当な薄膜を有するシリコンのような複
合処理基体を備えており、これらは全てその表面下布の
化に応答して表面音波伝搬速度に測定可能な変化を与え
るに充分な音響−電気結合を示す。これらの側斜は温度
やストレスや加速度を含む歪関連現象を感知するので、
王カセンサは温度変化を浦IAする手段を備えていなけ
ればならないか、或いはSTカット((Vxwl)0°
/42 、75° )父はSSTカット((yxwl)
0°/−49,22°、伝搬方向は二方晶細から26°
)のような幌度補IAの方向が使用これる場合には、
所嶋の温度又はH「与の狭い温度範囲で作動しなければ
ならない。
種々の形式のセンサの温度変化をt…償する技術として
は幾つかの技術が知られている。前記したにlewlt
氏の特許には、衣面叶波が水温的に同一の−°般的に
平らな間の隣接領域において伝搬して各領域に対する温
度変化の影響が実・編曲に等しくされるよう々幅度@慣
技術が開示されている・センサに力がか\ると、各領域
−一方の領域は圧縮状態にありそしてイ1!1方の領域
は引張り状態にある−に関連した各発振器の出力を混合
することによってイ(jた周波数の差は、ビームの伸件
限界内でのその撓みに比例する。前記のDlas 氏等
の特許には、圧電側斜の一般的に平らな1つの基体に接
続された2つの表IIn音波発振器が基体の表面に直角
に与えられた力に応答して各周波数を逆に変化させるよ
う7)温度補償技術が開示享れている。
は幾つかの技術が知られている。前記したにlewlt
氏の特許には、衣面叶波が水温的に同一の−°般的に
平らな間の隣接領域において伝搬して各領域に対する温
度変化の影響が実・編曲に等しくされるよう々幅度@慣
技術が開示されている・センサに力がか\ると、各領域
−一方の領域は圧縮状態にありそしてイ1!1方の領域
は引張り状態にある−に関連した各発振器の出力を混合
することによってイ(jた周波数の差は、ビームの伸件
限界内でのその撓みに比例する。前記のDlas 氏等
の特許には、圧電側斜の一般的に平らな1つの基体に接
続された2つの表IIn音波発振器が基体の表面に直角
に与えられた力に応答して各周波数を逆に変化させるよ
う7)温度補償技術が開示享れている。
前記のRe5der 氏等の特許には、センサの2つの
音響チャンネルが、一般的に平らなダイヤフラムの同じ
基体士に互いに接近して形成されていて、それらの温度
差が小さくされた温度補ffJ技術が開示されている。
音響チャンネルが、一般的に平らなダイヤフラムの同じ
基体士に互いに接近して形成されていて、それらの温度
差が小さくされた温度補ffJ技術が開示されている。
1つのチャンネルは主チャンネル即ち測定チャンネルで
あり、他方のチャ、ンネルは基準チャンネルである。基
準チャンネルの圧力は一定に保持され、1tltl定チ
ヤンネルの出力は、基準チャンネルの出力と混合された
後、絶対圧力の尺度となる。1975年5月27日付の
Dlar 氏等の米国特許第3,886,484号には
、2本の遅延線−その一方はθ=42.75°の回転Y
カットそして他方はR=35°の回転Yカッ) −がカ
スケード接続されて安定作動の温度範囲を広くするよう
な装置が開示されている。又、1976年12月21日
付のotte 氏等の米国特許第3.999,147号
には、別々の方向に沿った遅延の温度係数が逆符号とな
るように側斜と結合された反射格子を有する音波装置が
開示されている。音波は、遅延に対して直線的なゼロ温
度係数を与えるように適当な経路長さに沿って伝搬され
る。
あり、他方のチャ、ンネルは基準チャンネルである。基
準チャンネルの圧力は一定に保持され、1tltl定チ
ヤンネルの出力は、基準チャンネルの出力と混合された
後、絶対圧力の尺度となる。1975年5月27日付の
Dlar 氏等の米国特許第3,886,484号には
、2本の遅延線−その一方はθ=42.75°の回転Y
カットそして他方はR=35°の回転Yカッ) −がカ
スケード接続されて安定作動の温度範囲を広くするよう
な装置が開示されている。又、1976年12月21日
付のotte 氏等の米国特許第3.999,147号
には、別々の方向に沿った遅延の温度係数が逆符号とな
るように側斜と結合された反射格子を有する音波装置が
開示されている。音波は、遅延に対して直線的なゼロ温
度係数を与えるように適当な経路長さに沿って伝搬され
る。
発明の概要
それ故、本発明の目的は、圧力及びこれに関連した現象
を測定するのに適した感知用ダイヤフラムを提供するこ
とである。
を測定するのに適した感知用ダイヤフラムを提供するこ
とである。
この目的及び他の目的は、本発明の1つの%徴によれば
、円筒状又は球状の外面と円筒状又は球状の内面を備え
た結晶質ダイヤフラム区分を備えていて、上記外面及び
内面の一方は与えられた圧力を受けるようにされ、そし
て上記外面及び内面の他方は、選択はれた方向(オリエ
ンテーション)を有していて表面音波装置の形成に用い
られる第1の領域と、この第1領謔の向きと集信的に同
一の方向にこれていて表面音波装置婿の形成に1月いら
れる第2領域とを備え、与えられた圧力を受ける工うに
された上記面と上記第1碩域との間の上記ダイヤフラム
区分の第1部分は第1の所定の厚みを有し、そして与え
られた圧力を受けるようにされた上記面と上記第2領域
との間の上記ダイヤフラム区分の第2部分は上記第1の
所定厚みとは異なる第2の所定厚みを有するような表面
叶波信号周波数el&によって達成される・ 本発明の別の特徴として、円筒状又は球状の外面と、円
筒状又は球状の内面とを有する結晶質ダイヤフラム区分
を備えていて、上記外面は与えられた等方件の力を受け
るようにさ几そして上記内面は選択ばれた結晶格子構成
の領域をイイしており、この領域は我面廿波装置)Iの
形l戎に用いられるような表面音波−信号周波数装岬が
提供される。
、円筒状又は球状の外面と円筒状又は球状の内面を備え
た結晶質ダイヤフラム区分を備えていて、上記外面及び
内面の一方は与えられた圧力を受けるようにされ、そし
て上記外面及び内面の他方は、選択はれた方向(オリエ
ンテーション)を有していて表面音波装置の形成に用い
られる第1の領域と、この第1領謔の向きと集信的に同
一の方向にこれていて表面音波装置婿の形成に1月いら
れる第2領域とを備え、与えられた圧力を受ける工うに
された上記面と上記第1碩域との間の上記ダイヤフラム
区分の第1部分は第1の所定の厚みを有し、そして与え
られた圧力を受けるようにされた上記面と上記第2領域
との間の上記ダイヤフラム区分の第2部分は上記第1の
所定厚みとは異なる第2の所定厚みを有するような表面
叶波信号周波数el&によって達成される・ 本発明の別の特徴として、円筒状又は球状の外面と、円
筒状又は球状の内面とを有する結晶質ダイヤフラム区分
を備えていて、上記外面は与えられた等方件の力を受け
るようにさ几そして上記内面は選択ばれた結晶格子構成
の領域をイイしており、この領域は我面廿波装置)Iの
形l戎に用いられるような表面音波−信号周波数装岬が
提供される。
本発明の他の目的、特徴及び・時性は、添付図面を参照
した以下の1細な説明より明らかとなろう。
した以下の1細な説明より明らかとなろう。
添付図面におhては、同様の部分か同様の溝間番号で示
されている。
されている。
好ましい弊励例の詳細な説明
本発明の感知ダイヤフラムは、第1図ないし第3図に示
された内部に荷重のか\る形式の実施例及び第4図々い
し第5図に示された外部に荷重のか\る実施例について
一般的に説明−ノーる。本発明のilr規冷感知ダイヤ
フラムは、外部に荷重のか\るものも内部に萌第のか(
るものも、圧力の感知−〇に良く適してかり、力や加速
度のような当該現象を感知するのに利用できる。本発明
の新規な感知ダイヤフラノ・は、例えば、o’cfxい
し100Cの塩度範囲にわたりそして成る実施例では2
75℃又はそれ以上の温度に対し、は′!1″0.01
psi (0、0O07に9々2)又はそれ以上の高い
分解能で、フルスケールのはyo、ozs9に又ハそれ
以上の高い精度で、はV2O秒又はそれ以上の速い応答
時間で、はソ106 又はそれ以上の広いダイナミック
レンジで、更に、ダート時間1秒又はそれ以上に対して
はyΔf/f= 11−IQ という良好々短時間周波
数安定性で、そしてはソΔf/f=10″″67年 又
はそれ以上という良好な長時間周波数安定性による良好
なニーソング特性で、0pslないし8 * 000
ps 1 (560kg/(−”In2)というレンジ
の圧力を感知しそして成る実施例では30.000ps
l (210□ Kg/1x2)又はそれ以上の圧力を
感知するように作動しなければならない・作M原理、適
当な圧力ハウジング及び適当な電気回路について以下に
説明する・ 第1図ないし第3図に示された内部に荷重のかかる実施
例においては、好ましくは水晶である円筒状部剃1に2
つの長手方向平面2a及び2bが設けられており、これ
らの平面は好ましく幻円筒部+t lの外面に形成され
るが、各平行面内に存在する平面2a及び2bのように
必ずしも互いに対向するものでなくてもよい。各平面2
a及び2bは深さr、まで切削(ミーリング)される。
された内部に荷重のか\る形式の実施例及び第4図々い
し第5図に示された外部に荷重のか\る実施例について
一般的に説明−ノーる。本発明のilr規冷感知ダイヤ
フラムは、外部に荷重のか\るものも内部に萌第のか(
るものも、圧力の感知−〇に良く適してかり、力や加速
度のような当該現象を感知するのに利用できる。本発明
の新規な感知ダイヤフラノ・は、例えば、o’cfxい
し100Cの塩度範囲にわたりそして成る実施例では2
75℃又はそれ以上の温度に対し、は′!1″0.01
psi (0、0O07に9々2)又はそれ以上の高い
分解能で、フルスケールのはyo、ozs9に又ハそれ
以上の高い精度で、はV2O秒又はそれ以上の速い応答
時間で、はソ106 又はそれ以上の広いダイナミック
レンジで、更に、ダート時間1秒又はそれ以上に対して
はyΔf/f= 11−IQ という良好々短時間周波
数安定性で、そしてはソΔf/f=10″″67年 又
はそれ以上という良好な長時間周波数安定性による良好
なニーソング特性で、0pslないし8 * 000
ps 1 (560kg/(−”In2)というレンジ
の圧力を感知しそして成る実施例では30.000ps
l (210□ Kg/1x2)又はそれ以上の圧力を
感知するように作動しなければならない・作M原理、適
当な圧力ハウジング及び適当な電気回路について以下に
説明する・ 第1図ないし第3図に示された内部に荷重のかかる実施
例においては、好ましくは水晶である円筒状部剃1に2
つの長手方向平面2a及び2bが設けられており、これ
らの平面は好ましく幻円筒部+t lの外面に形成され
るが、各平行面内に存在する平面2a及び2bのように
必ずしも互いに対向するものでなくてもよい。各平面2
a及び2bは深さr、まで切削(ミーリング)される。
必要とさ1するのは単1の平面だけであるが、同様に切
削された2つの対向平面を用いると、機械的な対称性が
与えられると共に、後述するような別の効果も得られる
。円筒1には穴4が形成され、穴4と円筒】の軸は一致
する。第1図力いし第3図に示されたダイヤフラム及び
以下に述べる内部に荷重のか\る別の実施例のダイヤフ
ラムの糊々の構造上のかつこうは、特に指示のない限り
、以下に示すような大きさにづれるが、使用される材料
の種類、構造体に使用されるSAW装署の形式、SAW
装置の位置を決める表面晋波エネルギの伝搬方向、及び
圧力センサの仕様といつrものの関数である寸法は特定
の使用目的に1“艮も合った大きさにされるものとする
。円筒1は、直44’−,I Q Iが26朝であり、
長#’L’が65胴である。各々の平面2a及び2bは
、巾が14 trmじCあり、酷さが21關である。穴
4は置所が10跣である。切削の深さrl は2咽であ
る。穴4の位置及び各平面が切られる深ばrl によっ
て厚みtl −6mu −が決まる。
削された2つの対向平面を用いると、機械的な対称性が
与えられると共に、後述するような別の効果も得られる
。円筒1には穴4が形成され、穴4と円筒】の軸は一致
する。第1図力いし第3図に示されたダイヤフラム及び
以下に述べる内部に荷重のか\る別の実施例のダイヤフ
ラムの糊々の構造上のかつこうは、特に指示のない限り
、以下に示すような大きさにづれるが、使用される材料
の種類、構造体に使用されるSAW装署の形式、SAW
装置の位置を決める表面晋波エネルギの伝搬方向、及び
圧力センサの仕様といつrものの関数である寸法は特定
の使用目的に1“艮も合った大きさにされるものとする
。円筒1は、直44’−,I Q Iが26朝であり、
長#’L’が65胴である。各々の平面2a及び2bは
、巾が14 trmじCあり、酷さが21關である。穴
4は置所が10跣である。切削の深さrl は2咽であ
る。穴4の位置及び各平面が切られる深ばrl によっ
て厚みtl −6mu −が決まる。
上記の寸法は、内部に荷重のか\る実施例及び外部に#
重のか(る実施例について述べた以下の説明を通して高
圧ダイヤフラムに適した寸法の組合せの一例をなす。寸
法の選択は、構造体の熱掘を下げる一方、例えば温度勾
配をすばやく平衡きせるように単位質量当たりの表面K
Nを比較的大きく維持し、高圧作動に対して構造強度を
得、そして使用されるSAW装置の製造及び性能に対1
−る条件を受け容れるといった種々の関係の兼ね合いで
行なわれる。内部に荷重のか\る実#i1+llに対す
る上記の寸法では、例えば14隅×21鮪という切削さ
れた平面は、ダイヤフラムの物理的fr質肘及び平面の
作動領域のヒステリシスをJθ小にする一方、充分な強
度を与えるような大きさである〇然し乍ら、SAW装置
自体によって必要とされる面積は、作wJpA度にもよ
るが、2IIIm×10M又はこれ以下である。
重のか(る実施例について述べた以下の説明を通して高
圧ダイヤフラムに適した寸法の組合せの一例をなす。寸
法の選択は、構造体の熱掘を下げる一方、例えば温度勾
配をすばやく平衡きせるように単位質量当たりの表面K
Nを比較的大きく維持し、高圧作動に対して構造強度を
得、そして使用されるSAW装置の製造及び性能に対1
−る条件を受け容れるといった種々の関係の兼ね合いで
行なわれる。内部に荷重のか\る実#i1+llに対す
る上記の寸法では、例えば14隅×21鮪という切削さ
れた平面は、ダイヤフラムの物理的fr質肘及び平面の
作動領域のヒステリシスをJθ小にする一方、充分な強
度を与えるような大きさである〇然し乍ら、SAW装置
自体によって必要とされる面積は、作wJpA度にもよ
るが、2IIIm×10M又はこれ以下である。
この実施例及びここに述べる1111の実施例のダイヤ
フラムは、内部に荷重のか\る−ものも外部に荷重のか
\るものも、単1部片の弾力性圧電物質で作られるのが
好ましb0水晶は、入手できる土竜材料の中でも音響ロ
スの最も少ないものの1つであり、これはクリスタル制
御発振器の短時rdj安定性/中程度時間安定性を良く
するために必要とされる条件である。エネルギロス/単
位体積/サイクルと蓄fjt弾性エネルギ/単位体積/
サイクルとの比Δを音軒のQとすると、水晶のQは特定
の温度及び周波数においてQ−1=へ72/rと表わす
ことができ、これは汁響ロスが伝搬音波の速度に逆比例
することを意味する。Qと周波数(サイ24フ秒)との
積は、水晶における表面波についてはほぼ1013に等
しい。水晶は、雀の良す高純度水晶(utL<はプレミ
アム又はオプチカルグレードの水晶)を選ばねばならな
い。その他の適当な圧電物質としては、ニオブ酸リチウ
ムや、タンタル酸リチウムや、複合処理基体例えば酸化
亜鉛のような圧′晰側斜の適当な薄膜が被着されたシリ
コンが含まれる。円筒状ダイヤフラムの実施例において
は、主に発生するストレスがフープストレスであり、こ
れは軸方向ストレスよりも相当に大きい。
フラムは、内部に荷重のか\る−ものも外部に荷重のか
\るものも、単1部片の弾力性圧電物質で作られるのが
好ましb0水晶は、入手できる土竜材料の中でも音響ロ
スの最も少ないものの1つであり、これはクリスタル制
御発振器の短時rdj安定性/中程度時間安定性を良く
するために必要とされる条件である。エネルギロス/単
位体積/サイクルと蓄fjt弾性エネルギ/単位体積/
サイクルとの比Δを音軒のQとすると、水晶のQは特定
の温度及び周波数においてQ−1=へ72/rと表わす
ことができ、これは汁響ロスが伝搬音波の速度に逆比例
することを意味する。Qと周波数(サイ24フ秒)との
積は、水晶における表面波についてはほぼ1013に等
しい。水晶は、雀の良す高純度水晶(utL<はプレミ
アム又はオプチカルグレードの水晶)を選ばねばならな
い。その他の適当な圧電物質としては、ニオブ酸リチウ
ムや、タンタル酸リチウムや、複合処理基体例えば酸化
亜鉛のような圧′晰側斜の適当な薄膜が被着されたシリ
コンが含まれる。円筒状ダイヤフラムの実施例において
は、主に発生するストレスがフープストレスであり、こ
れは軸方向ストレスよりも相当に大きい。
ここに述べる神々のダイヤプラムの実施例の構造士の特
徴及び選択された寸法は、K”l中で測定して200
MHzで約402口00という非常に高いQをセンサに
与えるものでなければならない・例えば、平面2B及び
2b付近の円筒10区分は、王として、穴4への流体の
導入によって作用ヲ受け、流体により与えられる力に応
じてcs性的に変形する。これらの区分はダイヤフラム
の両端から充分に離れており、従って、センサの高いQ
と力とが効率よく結合される。これら区分の弾性変形は
、以下に律べるように関連発振回路の周波0の変化とし
て検出される。
徴及び選択された寸法は、K”l中で測定して200
MHzで約402口00という非常に高いQをセンサに
与えるものでなければならない・例えば、平面2B及び
2b付近の円筒10区分は、王として、穴4への流体の
導入によって作用ヲ受け、流体により与えられる力に応
じてcs性的に変形する。これらの区分はダイヤフラム
の両端から充分に離れており、従って、センサの高いQ
と力とが効率よく結合される。これら区分の弾性変形は
、以下に律べるように関連発振回路の周波0の変化とし
て検出される。
所望の作動特性をもつSAW装Wは切削された平面上に
形成されるのが好ましいが、その他の輪郭界面に形成す
ることもできる。例えば、SAW装置及び伝搬路はカー
ブした面に組合わせることもできるし、SAW装置を平
らな面に形成して伝播路の1部をカーブした面上に殴け
ることもできるし、或いはSAW鮪置装カーブL 77
:面上に形成して伝播路の1部を平らな面上に設けるこ
ともできる。更に、SAW装置屓は、ダイヤフラムを断
IM図でみた時に集線にみえるような平面上にあっても
よいし、或いはダイヤプラムに適当に作られたノツチや
成る角変のチャンネル又は曲線状のチャンネルにあって
もよい。平面、チャンネル又はノツチの鋭い領域は、ス
トレスの集中が生じるのを防ぐために所望の程度まで滑
かなものKしてもよい。
形成されるのが好ましいが、その他の輪郭界面に形成す
ることもできる。例えば、SAW装置及び伝搬路はカー
ブした面に組合わせることもできるし、SAW装置を平
らな面に形成して伝播路の1部をカーブした面上に殴け
ることもできるし、或いはSAW鮪置装カーブL 77
:面上に形成して伝播路の1部を平らな面上に設けるこ
ともできる。更に、SAW装置屓は、ダイヤフラムを断
IM図でみた時に集線にみえるような平面上にあっても
よいし、或いはダイヤプラムに適当に作られたノツチや
成る角変のチャンネル又は曲線状のチャンネルにあって
もよい。平面、チャンネル又はノツチの鋭い領域は、ス
トレスの集中が生じるのを防ぐために所望の程度まで滑
かなものKしてもよい。
例えば温度に対する敏感さΔf/fΔT及び圧力に対す
る敏感さΔl/fΔPを含む作動特性は、表面音波を伝
搬する基体の向きと、表面音波の伝搬方向(1回回転さ
れた方向において三方晶軸に対して測定されたもので、
以下”γ″と称する)とによって左右される。一般に、
特定の向きにされたsAW装置frの応答は、温度及び
圧力についての2次元多項式によって次のように表わす
ことができる。
る敏感さΔl/fΔPを含む作動特性は、表面音波を伝
搬する基体の向きと、表面音波の伝搬方向(1回回転さ
れた方向において三方晶軸に対して測定されたもので、
以下”γ″と称する)とによって左右される。一般に、
特定の向きにされたsAW装置frの応答は、温度及び
圧力についての2次元多項式によって次のように表わす
ことができる。
f (T 、P ) = Gotl)
十G、T + G2T + G、T’ + −−−+
G4P + G5P + G6P5+ −−−+ G、
TP + G8T P −1−G、TP2+ −−−基
体の方向は% In5titute of Radi。
G4P + G5P + G6P5+ −−−+ G、
TP + G8T P −1−G、TP2+ −−−基
体の方向は% In5titute of Radi。
Engineers &現在の1nstltute o
f Electricaland Electronl
c Engineers即ち’IEEE”Icよって採
用された規格に基いて指定され、これは1949年12
月のProceedings of the 1.Rl
E。
f Electricaland Electronl
c Engineers即ち’IEEE”Icよって採
用された規格に基いて指定され、これは1949年12
月のProceedings of the 1.Rl
E。
の第1378−1390員に掲載された’ 5tand
ards on Plezaelectrlc Cry
stals 。
ards on Plezaelectrlc Cry
stals 。
1949 : 5tandard 49 IRE 14
、 S 1 ”に述べられており、参考としてここ妊
取り上げるものである。1回回転した切断部及び2回回
転した切断部の両方をここでは用飴(y、xwl )Φ
/θで示す。
、 S 1 ”に述べられており、参考としてここ妊
取り上げるものである。1回回転した切断部及び2回回
転した切断部の両方をここでは用飴(y、xwl )Φ
/θで示す。
水晶は、三方晶系1国際点群32、クラスD3(ショー
エンフライス(5choenflles )記号)に属
する本のであり、X軸及びZ軸に対して各々三方(2π
/2倍)対称性及び三方(3π/2倍)対称性を示し、
これは、結晶の対称性により。
エンフライス(5choenflles )記号)に属
する本のであり、X軸及びZ軸に対して各々三方(2π
/2倍)対称性及び三方(3π/2倍)対称性を示し、
これは、結晶の対称性により。
Φ=n(120° )±Φθ(n=0.1.2 )及び
θ=θ。+m(180°)(m=+)、1)の方向が全
く等しいことを意味する。
θ=θ。+m(180°)(m=+)、1)の方向が全
く等しいことを意味する。
1回回転された方向を平面に得るためには、円筒1の長
手軸と水晶片のX軸とが互いに平行になるように水晶片
から円筒lをくり抜かねばたら々い。この場合には、平
面2aけ選択された回転面だけY軸からずらされた線に
垂直な面において深さr、まで削られ、そして平面2b
は選択された回転角プラス1806だけY軸からずらさ
れた線に垂直な面において深さ「1 tで削られる。平
面2a及び2bは互いに180°1IIl#れでいるの
で。
手軸と水晶片のX軸とが互いに平行になるように水晶片
から円筒lをくり抜かねばたら々い。この場合には、平
面2aけ選択された回転面だけY軸からずらされた線に
垂直な面において深さr、まで削られ、そして平面2b
は選択された回転角プラス1806だけY軸からずらさ
れた線に垂直な面において深さ「1 tで削られる。平
面2a及び2bは互いに180°1IIl#れでいるの
で。
それらの方向は水晶の三方対称性により同一となる(く
り抜き及び切削プロセスの機械的な精度内で)。
り抜き及び切削プロセスの機械的な精度内で)。
平面28及び2bがいったん削られると、SAW装置を
形成するため表面が加工処理される。プローブ構造体に
荷重がか一つだ時に本来の表面ストレスが発生したり切
削面に極微クラックが生じ始めたりするのを最少限にす
るために表面の処理及び光学的なつや出しには相当の注
意を払わねば々らない。上記の本来の表面ストレスは機
械で切削された面の凹凸によって生じるもので、SAW
発振器が成る時間にわたって弛緩する時にSAW発振器
の周波数特性に作用を及ばす0この作用は圧力センサの
精度及び安定性KIff大な影響を与える。
形成するため表面が加工処理される。プローブ構造体に
荷重がか一つだ時に本来の表面ストレスが発生したり切
削面に極微クラックが生じ始めたりするのを最少限にす
るために表面の処理及び光学的なつや出しには相当の注
意を払わねば々らない。上記の本来の表面ストレスは機
械で切削された面の凹凸によって生じるもので、SAW
発振器が成る時間にわたって弛緩する時にSAW発振器
の周波数特性に作用を及ばす0この作用は圧力センサの
精度及び安定性KIff大な影響を与える。
表面処理及びつや出し技術は適当なものが知られている
。
。
SAW遅延線又は共振器を平面に適当に形成する技術は
公知であるから、簡単に説明するだけにする。S A、
W遅延線及び共振器は本発明の圧力センサに用いるのに
特に効果的である。表面音波は結晶固体の清らかな面に
伝搬させることができる。
公知であるから、簡単に説明するだけにする。S A、
W遅延線及び共振器は本発明の圧力センサに用いるのに
特に効果的である。表面音波は結晶固体の清らかな面に
伝搬させることができる。
このような表面音波のエネルギは被寄生物質の深さと共
に指数関数的に減衰し、波エネルギの大部分り表面から
1波長以内に集中される。それ故、表面音波は被寄生固
体の反対面がさらされる条件に実質的に拘りなく伝搬す
る。更に、等価電気回路の約100倍という非常に大き
なQを呈するSAW遅延線及び共振Sはクリスタル制御
発掘器のフィードバック素子として便利に使用さhる。
に指数関数的に減衰し、波エネルギの大部分り表面から
1波長以内に集中される。それ故、表面音波は被寄生固
体の反対面がさらされる条件に実質的に拘りなく伝搬す
る。更に、等価電気回路の約100倍という非常に大き
なQを呈するSAW遅延線及び共振Sはクリスタル制御
発掘器のフィードバック素子として便利に使用さhる。
更に、SAW遅延線及び共振器の狭帯域rjJ特性によ
り、更に正確な共振周波数を得ることができる。
り、更に正確な共振周波数を得ることができる。
SAW遅延線は、圧電基体の表面に配置された入力電極
の配列体及び出力電極の配列体を備えている。これらの
電極配列体は、基体の表面に沿ってエンPファイヤ(e
nd flre ) 方向に音波エネルギを送出する直
線配列体の形態である。例えば、第1図ないし第5図の
感圧ダイヤフラムの実施例では、一方の表面波遅延線は
、例えば標準的な写真平版技術及び薄膜技術によって平
面28に形成されたインターデジタル型のC指を組んだ
形式の)トランスジューサ6a(送信器)及び88(受
信器)を備えている。自己誘起ノイズがSAW装置の短
時間又は長時間安定性を許容できない程制限する場合に
は、ここに参考として取り上げるParker 氏等の
米国特許(1981年5月26日付の第4,270.1
05号)K開示されたように、電極構造体、この場合は
インターデジタル型トランスジューサ68及び8a%
Kへこみをつけることによって安定性を改善することが
できる。
の配列体及び出力電極の配列体を備えている。これらの
電極配列体は、基体の表面に沿ってエンPファイヤ(e
nd flre ) 方向に音波エネルギを送出する直
線配列体の形態である。例えば、第1図ないし第5図の
感圧ダイヤフラムの実施例では、一方の表面波遅延線は
、例えば標準的な写真平版技術及び薄膜技術によって平
面28に形成されたインターデジタル型のC指を組んだ
形式の)トランスジューサ6a(送信器)及び88(受
信器)を備えている。自己誘起ノイズがSAW装置の短
時間又は長時間安定性を許容できない程制限する場合に
は、ここに参考として取り上げるParker 氏等の
米国特許(1981年5月26日付の第4,270.1
05号)K開示されたように、電極構造体、この場合は
インターデジタル型トランスジューサ68及び8a%
Kへこみをつけることによって安定性を改善することが
できる。
同様に、第2の表面波遅延線は平面2bに形成されたイ
ンターデジタル型のトランスジューサ6b(送信器)及
び8b(受信器)を備えているO各トランスジューサの
指は半波長だけ離間され、この波長は所定周波数の波が
発生されるように圧電物質の選択された方向に対する伝
搬速度を考慮して選択される。これにより発生される波
の撮巾及び帯域中は配列体に用いられる指対の数で決定
され、帯域中は指の数に逆比例する。基体に卦ける伝搬
方向rはインターデジタル型トランスジューサの指に対
して直角である。エネルギの流れ方向と波ベクトルとの
間の角度として定義される電力角度は、水晶の5T−X
カット及びSSTカットの場合のような純モード方向に
ついてはOである。
ンターデジタル型のトランスジューサ6b(送信器)及
び8b(受信器)を備えているO各トランスジューサの
指は半波長だけ離間され、この波長は所定周波数の波が
発生されるように圧電物質の選択された方向に対する伝
搬速度を考慮して選択される。これにより発生される波
の撮巾及び帯域中は配列体に用いられる指対の数で決定
され、帯域中は指の数に逆比例する。基体に卦ける伝搬
方向rはインターデジタル型トランスジューサの指に対
して直角である。エネルギの流れ方向と波ベクトルとの
間の角度として定義される電力角度は、水晶の5T−X
カット及びSSTカットの場合のような純モード方向に
ついてはOである。
便利にもSAW共振器社成る条件の下でけSAW遅延線
と取り替えてもよい。’SAW共振器はイオンで削られ
たグループ又は反射ストリップを用いて、中央に電極配
列体をもつ共振空胴を形成する。
と取り替えてもよい。’SAW共振器はイオンで削られ
たグループ又は反射ストリップを用いて、中央に電極配
列体をもつ共振空胴を形成する。
SAW遅延線及び共振器に関連した製造上の問題及び実
際上の問題が、1974年5月、Ul trasonl
csの第115頁匁いし第126頁に掲載されたM、F
。
際上の問題が、1974年5月、Ul trasonl
csの第115頁匁いし第126頁に掲載されたM、F
。
Lewls著の’ 5urface Acoustic
Wav@Devlcesand AppHcatlo
ns、セクション6、0sclllators−−Th
e Next 5uccessful 5urface
AcoustlcWave Devlce ’%及び
参考としてここに取り上げる1976年5月、 Pro
ceedlngs 、of the l E E E。
Wav@Devlcesand AppHcatlo
ns、セクション6、0sclllators−−Th
e Next 5uccessful 5urface
AcoustlcWave Devlce ’%及び
参考としてここに取り上げる1976年5月、 Pro
ceedlngs 、of the l E E E。
第64巻、第5号の第711頁ないし第721頁に掲載
されたり、T、 Be目二世及びR、C,M、 Ll著
の’ 5urface−Acoustlc Wave
Rosonators ’に詳細に説明されている。
されたり、T、 Be目二世及びR、C,M、 Ll著
の’ 5urface−Acoustlc Wave
Rosonators ’に詳細に説明されている。
R1図々いし第5図に示された実施例の感圧ダイヤフラ
ムは適当な耐圧・・ウジング内に取り付けられそして適
当な電気回路に接続される。耐圧I・ウジングは、内部
に荷重がか\る別の実施例について以下で説明する。第
6図にFi電子回路が一例として示されている。発振n
203 m及びカウンタ208aを含むチャンネルと
、発掘器203b及びカウンタ208bを含むチャンネ
ルとの2つの測定チャンネルが示されている。発46器
203a及び203bは、例えば第1図ないしII3図
の実施例のダイヤフラムに相当するダイヤフラム200
に接続される。発振器203aは、SAW装置2028
(これは例えば平面2 a s送信器6a及び受信器8
aより成るSAW遅帆線に相当する)と、広帯域増巾器
20・4aと、フィードバック構成で接続された整合回
路網206a及び213aとを備えている。発振器20
3bは、9AW装置202b (これは例えば平面2b
、送信器6b及び受信器8bより成るSAW遅延線に対
応する)と、広帯域増巾器204bと、フィードバック
構成で接続された整合回路網206b及び213bとを
備えている。
ムは適当な耐圧・・ウジング内に取り付けられそして適
当な電気回路に接続される。耐圧I・ウジングは、内部
に荷重がか\る別の実施例について以下で説明する。第
6図にFi電子回路が一例として示されている。発振n
203 m及びカウンタ208aを含むチャンネルと
、発掘器203b及びカウンタ208bを含むチャンネ
ルとの2つの測定チャンネルが示されている。発46器
203a及び203bは、例えば第1図ないしII3図
の実施例のダイヤフラムに相当するダイヤフラム200
に接続される。発振器203aは、SAW装置2028
(これは例えば平面2 a s送信器6a及び受信器8
aより成るSAW遅帆線に相当する)と、広帯域増巾器
20・4aと、フィードバック構成で接続された整合回
路網206a及び213aとを備えている。発振器20
3bは、9AW装置202b (これは例えば平面2b
、送信器6b及び受信器8bより成るSAW遅延線に対
応する)と、広帯域増巾器204bと、フィードバック
構成で接続された整合回路網206b及び213bとを
備えている。
SAW発振器の設計は公知であるから、ここでは簡単に
説明するだけKする。SAW発振器の1つの部品は、広
帯域増巾器のフィードバック路にあるSAW遅延線又は
共振器である。表面波速度が変化すると、これに応じて
正確に測定できる変化が発振周波数に現われる。適切に
設計されたSAW発振器は次のような特性を有している
。
説明するだけKする。SAW発振器の1つの部品は、広
帯域増巾器のフィードバック路にあるSAW遅延線又は
共振器である。表面波速度が変化すると、これに応じて
正確に測定できる変化が発振周波数に現われる。適切に
設計されたSAW発振器は次のような特性を有している
。
(1) ループ利得が正味損失を上まわる。
(2) 発振周波数はインターデジタル型トランスジュ
ーサの通過帯域内に々ければならない。
ーサの通過帯域内に々ければならない。
(3) ループをめぐる全位相ずれけ2πの整数倍で設
ければならない。
ければならない。
3番目の要件は次のように表わすことができる。
t φa
f −十−= n (2+
v 2π
但し、fはSAW発振器の中心周波数であり、■は基準
フレームに対する表面波速度であり、 111ま基漁フ
レームにおける実効経路長さであり、φaは増巾器、整
合回路網及びインターデジタル型トランスジューサにお
ける位相ずれを表わし、セしてnFi整数である。位相
ずれφaは、一般に、典型的々SAW遅延線における数
百波倚という経路長さ1111/Cわたる位相ずれに比
較して無視できるものである。l固有〃速変の部分変化
は発振器の周波数の部分変化に等価であり、即ち。
フレームに対する表面波速度であり、 111ま基漁フ
レームにおける実効経路長さであり、φaは増巾器、整
合回路網及びインターデジタル型トランスジューサにお
ける位相ずれを表わし、セしてnFi整数である。位相
ずれφaは、一般に、典型的々SAW遅延線における数
百波倚という経路長さ1111/Cわたる位相ずれに比
較して無視できるものである。l固有〃速変の部分変化
は発振器の周波数の部分変化に等価であり、即ち。
である。これは参考としてここに取り上げる1980年
9月J、App1. Phys、 51 (alの第4
659頁ないし第4665頁に掲載された5lnha
&TlerStenのI On the temper
ature Dependenceof the Ve
locity of 5urface Wave in
Quartz “に述べられている。
9月J、App1. Phys、 51 (alの第4
659頁ないし第4665頁に掲載された5lnha
&TlerStenのI On the temper
ature Dependenceof the Ve
locity of 5urface Wave in
Quartz “に述べられている。
正確に圧力を測定するための重要な特性であるSAW発
振器の周波数安定性は、一般にそうであるように、3つ
の領域について説明する。3つの領域とは、何秒という
時間、特に1秒から10秒という時間にわたる安定性を
指す短時間領域と。
振器の周波数安定性は、一般にそうであるように、3つ
の領域について説明する。3つの領域とは、何秒という
時間、特に1秒から10秒という時間にわたる安定性を
指す短時間領域と。
何時間という時間にわたる安定性を指す中程度時間領域
と、何ケ月又は例年という時間にわたる安定性を指す長
時間領域とである。短時間及び中程度時間の安定性(F
Mノイズ)は発振器の分解能及び精度の1部を左右する
ものであり、このノイズを最小限にするように種々の手
段を考えることができる。これらの手段としては、低ノ
イズ及び低利得の増巾器と、挿入ロスが低く急激な低位
1.−一周波数傾斜(群遅延)をもつSAW装置とを選
択することである。使用目的にもよるが、発掘器に対し
てSAW遅延線又はSAW共撮共金器択してもよい。遅
延線構造体は本来広帯域であり、同調性及び直線性が重
要視される場合に好ましく、一方、共撮器構造体は帯域
の狭い使用目的に対するノイズ性能が優れている。SA
W発振器では。
と、何ケ月又は例年という時間にわたる安定性を指す長
時間領域とである。短時間及び中程度時間の安定性(F
Mノイズ)は発振器の分解能及び精度の1部を左右する
ものであり、このノイズを最小限にするように種々の手
段を考えることができる。これらの手段としては、低ノ
イズ及び低利得の増巾器と、挿入ロスが低く急激な低位
1.−一周波数傾斜(群遅延)をもつSAW装置とを選
択することである。使用目的にもよるが、発掘器に対し
てSAW遅延線又はSAW共撮共金器択してもよい。遅
延線構造体は本来広帯域であり、同調性及び直線性が重
要視される場合に好ましく、一方、共撮器構造体は帯域
の狭い使用目的に対するノイズ性能が優れている。SA
W発振器では。
1秒のゲート時間に対し少なくとも10−I+の周波数
安定性が得られている。これtよ正確な圧力測定に所望
される分解能及びダイナミックレンジを得るのに充分が
ものである。
安定性が得られている。これtよ正確な圧力測定に所望
される分解能及びダイナミックレンジを得るのに充分が
ものである。
SAW装置を同調する技術は色々なものが知られており
、例えば、参考としてここに取り上げる1981年1月
6日付のWh l t e氏等の米国特許第4.243
.960号に開示されている。SAW装置を基本周波数
又は適当な高調波周波数で作動する技術も色々なものが
知られており1例えば参考としてここに取り上げる19
81年2月3日付のYen氏等の米国特許第4.249
,146号に開示されている。
、例えば、参考としてここに取り上げる1981年1月
6日付のWh l t e氏等の米国特許第4.243
.960号に開示されている。SAW装置を基本周波数
又は適当な高調波周波数で作動する技術も色々なものが
知られており1例えば参考としてここに取り上げる19
81年2月3日付のYen氏等の米国特許第4.249
,146号に開示されている。
発掘器203aの出力f8及び発掘器203bの出力f
bは各々のカウンタ208a及び208bへ送られ、こ
れらのカウンタはそれらの入力信号の周波数を各々カウ
ントし、そしてそのデジタル表示を出力に与え、発振5
203 a及び203bのアナログ出力をデジタル信号
に変換する。ライン201及び205に沿ってカウンタ
208a及び208bに信号を送るプロセッサ207に
よってサンプリングシーケン°只が開−始され1発掘器
203a及び203bの出力が各々サンプリングされて
その結果が入力ライン211及び212に沿って送られ
る。fa及びfbを表わしているデジタル信号はプロセ
ッサ207に送られ、プロセッサ207け圧力測定値を
め、その結果をオl用者に表示するために記録5209
に送り、そして次の測定サイクルのためにライン201
及び205に沿ってカウンタ208a及び208bを各
々リセットする。
bは各々のカウンタ208a及び208bへ送られ、こ
れらのカウンタはそれらの入力信号の周波数を各々カウ
ントし、そしてそのデジタル表示を出力に与え、発振5
203 a及び203bのアナログ出力をデジタル信号
に変換する。ライン201及び205に沿ってカウンタ
208a及び208bに信号を送るプロセッサ207に
よってサンプリングシーケン°只が開−始され1発掘器
203a及び203bの出力が各々サンプリングされて
その結果が入力ライン211及び212に沿って送られ
る。fa及びfbを表わしているデジタル信号はプロセ
ッサ207に送られ、プロセッサ207け圧力測定値を
め、その結果をオl用者に表示するために記録5209
に送り、そして次の測定サイクルのためにライン201
及び205に沿ってカウンタ208a及び208bを各
々リセットする。
プロセッサ207は曲線適合ルーチンか或いはルックア
ップテーブル及び補間技術かのいずれかを実行して、信
号fa及びfbの一方又は信号fa及びfb の平均値
から各々の圧力測定値をめる。
ップテーブル及び補間技術かのいずれかを実行して、信
号fa及びfbの一方又は信号fa及びfb の平均値
から各々の圧力測定値をめる。
周波数及び温度の関数としてSAW装MIVCよって測
定される圧力は次のような2次元多項式で表わすことが
できる〇 ρ(flT)=Ho (41 +H,f+H2f2+1−13f5+・・・+H4T+
H5T2+H6T!l+・・・+H7f T+HB f
2 T+H1fT2 =・・・これは温度が一定であ
れば次のように簡略化される。
定される圧力は次のような2次元多項式で表わすことが
できる〇 ρ(flT)=Ho (41 +H,f+H2f2+1−13f5+・・・+H4T+
H5T2+H6T!l+・・・+H7f T+HB f
2 T+H1fT2 =・・・これは温度が一定であ
れば次のように簡略化される。
P(1)=Apf+B、f2+cpf’+Dp (5)
式(4)から係数A%e、c及びDは各々H1−)−H
7T+H9T2t・・・、H2+H8T+・・・、H3
+・・・、及びHo+H4T+H5T2+H6Ti5+
−・に相当する。曲線適合技術を実施する場合には1校
正段階中に1選択された信号が所与の作動温度において
選択された圧力レンジにわたって測定され、これにより
得た値を用りて式(5)の係数が導出される。測定段階
中には1校正段階中に決定され友係数を式(6)に用い
ることにより、選択された信号の周波数から圧力測定値
が計算される。ルツクアツゾテーブル技術ヲ実施する際
には1校正段階中に1選択された信号が所与の作動温度
において選択された圧力レンジにわたって測定され、こ
れにより得た値が圧力対周波数のテーブルC表)に蓄積
される。測定段階中にFi、ルックアップテーブルを調
べることによりそしてもし必要々らば補間技術を用いる
ことにより圧力測定値が決定される。曲線適合技術、並
びにルックアップテーブル及び補間技術は公知である。
式(4)から係数A%e、c及びDは各々H1−)−H
7T+H9T2t・・・、H2+H8T+・・・、H3
+・・・、及びHo+H4T+H5T2+H6Ti5+
−・に相当する。曲線適合技術を実施する場合には1校
正段階中に1選択された信号が所与の作動温度において
選択された圧力レンジにわたって測定され、これにより
得た値を用りて式(5)の係数が導出される。測定段階
中には1校正段階中に決定され友係数を式(6)に用い
ることにより、選択された信号の周波数から圧力測定値
が計算される。ルツクアツゾテーブル技術ヲ実施する際
には1校正段階中に1選択された信号が所与の作動温度
において選択された圧力レンジにわたって測定され、こ
れにより得た値が圧力対周波数のテーブルC表)に蓄積
される。測定段階中にFi、ルックアップテーブルを調
べることによりそしてもし必要々らば補間技術を用いる
ことにより圧力測定値が決定される。曲線適合技術、並
びにルックアップテーブル及び補間技術は公知である。
適当な曲線適合技術が&参考としてここに取り上げる1
973年、ニューヨークのMarcelDakker
lnc+出版%J、M0Mendel著の’ Desc
reteTechniques of Parsmst
er Estlmatlon 1gl!2章−に説明さ
れている。又、適当な補間技術が、参考としてここに取
り上げる1957年、ニューヨークのMe Graw−
Hill Book Company Inc 出版。
973年、ニューヨークのMarcelDakker
lnc+出版%J、M0Mendel著の’ Desc
reteTechniques of Parsmst
er Estlmatlon 1gl!2章−に説明さ
れている。又、適当な補間技術が、参考としてここに取
り上げる1957年、ニューヨークのMe Graw−
Hill Book Company Inc 出版。
に、S、Kunz著の’ Numerical Ana
lysts ’ fii+ 5章に説明されている。
lysts ’ fii+ 5章に説明されている。
fa及びfl)の値はプロセッサ207によって監視さ
れそして互いに比較されて所与の裕度以上のずれが検出
さiする。このずれはlイヤフラムの熱分布が不均一な
こと或いは少なくとも1つの発振器が故障したことを示
すものである。
れそして互いに比較されて所与の裕度以上のずれが検出
さiする。このずれはlイヤフラムの熱分布が不均一な
こと或いは少なくとも1つの発振器が故障したことを示
すものである。
外部に荷重のか\るダイヤフラムが第4図かいし植5図
に示されている。好ましくは水晶の、長さLOの円筒部
材10は、切断線15を横切る格子のつながりを保つよ
うに切断線15に沿って2つの区分11及び13に切ら
れる。切断線154−tダイヤフラムの機械的な対称性
を最適化するものであるのが好ましいが、必ずしもそう
で斤くてもよい。円筒スペース14の各部は区分11及
び13を切断することによって形成され、そして切断i
f3!15から離れた円筒lOの内面に2つの長手方向
平面128及び12bが切削され、内部に荷重のか\る
形式の前記実施例について既に述べたように対向する平
行面が形成される。平面12a及び12bFi、厚みt
l のダイヤフラムの各部を形成するように深さ「薯
まで切削される。内部ス(−ス14の軸は円筒lOの軸
に一致する6第4図々いし第5図のダイヤフラム及びこ
こに述べる外部に荷重のか\る別の実施例のダイヤフラ
ムに関する種々の構造上のかつころは、特に指示のない
限り1次のような寸法にされるが、使用される材料の種
類、*進体に使用されるSAW装置Wの形式、SAW装
置の位置を決める表面音波エネルギの伝搬方向、及び圧
力センサの仕様といったものの関数である寸法は、特定
の使用目的に刻して最適なものにすることができる。円
筒10は直径ID〃が26鶴でありそして長さIF L
O# が5U朗である。スペース14は直径が10罷π
でありそして長さ# L、 # が55門である。各々
の平面12a及び12b#′i巾が5ジでありそして長
さが12朋である。切り込み深さrl は6mlである
。
に示されている。好ましくは水晶の、長さLOの円筒部
材10は、切断線15を横切る格子のつながりを保つよ
うに切断線15に沿って2つの区分11及び13に切ら
れる。切断線154−tダイヤフラムの機械的な対称性
を最適化するものであるのが好ましいが、必ずしもそう
で斤くてもよい。円筒スペース14の各部は区分11及
び13を切断することによって形成され、そして切断i
f3!15から離れた円筒lOの内面に2つの長手方向
平面128及び12bが切削され、内部に荷重のか\る
形式の前記実施例について既に述べたように対向する平
行面が形成される。平面12a及び12bFi、厚みt
l のダイヤフラムの各部を形成するように深さ「薯
まで切削される。内部ス(−ス14の軸は円筒lOの軸
に一致する6第4図々いし第5図のダイヤフラム及びこ
こに述べる外部に荷重のか\る別の実施例のダイヤフラ
ムに関する種々の構造上のかつころは、特に指示のない
限り1次のような寸法にされるが、使用される材料の種
類、*進体に使用されるSAW装置Wの形式、SAW装
置の位置を決める表面音波エネルギの伝搬方向、及び圧
力センサの仕様といったものの関数である寸法は、特定
の使用目的に刻して最適なものにすることができる。円
筒10は直径ID〃が26鶴でありそして長さIF L
O# が5U朗である。スペース14は直径が10罷π
でありそして長さ# L、 # が55門である。各々
の平面12a及び12b#′i巾が5ジでありそして長
さが12朋である。切り込み深さrl は6mlである
。
穴14の位置と、各平面が切られる切削深さ「1と拠よ
って、厚みtl−5vti−が決まる。
って、厚みtl−5vti−が決まる。
SAW装置はダイヤフラムの平面12a及び12bに形
成されるか、内部のカーブした面に直接形成されるか、
或いは上記したように他の適当な構成に基いて形成され
る。ダイヤフラムは以下に述べるように適当な耐圧/’
tウジングに取り付けられそして第6図に示された電子
回路に接続される。この場合% SAW装92028は
平面12a1送信器168及び受信器18 aに相当し
、そしてSAW装!202bti平1i12b、 送イ
Fl器16b及び受信器18 bに相当する。プロセッ
サ2()7の作動は前記と同様である。
成されるか、内部のカーブした面に直接形成されるか、
或いは上記したように他の適当な構成に基いて形成され
る。ダイヤフラムは以下に述べるように適当な耐圧/’
tウジングに取り付けられそして第6図に示された電子
回路に接続される。この場合% SAW装92028は
平面12a1送信器168及び受信器18 aに相当し
、そしてSAW装!202bti平1i12b、 送イ
Fl器16b及び受信器18 bに相当する。プロセッ
サ2()7の作動は前記と同様である。
ダイヤプラムの全体的な形状は、物理的な質量を帰小に
して成る選択された高い圧力に耐えるように選択される
。これらの点においては円筒状の構造体が他の形状より
優れているが1本発明のダイヤプラムは円筒形状に限定
されるものではかい。
して成る選択された高い圧力に耐えるように選択される
。これらの点においては円筒状の構造体が他の形状より
優れているが1本発明のダイヤプラムは円筒形状に限定
されるものではかい。
外面及び/又は内面として適した他の形状には。
例えは、長円形やノ9ラボラ形状が含まれる。
以上の説明は円筒状ダイヤフラムに関するものであるが
、内部に荷重のか\る球状4゛イヤフラム及び外部に荷
重のか\る球状4゛イヤフラムも本発明に含まれる。解
説のための球状ダイヤフラムが第32図及び第53図に
示されている。この実姉例は外部に荷重のか\るもので
ある。好ましくは水晶の、直径I [1ON の球状部
材500は、切断線5()5を横切る格子のつながりを
保つように切断線505に沿って2つの区分501及び
503に切られる。直径〃011の内部球状スペース5
04と、各々の平面502a及び502bとが区分50
1及び503に切削され、厚みtl のダイヤフラムの
各部が形成される。各々のSAW装置508a及び50
8bは平面502a及び502bに形成される。
、内部に荷重のか\る球状4゛イヤフラム及び外部に荷
重のか\る球状4゛イヤフラムも本発明に含まれる。解
説のための球状ダイヤフラムが第32図及び第53図に
示されている。この実姉例は外部に荷重のか\るもので
ある。好ましくは水晶の、直径I [1ON の球状部
材500は、切断線5()5を横切る格子のつながりを
保つように切断線505に沿って2つの区分501及び
503に切られる。直径〃011の内部球状スペース5
04と、各々の平面502a及び502bとが区分50
1及び503に切削され、厚みtl のダイヤフラムの
各部が形成される。各々のSAW装置508a及び50
8bは平面502a及び502bに形成される。
円筒状ダイヤフラムに関する本則Ull 8の教示は一
般に球状ダイヤフラムにもあてけ甘るものであるが1球
状ダイヤフラムに生じる主ストレスは同様の大きさの直
交フープストレスである。従って、例えば、直径Do
は26TIAであり、DB はi[1liWである。平
面502a及び502bは2朋の深さrl まで切削さ
れ、従って厚みt、け5Uとされる。或いは又、円筒状
lイヤフラムについて以下に述べるように1球状内面の
中心と球状外面の中心とをずらすことによシ壁厚を異な
った厚みにしてもよいし、或いは平面を興なった厚みに
切削してもよい。
般に球状ダイヤフラムにもあてけ甘るものであるが1球
状ダイヤフラムに生じる主ストレスは同様の大きさの直
交フープストレスである。従って、例えば、直径Do
は26TIAであり、DB はi[1liWである。平
面502a及び502bは2朋の深さrl まで切削さ
れ、従って厚みt、け5Uとされる。或いは又、円筒状
lイヤフラムについて以下に述べるように1球状内面の
中心と球状外面の中心とをずらすことによシ壁厚を異な
った厚みにしてもよいし、或いは平面を興なった厚みに
切削してもよい。
自己温度補償
第7図−第23図は圧力感知ダイヤプラムの自己温度補
償型の実施例を示す。このような圧力感知ダイヤプラム
の圧力レスポンス(応答)は、それぞれの周波数一温度
特性が同じであるが、それぞれの周波数−圧力特性が当
該ダイヤフラムの基板をつくっているそれぞれ異なる有
効厚さの関数となっている2またはそれ以上の発振器の
それぞれの周波数の九の関数である。すべての基板は同
じ静水圧を受けるが、流体の圧力によってそれぞれの基
板は異なる程度に弾性変形する。ダイヤフラムがコンブ
ライアントに(comollantly ) (弾性的
に)支持されている限り、温度は基板に等しい影響を与
える。従って、それぞれの発振器の出力は混合されて、
温度の影響を除去する。自己温度補償されたダイヤスラ
ムの弾性的こわさは厚さによって大きく左右され、従っ
て、必要とされる基板の厚さの差は極めて僅かである。
償型の実施例を示す。このような圧力感知ダイヤプラム
の圧力レスポンス(応答)は、それぞれの周波数一温度
特性が同じであるが、それぞれの周波数−圧力特性が当
該ダイヤフラムの基板をつくっているそれぞれ異なる有
効厚さの関数となっている2またはそれ以上の発振器の
それぞれの周波数の九の関数である。すべての基板は同
じ静水圧を受けるが、流体の圧力によってそれぞれの基
板は異なる程度に弾性変形する。ダイヤフラムがコンブ
ライアントに(comollantly ) (弾性的
に)支持されている限り、温度は基板に等しい影響を与
える。従って、それぞれの発振器の出力は混合されて、
温度の影響を除去する。自己温度補償されたダイヤスラ
ムの弾性的こわさは厚さによって大きく左右され、従っ
て、必要とされる基板の厚さの差は極めて僅かである。
この技術は温度補償を与えることの外に、構成している
それぞれの振動子の長時間エージング特性がうまく整合
していれば、圧力測定に対する長時間エージングの影響
を有利に相殺する働きをする。
それぞれの振動子の長時間エージング特性がうまく整合
していれば、圧力測定に対する長時間エージングの影響
を有利に相殺する働きをする。
上記の特性を有し、2つの測定チャンネルを含む感圧ダ
イヤフラムの実施例を第7図−第9図および第12[渇
−第13図に示しである。第7図−第9図は内部に荷重
が加えられる実施例で、この実施例においては、円筒形
部材20(好ましくは水晶調の部材)は、4つの縦方向
の平面22a。
イヤフラムの実施例を第7図−第9図および第12[渇
−第13図に示しである。第7図−第9図は内部に荷重
が加えられる実施例で、この実施例においては、円筒形
部材20(好ましくは水晶調の部材)は、4つの縦方向
の平面22a。
22b、22c、22dを備えていてこれらの平面は円
筒形部材の外側の部分にミーリング加工されている。必
らずしも必要ではないけれど、好ましくは、゛これらの
平面は、平面に対して垂直に測って、相互に90度の間
隔に配信され(後述する)。
筒形部材の外側の部分にミーリング加工されている。必
らずしも必要ではないけれど、好ましくは、゛これらの
平面は、平面に対して垂直に測って、相互に90度の間
隔に配信され(後述する)。
平面22a、22cが位置している面が相互に平行で且
つ平面22b、22dを通るそれぞれ平行な面に対して
垂直となるようになっている。各平面22a、22b、
22c、22dは深さ「、にミーリング加工されている
。想像線bbで指示する軸を有している孔24が、想像
線aaで指示する軸を有している円筒形部1’20につ
くられている。軸bbは、円筒形部材20の軸8aに平
行であるが、適当な角度β(第9図)の方向に軸aaか
ら喰違い且つ間隔d(第7図)だけ軸aaから離れてい
て、平面22B−226の各々と孔24の壁との間にそ
れぞれ異なる厚さ部分t1、t2、t3、t4をつくっ
ている・ 内部に#重がかけられるm7図−第9図の実施例におけ
る種々の構造的部分は、第1図−第3図および添付の説
明の教示に従って寸法を決めればよい。ただし、孔24
は約56度の変位角度βおよび約0.71の軸aahb
bの間隔でつくれはよい。ミーリングの深さrl は2
門でよい。各平面をミーリングしたミーリング深さ「1
および孔24の位置によって、tl、t2、t3、t
4の厚さが決まり、これらの厚さは、それぞれ、5.4
關、6.4閣、6. 611!TI、 5.6聴とされ
る。
つ平面22b、22dを通るそれぞれ平行な面に対して
垂直となるようになっている。各平面22a、22b、
22c、22dは深さ「、にミーリング加工されている
。想像線bbで指示する軸を有している孔24が、想像
線aaで指示する軸を有している円筒形部1’20につ
くられている。軸bbは、円筒形部材20の軸8aに平
行であるが、適当な角度β(第9図)の方向に軸aaか
ら喰違い且つ間隔d(第7図)だけ軸aaから離れてい
て、平面22B−226の各々と孔24の壁との間にそ
れぞれ異なる厚さ部分t1、t2、t3、t4をつくっ
ている・ 内部に#重がかけられるm7図−第9図の実施例におけ
る種々の構造的部分は、第1図−第3図および添付の説
明の教示に従って寸法を決めればよい。ただし、孔24
は約56度の変位角度βおよび約0.71の軸aahb
bの間隔でつくれはよい。ミーリングの深さrl は2
門でよい。各平面をミーリングしたミーリング深さ「1
および孔24の位置によって、tl、t2、t3、t
4の厚さが決まり、これらの厚さは、それぞれ、5.4
關、6.4閣、6. 611!TI、 5.6聴とされ
る。
自己温度補償型の実施例に使用するのには、S[カット
((yxwl ) 0°/42.75°、r=0°)お
よびSSTカット((yxwl)0°/ −49,22
°、r=23° )の付近のオリエンテーションが適当
であることがわかったが、その他の多くの一回回転およ
び二同回転されたオリエンテーションも同様に使用に適
するものである。STカットは1974年6月18日発
行のHalland等の米国IF:j許第3.818.
382号に説明されていて、参考のためにここに看己載
しである。SSTカットは’ Applied Phy
sics Letters ’第34巻、817−81
9頁(1979年)に掲載されたB、に。
((yxwl ) 0°/42.75°、r=0°)お
よびSSTカット((yxwl)0°/ −49,22
°、r=23° )の付近のオリエンテーションが適当
であることがわかったが、その他の多くの一回回転およ
び二同回転されたオリエンテーションも同様に使用に適
するものである。STカットは1974年6月18日発
行のHalland等の米国IF:j許第3.818.
382号に説明されていて、参考のためにここに看己載
しである。SSTカットは’ Applied Phy
sics Letters ’第34巻、817−81
9頁(1979年)に掲載されたB、に。
5lnhaとH,F、 Tier!1tenの’ Ze
ro TemperatureCoeずflclent
of Delay For 5urface Wav
es Inquartz ’ と題する論文に報告され
ていて、参考のためにここに記載する。また、その実験
的立証は、Proceedlngs of the 1
980 UltrasonlcsSymooslum
(IEEE Cat、 800H1602−2) 17
5−183頁に掲載されたT、 Lukaszekおよ
びA。
ro TemperatureCoeずflclent
of Delay For 5urface Wav
es Inquartz ’ と題する論文に報告され
ていて、参考のためにここに記載する。また、その実験
的立証は、Proceedlngs of the 1
980 UltrasonlcsSymooslum
(IEEE Cat、 800H1602−2) 17
5−183頁に掲載されたT、 Lukaszekおよ
びA。
Ba1latoの’ What SAW Can Le
arn from BAW :Imp目cations
for Future Frequency Con
trol 5Selectlon and Slgna
t Processing ’に題する論文中に報告さ
れていて、参考のためにここに記載する。「=0におけ
る公称STオリエンテーションについて、25cの付近
でΔ1/1へ丁は非消に小さく、l Δf I / f
op = 7 X 10−87 ps+ である。
arn from BAW :Imp目cations
for Future Frequency Con
trol 5Selectlon and Slgna
t Processing ’に題する論文中に報告さ
れていて、参考のためにここに記載する。「=0におけ
る公称STオリエンテーションについて、25cの付近
でΔ1/1へ丁は非消に小さく、l Δf I / f
op = 7 X 10−87 ps+ である。
「;23°における公称SSTオリエンテーションにつ
いて、25Cの付近でΔ1/1ΔTは非虜に小さく、1
Δt + / tΔp= 1叶7’/psiである。両
方のオリエンテーションのりは満足なもので、両オリエ
ンテーションは、表面音波について、遅延の一次温度係
数零をあられす。
いて、25Cの付近でΔ1/1ΔTは非虜に小さく、1
Δt + / tΔp= 1叶7’/psiである。両
方のオリエンテーションのりは満足なもので、両オリエ
ンテーションは、表面音波について、遅延の一次温度係
数零をあられす。
重み付は型の温度補償の状轢において下記の即由によっ
て、40Cの転換温度をもつSTオリエンテーション(
(yxwl) g°/40°、r = 0 ’ )およ
び90℃の転換温度をもつSSTオリエンテーション(
(yxwl )口’/−49,2°、r=21.5°)
が選択される。上記のオリエンテーションについて特定
した程度は近似咳であることは理Pflされよう。所望
の特性のためのカットの実際の程度は、エレクトロニク
ス、水晶材の性質、選択された転換篇度、インターディ
ジタル型トランスデューザの材料およびデザイン、オー
バトーンモードにおける動作等ようなファクタによって
、約±4°だけ変動し得る。
て、40Cの転換温度をもつSTオリエンテーション(
(yxwl) g°/40°、r = 0 ’ )およ
び90℃の転換温度をもつSSTオリエンテーション(
(yxwl )口’/−49,2°、r=21.5°)
が選択される。上記のオリエンテーションについて特定
した程度は近似咳であることは理Pflされよう。所望
の特性のためのカットの実際の程度は、エレクトロニク
ス、水晶材の性質、選択された転換篇度、インターディ
ジタル型トランスデューザの材料およびデザイン、オー
バトーンモードにおける動作等ようなファクタによって
、約±4°だけ変動し得る。
第1の平面22aは、z−v面内で−49,2゜に等し
い回転角θ だけY軸から変位した線にST 垂直な面にミーリングされる。第2の平面22bはZ−
Y面内で40.0°に等り、 イIi−+1転角θ、□
−8だけY軸から変位した線に垂直な面にミーリングさ
れる。水晶は対角対称であるので、130.8゜の回転
角だけY軸から変位した課に垂直な面で第3の平面22
cをミーリングすることによって、平面22aと反対の
円筒形部材20の側にSSTオリエンテーションを再現
でき、また、−140,0゜の回転角だけY軸から変位
した線に重重なthi内に第4の平面22dをミーリン
グすることによって、平面22bと反対の円筒部側20
の側に、5T−Xカットを再現できる。上記のオリエン
テーションは自己温度補償型の実施例の好ましい動作に
ついて望ましいものであるが、これはθ3、−8−θ5
s□=89.2°だけ変位されている。機械的対称性を
最適のものとするように各平面を他の平面から変位させ
ること、すなわち、この特定の実施例においては各平面
を90°変位させることが好ましいが、この好ましい関
係から0.8uの僅かな変動が生じても圧力感知ダイヤ
プラムの公称特性を著しく劣化してはいけない。
い回転角θ だけY軸から変位した線にST 垂直な面にミーリングされる。第2の平面22bはZ−
Y面内で40.0°に等り、 イIi−+1転角θ、□
−8だけY軸から変位した線に垂直な面にミーリングさ
れる。水晶は対角対称であるので、130.8゜の回転
角だけY軸から変位した課に垂直な面で第3の平面22
cをミーリングすることによって、平面22aと反対の
円筒形部材20の側にSSTオリエンテーションを再現
でき、また、−140,0゜の回転角だけY軸から変位
した線に重重なthi内に第4の平面22dをミーリン
グすることによって、平面22bと反対の円筒部側20
の側に、5T−Xカットを再現できる。上記のオリエン
テーションは自己温度補償型の実施例の好ましい動作に
ついて望ましいものであるが、これはθ3、−8−θ5
s□=89.2°だけ変位されている。機械的対称性を
最適のものとするように各平面を他の平面から変位させ
ること、すなわち、この特定の実施例においては各平面
を90°変位させることが好ましいが、この好ましい関
係から0.8uの僅かな変動が生じても圧力感知ダイヤ
プラムの公称特性を著しく劣化してはいけない。
予め選択されたオリエンテーションの千面ヲ適当にミー
リングする技術Fi既知で、ここには1m単に述べる。
リングする技術Fi既知で、ここには1m単に述べる。
例えば、平面228−22dをミーリングして、所望の
結晶学的オリエンテーションを得るために、20の如き
水晶の円筒形部材の適当な部分が利用可能であるかどう
かは、結晶粗材から円筒形部材を正しく形成するかどう
かによって定まる。
結晶学的オリエンテーションを得るために、20の如き
水晶の円筒形部材の適当な部分が利用可能であるかどう
かは、結晶粗材から円筒形部材を正しく形成するかどう
かによって定まる。
Xlについて一回回転さfLfcオリエンテーションを
得るためには、第17図に示す水晶粗材片50のX、
Y、 Z軸を確認し、水晶片50からそのX軸と平行な
縦軸をもつ円筒51を、好ましくはビーリング技術によ
って作る。Y−2面(第18図)に対し垂直にX軸の方
向にみると、円筒51はy−z面内でY軸に対して、選
択された回転角θにある所望の結晶学的オリエンテーシ
ョンをもつ4つの平面をミーリングするようVζ位置さ
れている。θ、1−Xおよびθ のオリエンテーション
が第18図にST 示されている。
得るためには、第17図に示す水晶粗材片50のX、
Y、 Z軸を確認し、水晶片50からそのX軸と平行な
縦軸をもつ円筒51を、好ましくはビーリング技術によ
って作る。Y−2面(第18図)に対し垂直にX軸の方
向にみると、円筒51はy−z面内でY軸に対して、選
択された回転角θにある所望の結晶学的オリエンテーシ
ョンをもつ4つの平面をミーリングするようVζ位置さ
れている。θ、1−Xおよびθ のオリエンテーション
が第18図にST 示されている。
平面228土のトランスデユーサ26 a s 28a
および平面22c上のトランスデユーサ26C128c
は、伝搬方向γが21.5°に等しく電力流角度が零度
に等しいという規準に従って組立てられる。平面22b
上のトランスデユーサ26b。
および平面22c上のトランスデユーサ26C128c
は、伝搬方向γが21.5°に等しく電力流角度が零度
に等しいという規準に従って組立てられる。平面22b
上のトランスデユーサ26b。
28bおよび平面22d上のトランスデユーサ26d、
28dは、伝搬方向rが導度に浄しく、電力流角度が零
度に等しいという規でいに従って組立てられる。
28dは、伝搬方向rが導度に浄しく、電力流角度が零
度に等しいという規でいに従って組立てられる。
SAW発振器の動作周波数は、関連するSAW装置、発
1辰器の安定性およびQに対して利用可能な、あるいは
好ましいサイズを基準として選択される。動作周波数の
適当な範囲は150 Ml−1z −600Ml−1z
で、ここに記載する実施例においては200 MHzが
遠択さJした。もつと小さい基板面積が望まれる場合に
は、SAW装置はもつと高い動作周波数、例えばI G
Hzの動作周波数となるように設計してもよい。しかし
このような装置Nは性能の劣化を生ずるような寄生効果
その曲の効果°を避けるために極度の注意を払って設計
し製作しなければならない。
1辰器の安定性およびQに対して利用可能な、あるいは
好ましいサイズを基準として選択される。動作周波数の
適当な範囲は150 Ml−1z −600Ml−1z
で、ここに記載する実施例においては200 MHzが
遠択さJした。もつと小さい基板面積が望まれる場合に
は、SAW装置はもつと高い動作周波数、例えばI G
Hzの動作周波数となるように設計してもよい。しかし
このような装置Nは性能の劣化を生ずるような寄生効果
その曲の効果°を避けるために極度の注意を払って設計
し製作しなければならない。
自己温度補償型の内部に荷重をかけられる圧力感知ダイ
ヤフラムが第10図および第11図に示されている。こ
れは図示の圧力ハウジング内に装着されていて、このハ
ウジングはダイヤフラムをコンブライアントに(com
pHantly ) (弾性的に)支持しなければなら
ない。圧力ハウジングは、円筒形のステンレス鋼のケー
シング部材71.72.73を備え、これらの部材り適
当カジョイントに沿って相互に係合し、ネジ302.3
04.306.308および必要に応じて他の手段(図
示せず)によって、強固に気密に保持されている。適当
な材料でつくり得るシール301.303によって、ハ
ウジング部材71.73および7]、72の間の流体密
の接触が確保される。端部のケーシング部材7j、72
#−J、それぞれ、流体を室69に導入しダイヤフラム
に導入する導入ロア8.79を備えている。円筒20、
端部キャップ62.64、円筒66より成るイロ立体は
畏さ85nI#Iで、多数の弾性部材309−320に
よって圧力11ウジング内に支持されて、流体が導入さ
れる室69を形成する。弾性部材309−320は例え
ば動き嵌めされたナイロンリングでもよい。室69は室
75.77を通して孔24と連通している。端部キャッ
プ62.64および円筒20の間のジヨイントを横切る
剪断応力を減少させるために、上記の室の大径部分は端
部キャップの中に約17mmのびていなiればならない
。端部ギャップ62.64は、それぞれの1車続的な円
形フランジの内縁で円筒20のそれぞれの端部の外1+
111にぴったりと係合している。また、端部キャップ
62,64は、それぞれのフランジの外縁でケーシング
66の内端部にぴったりと係合している。端部キャップ
62.64は、周知のグラスフリット法(g’1ass
frltteehnlque )のような適当な技術
を使用して、円筒20および円筒66との接触区域でこ
れらの円筒にシールされる。ダイヤフラム、端部キャッ
プ62.64、円筒66のそれぞれの結晶学的オリエン
テーションが連続的な結晶格子を生ずるようにうまく整
合していれば、上記の配置によつ゛〔、ダイヤフラムに
対するコンブライアントな支持体がつくられる。好まし
くは、グラスフリット結合材は結晶の熱膨張係数と同様
の熱膨張係数をもつべきで、できるだけ薄い層として適
用されねばなら々い。
ヤフラムが第10図および第11図に示されている。こ
れは図示の圧力ハウジング内に装着されていて、このハ
ウジングはダイヤフラムをコンブライアントに(com
pHantly ) (弾性的に)支持しなければなら
ない。圧力ハウジングは、円筒形のステンレス鋼のケー
シング部材71.72.73を備え、これらの部材り適
当カジョイントに沿って相互に係合し、ネジ302.3
04.306.308および必要に応じて他の手段(図
示せず)によって、強固に気密に保持されている。適当
な材料でつくり得るシール301.303によって、ハ
ウジング部材71.73および7]、72の間の流体密
の接触が確保される。端部のケーシング部材7j、72
#−J、それぞれ、流体を室69に導入しダイヤフラム
に導入する導入ロア8.79を備えている。円筒20、
端部キャップ62.64、円筒66より成るイロ立体は
畏さ85nI#Iで、多数の弾性部材309−320に
よって圧力11ウジング内に支持されて、流体が導入さ
れる室69を形成する。弾性部材309−320は例え
ば動き嵌めされたナイロンリングでもよい。室69は室
75.77を通して孔24と連通している。端部キャッ
プ62.64および円筒20の間のジヨイントを横切る
剪断応力を減少させるために、上記の室の大径部分は端
部キャップの中に約17mmのびていなiればならない
。端部ギャップ62.64は、それぞれの1車続的な円
形フランジの内縁で円筒20のそれぞれの端部の外1+
111にぴったりと係合している。また、端部キャップ
62,64は、それぞれのフランジの外縁でケーシング
66の内端部にぴったりと係合している。端部キャップ
62.64は、周知のグラスフリット法(g’1ass
frltteehnlque )のような適当な技術
を使用して、円筒20および円筒66との接触区域でこ
れらの円筒にシールされる。ダイヤフラム、端部キャッ
プ62.64、円筒66のそれぞれの結晶学的オリエン
テーションが連続的な結晶格子を生ずるようにうまく整
合していれば、上記の配置によつ゛〔、ダイヤフラムに
対するコンブライアントな支持体がつくられる。好まし
くは、グラスフリット結合材は結晶の熱膨張係数と同様
の熱膨張係数をもつべきで、できるだけ薄い層として適
用されねばなら々い。
外側で円筒66により区画され、内側で円筒20により
区画され、それぞれの端部で端部キャップ62.64の
環状内側面によって区画される全体的に円筒形の室68
が形成−J tLる。それぞり。
区画され、それぞれの端部で端部キャップ62.64の
環状内側面によって区画される全体的に円筒形の室68
が形成−J tLる。それぞり。
の平面22as 22b、22c、22dおよびそれぞ
れのトランスデユーサ対26as 28 a %2(i
b、28b、26 c 、 28 c 、 26 d、
28dより成る4個の遅延ラインの正、しい作用をさ
せるための良好な環境を形成するために、室68は排気
される。各トランスデユーサ26 a −dおよび23
a −dは、それぞれの細い絶縁ワイヤ74a−74
dおよび76 a −76dによって1.鋼ケーシング
部材73の外側に固定されこれから絶縁されているそれ
ぞれの端子70a−70dK接続される。上記のワイヤ
はテフロンでコートしたアルミニウム合金等の適宜の細
いワイヤでよく、円筒66、弾性前月311.319.
319.320およびハウジングfib材73に設けら
れたそれぞれの狭い溝を通っている。これらの溝は、室
68内に良好か環境を維持し室69内にIre体を維持
するために、適当にシールされる。孔24と備方向に整
列して端部キャップ62.64につくられた圧力導入ロ
ア8.79に、圧力を測定された流体が導入される。
れのトランスデユーサ対26as 28 a %2(i
b、28b、26 c 、 28 c 、 26 d、
28dより成る4個の遅延ラインの正、しい作用をさ
せるための良好な環境を形成するために、室68は排気
される。各トランスデユーサ26 a −dおよび23
a −dは、それぞれの細い絶縁ワイヤ74a−74
dおよび76 a −76dによって1.鋼ケーシング
部材73の外側に固定されこれから絶縁されているそれ
ぞれの端子70a−70dK接続される。上記のワイヤ
はテフロンでコートしたアルミニウム合金等の適宜の細
いワイヤでよく、円筒66、弾性前月311.319.
319.320およびハウジングfib材73に設けら
れたそれぞれの狭い溝を通っている。これらの溝は、室
68内に良好か環境を維持し室69内にIre体を維持
するために、適当にシールされる。孔24と備方向に整
列して端部キャップ62.64につくられた圧力導入ロ
ア8.79に、圧力を測定された流体が導入される。
流体が孔24に導入されると、11(IMj 2 gは
導入された流体の圧力に従って撓み、導入された流体の
温度に従って調節する。圧力感知器は小型で、そのすべ
ての要素、/侍に、円筒20、端lNl1キャップ62
.64、円筒66は迅速に熱的平衡状態となル。しかし
、平面22F1% 22bt 22C%22dおよび孔
24の間の厚さが異なるために、平面、22a、22b
、22c、22dにおける円m20のそれぞれの区域の
撓みの程1ザが相違する。
導入された流体の圧力に従って撓み、導入された流体の
温度に従って調節する。圧力感知器は小型で、そのすべ
ての要素、/侍に、円筒20、端lNl1キャップ62
.64、円筒66は迅速に熱的平衡状態となル。しかし
、平面22F1% 22bt 22C%22dおよび孔
24の間の厚さが異なるために、平面、22a、22b
、22c、22dにおける円m20のそれぞれの区域の
撓みの程1ザが相違する。
外部に荷車がかけられる自己温度補償型の実施例が第1
2図、第16図に示されている。好ましくは水晶の長さ
LQ の円筒部材30がカット35に沿ってスライスさ
れて、2つの区分3]、33となっている。好ましくは
、カット35けX−”1面に平行とされる(第18図に
おいてY軸の線に沿って)。この面におけるすべての方
向に沿う熱膨張係数が同じ(1!1.71X10−6/
C)であるので、カット35に沿って発生する応力を減
少するために、X−1面内の結晶′6材料の熱膨張係数
に等しいかまたは類似する熱膨張係数をもつグラスフリ
ット結合材を選択するのがよい。x−1面内のカットは
、5T−XおよびSSTオリエンテーションの使用で、
良好であるが、しかし正確でない機械的対称性を与える
。部分3]、33をミ’Jングすることによって、円筒
形空間34のそれぞれの部分がつくられ、カット35か
らはなれて、円筒30の内部に4つの縦方向の平面32
a532b、32c、32dがミリングにより形成され
て、内部に荷重をかけられる型式の実施例について上記
したと同様に、相対するS′「オリエンテーショント相
対スるSSTオリエンテーションをつくる。内部空間3
4の一軸は円筒30の軸と一致する。相対する平面部分
をそれぞれゲ4なる深さにミーリングすることによって
、ダイヤフラムの厚さの異なる区域がつくられる。従っ
て、平面32a132cは、それぞれ、深さrl およ
び「2 にミーリングされ、これにより、異なる厚さt
lおよびt2 をもつダイヤフラムの部分を形成し、ま
た、平面32b、32dはそれぞれ深さrlおよびr2
にミーリングされて、それぞれ異なる厚さtl および
t2 をもつダイヤフラム1fl1分を形成する。もし
も望まれるならば、平面32 a −32dをそれぞれ
異なる深さ罠ミーリングしてもよい。送信器−受信器の
対368138 aと36bJ asbと36c、38
cと36d、38dより成るSAW遅延ラインがそれぞ
れの平面328−32dにつくられる。SAW装置がつ
くられたら、円筒3002つの部分3J、33は、好ま
しくはグラスフリット結合法によって、結合される。そ
れぞれの平面32 a −326とトランスデユーサ対
368.38aと36b、38bと36 c y 38
cと36d138dを含む4つの遅延ラインを正しく
作用させるための良好な環境を形成するために、室34
は排気される。SAW装置からのリード線が室34を取
囲む表面上につくられ、結合層を通って圧力感知ダイヤ
フラムの外側上の端子につながれる。
2図、第16図に示されている。好ましくは水晶の長さ
LQ の円筒部材30がカット35に沿ってスライスさ
れて、2つの区分3]、33となっている。好ましくは
、カット35けX−”1面に平行とされる(第18図に
おいてY軸の線に沿って)。この面におけるすべての方
向に沿う熱膨張係数が同じ(1!1.71X10−6/
C)であるので、カット35に沿って発生する応力を減
少するために、X−1面内の結晶′6材料の熱膨張係数
に等しいかまたは類似する熱膨張係数をもつグラスフリ
ット結合材を選択するのがよい。x−1面内のカットは
、5T−XおよびSSTオリエンテーションの使用で、
良好であるが、しかし正確でない機械的対称性を与える
。部分3]、33をミ’Jングすることによって、円筒
形空間34のそれぞれの部分がつくられ、カット35か
らはなれて、円筒30の内部に4つの縦方向の平面32
a532b、32c、32dがミリングにより形成され
て、内部に荷重をかけられる型式の実施例について上記
したと同様に、相対するS′「オリエンテーショント相
対スるSSTオリエンテーションをつくる。内部空間3
4の一軸は円筒30の軸と一致する。相対する平面部分
をそれぞれゲ4なる深さにミーリングすることによって
、ダイヤフラムの厚さの異なる区域がつくられる。従っ
て、平面32a132cは、それぞれ、深さrl およ
び「2 にミーリングされ、これにより、異なる厚さt
lおよびt2 をもつダイヤフラムの部分を形成し、ま
た、平面32b、32dはそれぞれ深さrlおよびr2
にミーリングされて、それぞれ異なる厚さtl および
t2 をもつダイヤフラム1fl1分を形成する。もし
も望まれるならば、平面32 a −32dをそれぞれ
異なる深さ罠ミーリングしてもよい。送信器−受信器の
対368138 aと36bJ asbと36c、38
cと36d、38dより成るSAW遅延ラインがそれぞ
れの平面328−32dにつくられる。SAW装置がつ
くられたら、円筒3002つの部分3J、33は、好ま
しくはグラスフリット結合法によって、結合される。そ
れぞれの平面32 a −326とトランスデユーサ対
368.38aと36b、38bと36 c y 38
cと36d138dを含む4つの遅延ラインを正しく
作用させるための良好な環境を形成するために、室34
は排気される。SAW装置からのリード線が室34を取
囲む表面上につくられ、結合層を通って圧力感知ダイヤ
フラムの外側上の端子につながれる。
適当な圧力ハウジング内に収容された完成済みのダイヤ
フラムの詳細について以下説明する。
フラムの詳細について以下説明する。
第12図−第13図の外部に荷電がかけられる型式の実
施例における(重々の構造部分は第4図−第5図および
添付の説明に示された教示に従って寸法法めすればよい
。ただし、ミーリング深さ「1は2++mとし、ミーリ
ング深さ「2 は4間とされる。
施例における(重々の構造部分は第4図−第5図および
添付の説明に示された教示に従って寸法法めすればよい
。ただし、ミーリング深さ「1は2++mとし、ミーリ
ング深さ「2 は4間とされる。
空間34の位置、および平面をミーリングするミーリン
グ深さ「1およびr2は厚キt1およびt2を決める。
グ深さ「1およびr2は厚キt1およびt2を決める。
これらの厚さは、それぞれ、6層および4喘とされる。
自己温度補償型で内部に荷電をかけられる圧力感知ダイ
ヤフラムが、圧力ハウジング内に装着された状鴨で第1
4図、第15図に示されている。
ヤフラムが、圧力ハウジング内に装着された状鴨で第1
4図、第15図に示されている。
圧力ハウジングは円筒形のステンレス鋼のケーシング前
月40.4J、42より成り、これらの部材は「さねは
き’ (rabbet ) JJジヨイントのようす適
当なジヨイントに沿って相互に係合し、ネジ330.3
31.332.333および必稈に応じてそのfluの
手段によって気密に結合される。例えFj:、ポリミナ
イドのような任意の適当な材料でつくられるシール56
.571Cよって、ハウジング部材40.41および4
0.42の間の流体密の接触が確(呆される。端部l・
ウジング部材41.42は、それぞれ、室45中に流体
を導入しダイヤプラムに流体を々ネ人するだめの導入口
58.59をuftiえている。円筒30は多数の弾性
部月43 a −43c 、 47 a −47c 、
340−343によって圧力ハウジング内に支持され
、流体が導入さ)1.る室45を形成する。トランスデ
ユーサ36a−36dおよび38 a −38dからの
それぞれのリード線が室34を取囲む表面上につくられ
、結合層、弾性部材478、ハウジング部材41内の小
さv溝’を通って、その上に適当に装着された端子スト
リップ48に達する。溝は適当にシールされる。送信器
36d’i溝48に接続するリード線44dおよび受信
機38dを端子49に接続するリード線46dのみを示
してあって、図を簡単化するために、その他のリード線
は省略しである。
月40.4J、42より成り、これらの部材は「さねは
き’ (rabbet ) JJジヨイントのようす適
当なジヨイントに沿って相互に係合し、ネジ330.3
31.332.333および必稈に応じてそのfluの
手段によって気密に結合される。例えFj:、ポリミナ
イドのような任意の適当な材料でつくられるシール56
.571Cよって、ハウジング部材40.41および4
0.42の間の流体密の接触が確(呆される。端部l・
ウジング部材41.42は、それぞれ、室45中に流体
を導入しダイヤプラムに流体を々ネ人するだめの導入口
58.59をuftiえている。円筒30は多数の弾性
部月43 a −43c 、 47 a −47c 、
340−343によって圧力ハウジング内に支持され
、流体が導入さ)1.る室45を形成する。トランスデ
ユーサ36a−36dおよび38 a −38dからの
それぞれのリード線が室34を取囲む表面上につくられ
、結合層、弾性部材478、ハウジング部材41内の小
さv溝’を通って、その上に適当に装着された端子スト
リップ48に達する。溝は適当にシールされる。送信器
36d’i溝48に接続するリード線44dおよび受信
機38dを端子49に接続するリード線46dのみを示
してあって、図を簡単化するために、その他のリード線
は省略しである。
流体が環状の室45に導入されると、円筒30は導入さ
れた流体の圧力に従って撓み、導入された流体の温度に
調節される。圧力感知器は比軸的小型で、そのすべての
要素は迅速に熱的平衡状態となる。しかし、平面32
a % 32 cと平面32b132dに対応する基板
の厚さが異なるので、これらの区域における円筒30の
それぞれの部分はそれぞれ異なる程度に変形する。
れた流体の圧力に従って撓み、導入された流体の温度に
調節される。圧力感知器は比軸的小型で、そのすべての
要素は迅速に熱的平衡状態となる。しかし、平面32
a % 32 cと平面32b132dに対応する基板
の厚さが異なるので、これらの区域における円筒30の
それぞれの部分はそれぞれ異なる程度に変形する。
自己補償型の圧力感知ダイヤフラムの内側に荷重がかけ
られる形態のものおよび外側に荷重がかけられる形態の
ものの両者は、2つのそれぞれ独立の温度補償された圧
力測定を与える。改良された結果を得るために第10図
または第14図のいずれかの圧力感知器に結合できる典
型的な回路が第16図に示されている。第16図に2つ
の測定チャンネルが示されていて、その1つは発掘子8
8a、88c、ミクサー90、カウンター91.92.
93を含み、他は発掘子88b、Rad。
られる形態のものおよび外側に荷重がかけられる形態の
ものの両者は、2つのそれぞれ独立の温度補償された圧
力測定を与える。改良された結果を得るために第10図
または第14図のいずれかの圧力感知器に結合できる典
型的な回路が第16図に示されている。第16図に2つ
の測定チャンネルが示されていて、その1つは発掘子8
8a、88c、ミクサー90、カウンター91.92.
93を含み、他は発掘子88b、Rad。
ミクサー94、カウンター95.96.97を含む。例
えば、それぞれ、平面22a−22d上に装着された送
信器26a−26dおよび受信器28a−28de含む
SAW装置82a、82b。
えば、それぞれ、平面22a−22d上に装着された送
信器26a−26dおよび受信器28a−28de含む
SAW装置82a、82b。
82c、82dがダイヤフラム80上に設けられる。装
置82a、82Cの結晶学的メリエンテーションは同じ
(SSTオリエンテーションの付近)で、それぞれの基
板厚さは異なり、従って、同じ温度および静水圧を受け
る時に、装置82B、82Cは同じ周波数−l高度特性
を有し異なる周波数−圧力特性をもつ、SAW装置82
a、増巾器84a、整合回路11385a、86aを含
む発振子88aの出力(fa )およびSAWm置8装
C1増巾器84c、整合回路網85C% 85eを含む
発振子88cの出力(fc )がミクサー90に送られ
る。ミクサー90の出力、差f6− f 0%はカウン
ター92に送られ、このカウンターね入力信号の周波数
をカウントして、そのディジタルな表示を出力し、これ
によシミフサ−90のアナログ出力をディジタル信号に
変換する。カウンター91.93はそれぞれfcおよび
faの面波数をカウントし、そのディジタル表示を与え
る。同様に、装置82b、82dの結晶学的メリエンテ
ーションは同じ(ST−Xオリエンテーションの付近)
で、それぞれの厚さは異なり、従って、同じ温度および
静水圧を受ける時に装置82b、82dは同じ周波数一
温度特性を有し異なる周波数−圧力特性を有する。SA
W装筒82b、増+jJ器84b1整合回路網85b、
86bを含む発振子F18bの出力(fb )およびS
AW装置82d、増11]器84d、整合回路網85d
、86dを含む発掘子F18dの出力(fd ) がミ
クサー94に送られる。ミクサー94の出力、差fb−
fd 、はカウンター96に送られ、このカウンターは
入力(1号の周波数をカラントし、そのディジタル表示
を出力し、これによりミクサー94のアナログ出力をデ
ィジタル信号に変換する。カウンター95.971ユそ
れぞれfdおよびfbの周波数をカウントし、そのディ
ジタル表示を与える。
置82a、82Cの結晶学的メリエンテーションは同じ
(SSTオリエンテーションの付近)で、それぞれの基
板厚さは異なり、従って、同じ温度および静水圧を受け
る時に、装置82B、82Cは同じ周波数−l高度特性
を有し異なる周波数−圧力特性をもつ、SAW装置82
a、増巾器84a、整合回路11385a、86aを含
む発振子88aの出力(fa )およびSAWm置8装
C1増巾器84c、整合回路網85C% 85eを含む
発振子88cの出力(fc )がミクサー90に送られ
る。ミクサー90の出力、差f6− f 0%はカウン
ター92に送られ、このカウンターね入力信号の周波数
をカウントして、そのディジタルな表示を出力し、これ
によシミフサ−90のアナログ出力をディジタル信号に
変換する。カウンター91.93はそれぞれfcおよび
faの面波数をカウントし、そのディジタル表示を与え
る。同様に、装置82b、82dの結晶学的メリエンテ
ーションは同じ(ST−Xオリエンテーションの付近)
で、それぞれの厚さは異なり、従って、同じ温度および
静水圧を受ける時に装置82b、82dは同じ周波数一
温度特性を有し異なる周波数−圧力特性を有する。SA
W装筒82b、増+jJ器84b1整合回路網85b、
86bを含む発振子F18bの出力(fb )およびS
AW装置82d、増11]器84d、整合回路網85d
、86dを含む発掘子F18dの出力(fd ) がミ
クサー94に送られる。ミクサー94の出力、差fb−
fd 、はカウンター96に送られ、このカウンターは
入力(1号の周波数をカラントし、そのディジタル表示
を出力し、これによりミクサー94のアナログ出力をデ
ィジタル信号に変換する。カウンター95.971ユそ
れぞれfdおよびfbの周波数をカウントし、そのディ
ジタル表示を与える。
第10図または第14図に示されてないが、発掘子88
a −88dは集積回路としてつくってもよく、これ
らは、ダイヤフラムの弾性変形に影響を与えることなし
に、リード線を短かくして゛爵生効果を減少し発掘子の
安定性を改良するように、関連するSAW装置に充分近
くで、排気空間68.34内の表面上に装着される。
a −88dは集積回路としてつくってもよく、これ
らは、ダイヤフラムの弾性変形に影響を与えることなし
に、リード線を短かくして゛爵生効果を減少し発掘子の
安定性を改良するように、関連するSAW装置に充分近
くで、排気空間68.34内の表面上に装着される。
fa、fcとfa−fc、およびfb、fdとfb −
fd をあられすディジタル信号がゾロセッサ98に供
給され、このプロセッサは圧力の測度を決定し、その結
果を記録器99に供給する。信号fa。
fd をあられすディジタル信号がゾロセッサ98に供
給され、このプロセッサは圧力の測度を決定し、その結
果を記録器99に供給する。信号fa。
fb、f(、、fd は[々記の重みっけ型(welg
htlngtype ) のC晶度補償に使用はれ、自
己1品度補償には不要である。もしも自己温度補償のみ
が望まれるならば、上記(D温度補償を与えるカウンタ
ー91.93.95.97は第16図の回路から省略し
てよい。また、ゾロセッサ98は次の測定サイクルのた
めにカウンター91〜93および95〜97をリセット
する。
htlngtype ) のC晶度補償に使用はれ、自
己1品度補償には不要である。もしも自己温度補償のみ
が望まれるならば、上記(D温度補償を与えるカウンタ
ー91.93.95.97は第16図の回路から省略し
てよい。また、ゾロセッサ98は次の測定サイクルのた
めにカウンター91〜93および95〜97をリセット
する。
プロセッサ98はfa −fcおよびfb −fdから
それぞitの圧力測度を決定するために、曲線適合ルー
チン(curve flttlng routlne
)或いはルックアツノテーゾルおよび補間手段を備える
。これらの手段は、本質的に第6図に関する部分で説明
したよ′うに備えられている。ただし式(5)内のパラ
メータIrfNの代シにf、 −fcまたはfb−fd
が入れられる。
それぞitの圧力測度を決定するために、曲線適合ルー
チン(curve flttlng routlne
)或いはルックアツノテーゾルおよび補間手段を備える
。これらの手段は、本質的に第6図に関する部分で説明
したよ′うに備えられている。ただし式(5)内のパラ
メータIrfNの代シにf、 −fcまたはfb−fd
が入れられる。
また、本発明は、他の自己1度補償型の実施例を企図し
ている。ν1jえば、偏心した孔およびa叔の測定とい
う特徴に基ずく外部にtWj Itがかけられる実施例
が第19〜20図に示されている。好ましくは水晶材よ
り成る長さLQの円啼部材13゜かカット135に沿っ
てスライスされて、2つの区分131.133とされて
いる。好ましくは。
ている。ν1jえば、偏心した孔およびa叔の測定とい
う特徴に基ずく外部にtWj Itがかけられる実施例
が第19〜20図に示されている。好ましくは水晶材よ
り成る長さLQの円啼部材13゜かカット135に沿っ
てスライスされて、2つの区分131.133とされて
いる。好ましくは。
カッ) 135Fi、前記のように相対するSTオリ1
ンテーンヨンおよび相対するSSTオリエンテーション
をつくるように円筒130の内部にミーリングされる4
つの縦方向の平面132a、132b、] 32c、]
32dを妨害することなしに、出来るだけ多くの機械
的削称性を与えるために、x−7面内につくらねばなら
ない。各平面1 :(2a、]32b、132c、13
2dは深さ「1 にミーリングされる。想II線bbで
示す軸をもつ長さLlの空間134が、想像線aaで示
す軸をもつ円筒13()の端部から等距離の位置に円筒
130内につくられる。軸bbは円筒の軸a8に平行で
あるが、これから適当な角度βで喰違っていて、これη
・ら距離dだけ変位して、平面1328−132dの各
々と円筒130の外面との間に、それぞれ、j早さtl
、t2、t3、t4の部分をつくっている。
ンテーンヨンおよび相対するSSTオリエンテーション
をつくるように円筒130の内部にミーリングされる4
つの縦方向の平面132a、132b、] 32c、]
32dを妨害することなしに、出来るだけ多くの機械
的削称性を与えるために、x−7面内につくらねばなら
ない。各平面1 :(2a、]32b、132c、13
2dは深さ「1 にミーリングされる。想II線bbで
示す軸をもつ長さLlの空間134が、想像線aaで示
す軸をもつ円筒13()の端部から等距離の位置に円筒
130内につくられる。軸bbは円筒の軸a8に平行で
あるが、これから適当な角度βで喰違っていて、これη
・ら距離dだけ変位して、平面1328−132dの各
々と円筒130の外面との間に、それぞれ、j早さtl
、t2、t3、t4の部分をつくっている。
第19〜20図の外側に萌ルがかけられる実施例におけ
る種々の構造的部分は、第4〜5図および添付の説明の
教示に従って寸法を決められるが、ただし、空間134
は、変位角度βが約51度、軸aaと軸bbの変位dが
約1.5馴で円筒130内につくられる。孔134の位
置および各平面をつくるミーリング深さrl によって
、厚さ1、、 12. 1.、t4が確定され、これは
、それぞれ、4.91+1. 6.9IJ、7.1iL
ff、5.11ffとされる。
る種々の構造的部分は、第4〜5図および添付の説明の
教示に従って寸法を決められるが、ただし、空間134
は、変位角度βが約51度、軸aaと軸bbの変位dが
約1.5馴で円筒130内につくられる。孔134の位
置および各平面をつくるミーリング深さrl によって
、厚さ1、、 12. 1.、t4が確定され、これは
、それぞれ、4.91+1. 6.9IJ、7.1iL
ff、5.11ffとされる。
ミーリングされた平面のオリエンテーションは、上記と
同じ基礎に基いて選択され、適当なSAW装置の製作は
上記と同じように行なわれる。SAW装蓋装置くられた
ら2円筒130の2つの部分131.133は結合され
%第14図%第15図に関して説明したハウジング内に
配置され、ダイヤフラムが第16図の測定回路に結合さ
れる。
同じ基礎に基いて選択され、適当なSAW装置の製作は
上記と同じように行なわれる。SAW装蓋装置くられた
ら2円筒130の2つの部分131.133は結合され
%第14図%第15図に関して説明したハウジング内に
配置され、ダイヤフラムが第16図の測定回路に結合さ
れる。
内部に荷重がかけられる感知装置の他の実施例において
は、孔と円筒の軸が一致するが、平面は異なる深さにミ
ーリングされて、本発明によるそれぞれ外なる基板厚さ
を形成する。例えば%第21図は、相対する平面150
a、150cが成る定められたオリエンテーション、例
えばSSTオリエンテーションを有し、これらがそれぞ
れ異なる厚さr+flpよびr2にミーリングされて、
それぞれ、異なる厚さtlおよびt2をもつダイヤプラ
ムの部分をつくっている形態のものを示す。同様に、相
対する平面150b、150dは、それぞれ、厚さr、
およびr2にミーリングされて、それぞれ界なる厚さt
lおよびt2をもつダイヤプラム部分をつくる。平面1
50a% 150bのミーリング深さは同じ(「I)で
平面150 c%150dのミーリング深さは同じ(「
2)であるが、所望々らげ、各平面を異なる深さにミー
リングしてもよい。
は、孔と円筒の軸が一致するが、平面は異なる深さにミ
ーリングされて、本発明によるそれぞれ外なる基板厚さ
を形成する。例えば%第21図は、相対する平面150
a、150cが成る定められたオリエンテーション、例
えばSSTオリエンテーションを有し、これらがそれぞ
れ異なる厚さr+flpよびr2にミーリングされて、
それぞれ、異なる厚さtlおよびt2をもつダイヤプラ
ムの部分をつくっている形態のものを示す。同様に、相
対する平面150b、150dは、それぞれ、厚さr、
およびr2にミーリングされて、それぞれ界なる厚さt
lおよびt2をもつダイヤプラム部分をつくる。平面1
50a% 150bのミーリング深さは同じ(「I)で
平面150 c%150dのミーリング深さは同じ(「
2)であるが、所望々らげ、各平面を異なる深さにミー
リングしてもよい。
複数の測定を欠いた自己温度補償型の圧力感知ダイヤフ
ラムの簡単化した実施例が、第22図に。
ラムの簡単化した実施例が、第22図に。
内側に荷重がかけられる装置として示されている@同じ
教示に従って、外側に荷重がかけられる装置を構成する
こともできる。第22図の実施例は。
教示に従って、外側に荷重がかけられる装置を構成する
こともできる。第22図の実施例は。
それぞれ深さ「1および「2にミーリングされた平面1
608.160bを含む唯1つの測定チャンネルと、!
16図のチャンネルの1っに含まれているような関連す
る電子回路を必要とする。
608.160bを含む唯1つの測定チャンネルと、!
16図のチャンネルの1っに含まれているような関連す
る電子回路を必要とする。
前記のオリエンテーションは対角軸の周りに一回回転さ
れたオリエンテーションである。他の適当々オリエンテ
ーション、例えば、三方軸の周りに一回回転されたオリ
エンテーション、或いは二回回転されたオリエンテーシ
ョンも、成る応用個所においては有利であるかもしれな
い。三方軸の周りに一回回転されたオリエンテーション
に基ずくダイヤフラムが第22図に示されている。第2
3図は、それぞれ、深さ’I”2、r3 Kミーリンク
された平面1708.170b% 170cを含む単一
の測定チャンネルを示す。測定チャンネル内の第3の平
面は、測定される圧力の信頼性のレベルを改良するため
の余分の読みを与える。
れたオリエンテーションである。他の適当々オリエンテ
ーション、例えば、三方軸の周りに一回回転されたオリ
エンテーション、或いは二回回転されたオリエンテーシ
ョンも、成る応用個所においては有利であるかもしれな
い。三方軸の周りに一回回転されたオリエンテーション
に基ずくダイヤフラムが第22図に示されている。第2
3図は、それぞれ、深さ’I”2、r3 Kミーリンク
された平面1708.170b% 170cを含む単一
の測定チャンネルを示す。測定チャンネル内の第3の平
面は、測定される圧力の信頼性のレベルを改良するため
の余分の読みを与える。
重み付は型の温度補償
ST及びSST方向の付近の方向は別の特性を有してい
ることが分ってかり1本発明ではこれを便利に用いて、
温度補償された圧力測定を行なったり、或いは更に、こ
の温度補償された圧力測定の応答時間及び精度を改善し
たりすることができる。特に、これらの方向社興なった
′転換“温度を示す。SAW装置の周波数一温度特性は
パラがう状のふるまいを呈し、これは転換(基準)温度
付近での周波数の温度依存性が最小である。従って、圧
力を測定する際に温度により誘起されるエラーは転換点
から最も離れた温度において最も顕著となる。測定され
る流体が例えば0℃ないし150℃の範囲の温度変動を
受けるところで高い精度を与えるために、40℃及び9
0℃の各転換温度を有するSAW装置で得られた2つの
別々の圧力測定値が合成されて、以下で詳細に述べるよ
うに更に一貫性のある正確が測定値が形成される。
ることが分ってかり1本発明ではこれを便利に用いて、
温度補償された圧力測定を行なったり、或いは更に、こ
の温度補償された圧力測定の応答時間及び精度を改善し
たりすることができる。特に、これらの方向社興なった
′転換“温度を示す。SAW装置の周波数一温度特性は
パラがう状のふるまいを呈し、これは転換(基準)温度
付近での周波数の温度依存性が最小である。従って、圧
力を測定する際に温度により誘起されるエラーは転換点
から最も離れた温度において最も顕著となる。測定され
る流体が例えば0℃ないし150℃の範囲の温度変動を
受けるところで高い精度を与えるために、40℃及び9
0℃の各転換温度を有するSAW装置で得られた2つの
別々の圧力測定値が合成されて、以下で詳細に述べるよ
うに更に一貫性のある正確が測定値が形成される。
2つの適当な方向は、40℃の転換温度を生じさせる(
yxwl ) 0’ /40 、0°、r==[10
と、90℃の転換温度を生じさせる( yxwl )
0’ /−49,2°、r=21.5°である。これら
の転換温度における各方向についてのΔ1/fΔ丁及び
Δf/fΔPの値は上記したようにはソ同じである。
yxwl ) 0’ /40 、0°、r==[10
と、90℃の転換温度を生じさせる( yxwl )
0’ /−49,2°、r=21.5°である。これら
の転換温度における各方向についてのΔ1/fΔ丁及び
Δf/fΔPの値は上記したようにはソ同じである。
SAW装置の転換温度は1回転角%伝搬方向或いはその
両方をわずかに変えることKよって広い温度レンジにわ
たって変えることができる。例えば、STカットの付近
の方向については、伝搬方向を三方晶軸に沿って一定に
保持した状態で、転換温度が回転角の減少と共に増加し
、そしてSSTカットの付近の方向については、転換温
度が回転角の減少又は伝搬方向の減少−その他方は一定
に保っておく−と共に増加する。
両方をわずかに変えることKよって広い温度レンジにわ
たって変えることができる。例えば、STカットの付近
の方向については、伝搬方向を三方晶軸に沿って一定に
保持した状態で、転換温度が回転角の減少と共に増加し
、そしてSSTカットの付近の方向については、転換温
度が回転角の減少又は伝搬方向の減少−その他方は一定
に保っておく−と共に増加する。
重み付は型の温度補償は、非常に正確な圧力測定を必要
とする使用目的において自己温度補償を補うものである
。このような使用目的においては。
とする使用目的において自己温度補償を補うものである
。このような使用目的においては。
taとfC,或いはfbとfdとを混合しても温度の影
響が許容できるところまで除去されない。むしろ、自己
温度補償技術は、これらの状態の下で、非常に広い然し
限度のある温度範囲にわたって正確且つ安定な作動を与
えると考えることができる。
響が許容できるところまで除去されない。むしろ、自己
温度補償技術は、これらの状態の下で、非常に広い然し
限度のある温度範囲にわたって正確且つ安定な作動を与
えると考えることができる。
第24図は、温度により誘起される不所望な作用が自己
温度補償技術によって実質的に減少される広いレンジを
示すグラフである。第24図は本発明を説明するための
ものに過ぎず、説明をわかりやすくするために、各チャ
ンネルに同様の方向をもつ2つのSAW装置の転換温度
について示°した10°のずれは実際に生じるであろう
ものより大きいことが理解されよう。曲1j、402a
及び402bは(yxwl ) 0° /40.0°、
r=00のST力方向もつ2つのSAW@置の周波数一
温度特性を各々表わすものであり、一方、曲線404は
ST力方向もつSAW装置をペースとする自己温度補償
チャンネルの周波数一温度特性を表わしている。選択さ
れた転換温度40℃から離れると、曲線402a及び4
02bは急激に変化、し、転換温度のすぐ近くの曲線4
02a及び402bの各部を除く全ての領域で、SAW
装置の応答が温度によって大巾に影響を受けることを示
している。曲線404は当該レンジ0℃〜j30℃にお
いて転換温度伺近で非常に■つくりと変化し、自己温度
補償されたチャンネルの応答がこのレンジ内では温度に
よってわずかに影響されるだけであることを示している
。曲線406a及び406bは(yxwl ) O’/
−49,2°%r=21.5°のSST方向をも、:)
2−1)のSAW装置の周波数一温度特性を各々表わし
てかり、一方1曲線408はSST方向をもっSAW装
置をペースとする自己温度補償チャンネルの周波数一温
度特性を表わしている。選択された転換温度906を越
えると、曲線406a及び406bは急激に変化し、転
換温度のすぐ近くの曲線406a及び406bの各部分
以外の全ての領域でSAW装櫃の応答が温度の影響を大
巾に受けることを示している。曲線408は[1U−1
30℃の当該レンジにおいて転換温度の付近で非常にゆ
っくりと変化するだけであり、自己温度補償されたチャ
ンネルの応答がこのレンジ内で温度によってわずかに影
響されるだけであることを示している。
温度補償技術によって実質的に減少される広いレンジを
示すグラフである。第24図は本発明を説明するための
ものに過ぎず、説明をわかりやすくするために、各チャ
ンネルに同様の方向をもつ2つのSAW装置の転換温度
について示°した10°のずれは実際に生じるであろう
ものより大きいことが理解されよう。曲1j、402a
及び402bは(yxwl ) 0° /40.0°、
r=00のST力方向もつ2つのSAW@置の周波数一
温度特性を各々表わすものであり、一方、曲線404は
ST力方向もつSAW装置をペースとする自己温度補償
チャンネルの周波数一温度特性を表わしている。選択さ
れた転換温度40℃から離れると、曲線402a及び4
02bは急激に変化、し、転換温度のすぐ近くの曲線4
02a及び402bの各部を除く全ての領域で、SAW
装置の応答が温度によって大巾に影響を受けることを示
している。曲線404は当該レンジ0℃〜j30℃にお
いて転換温度伺近で非常に■つくりと変化し、自己温度
補償されたチャンネルの応答がこのレンジ内では温度に
よってわずかに影響されるだけであることを示している
。曲線406a及び406bは(yxwl ) O’/
−49,2°%r=21.5°のSST方向をも、:)
2−1)のSAW装置の周波数一温度特性を各々表わし
てかり、一方1曲線408はSST方向をもっSAW装
置をペースとする自己温度補償チャンネルの周波数一温
度特性を表わしている。選択された転換温度906を越
えると、曲線406a及び406bは急激に変化し、転
換温度のすぐ近くの曲線406a及び406bの各部分
以外の全ての領域でSAW装櫃の応答が温度の影響を大
巾に受けることを示している。曲線408は[1U−1
30℃の当該レンジにおいて転換温度の付近で非常にゆ
っくりと変化するだけであり、自己温度補償されたチャ
ンネルの応答がこのレンジ内で温度によってわずかに影
響されるだけであることを示している。
# S7 TJ及び“SST″チャンネルに対する温度
の影響は一般にわずか表ものであるが1曲線404で示
されたように約40℃においては# 37 #チャンネ
ルに対して温度の影響が全くなく、そして曲線408に
よって示されたように約90℃においてはI S S
T Itチャンネルに対して温度の影響が全くない。重
み付は型の温度補償では、この特徴が効果的に利用され
る。
の影響は一般にわずか表ものであるが1曲線404で示
されたように約40℃においては# 37 #チャンネ
ルに対して温度の影響が全くなく、そして曲線408に
よって示されたように約90℃においてはI S S
T Itチャンネルに対して温度の影響が全くない。重
み付は型の温度補償では、この特徴が効果的に利用され
る。
重み付は型の温度補償においては、各々のチャンネル応
答が各々の周波数一温度特性に基いて重み付けされる。
答が各々の周波数一温度特性に基いて重み付けされる。
簡単な重み付は関数が第25図のグラフに示されており
、曲線412はI 37 ITチャンネルで測定される
圧力測定値及び1357 I+チャンネルで測定される
温度測定値に用いられる重み付は関数を表わしており、
曲線414は’SST“チャンネルで測定される圧力測
定値及び# 57 #チャンネルで測定さiする温度測
定値に適用される重み付は関数を弄わしている。最適化
され九圧力測定値及び最適化された温度測定値は出力と
して記録器99(第16図)へ供給される。
、曲線412はI 37 ITチャンネルで測定される
圧力測定値及び1357 I+チャンネルで測定される
温度測定値に用いられる重み付は関数を表わしており、
曲線414は’SST“チャンネルで測定される圧力測
定値及び# 57 #チャンネルで測定さiする温度測
定値に適用される重み付は関数を弄わしている。最適化
され九圧力測定値及び最適化された温度測定値は出力と
して記録器99(第16図)へ供給される。
第25図に示された重み付は関数は、広い温度レンジに
わたる3T及びSST方向の周波数一温度特性を紡機と
したものである。周波数及び圧力の関数としてのSAW
装置の温度応答は次のような典型的な2次元多項式であ
る T(f、P)=I。 (6) 3 +I、イ + I、f + I、f + −−−+工4
p + z、p2+工p5 + ++++ X fP
+ I8ず2ρ 十 1.fP2 + −−−周波数及
び温度の関数としてのSAW装置の圧力応答は式(4)
で示したが、これは次のように表わされる。
わたる3T及びSST方向の周波数一温度特性を紡機と
したものである。周波数及び圧力の関数としてのSAW
装置の温度応答は次のような典型的な2次元多項式であ
る T(f、P)=I。 (6) 3 +I、イ + I、f + I、f + −−−+工4
p + z、p2+工p5 + ++++ X fP
+ I8ず2ρ 十 1.fP2 + −−−周波数及
び温度の関数としてのSAW装置の圧力応答は式(4)
で示したが、これは次のように表わされる。
P (ず 、T)==H。
+ H,f + H2f2+ H3f3−1−−−−+
H4T + H5T + H6T3+ −−−+ H
,fT + H8f T + H7fT + −−−重
み付は型の温度補償技術は曲線適合技術に関連して使用
される。4つの発振F)88a−88dの各々は1式(
4)及び(6)で与えられる圧力及び温度測定のための
2次元多項式に従って、同波数及び温度の関数としての
圧力測定値と、周波数及び圧力の関数としての温度測定
値とを与えるように構成される。校正中に、カウンタ9
3.97% 91゜95.92及び96からの信号ずa
、ずb% fc。
H4T + H5T + H6T3+ −−−+ H
,fT + H8f T + H7fT + −−−重
み付は型の温度補償技術は曲線適合技術に関連して使用
される。4つの発振F)88a−88dの各々は1式(
4)及び(6)で与えられる圧力及び温度測定のための
2次元多項式に従って、同波数及び温度の関数としての
圧力測定値と、周波数及び圧力の関数としての温度測定
値とを与えるように構成される。校正中に、カウンタ9
3.97% 91゜95.92及び96からの信号ずa
、ずb% fc。
fd 、fs −fc及びfb −fd が選択された
広範′囲の圧力及び温度に対して測定され、そして多項
式の係数が、ノセラメータ推定技術1例えば参考として
ここに取り上げる前記Mends I 氏の文献に述べ
られた最小平方ノ9ラメータ推定技術を用いて決定され
る。
広範′囲の圧力及び温度に対して測定され、そして多項
式の係数が、ノセラメータ推定技術1例えば参考として
ここに取り上げる前記Mends I 氏の文献に述べ
られた最小平方ノ9ラメータ推定技術を用いて決定され
る。
測定譚階中には、ミクサ90及び94の出力である信号
fa−fc及びfb −fdからおおよその圧力測定1
直が得られる。このおおよその圧力測定値−おおよそと
は、若干温度の影響を受けているためであるーは平均化
され、その結果を用いて、式(6)を各々fa、fb、
fc及びfdK各々適用することにより、4つのSAW
装置の温度のおおよその値がめられる。平均温度が決定
され、これは以下の繰り返し手順にとって最良の推定温
度であると考えられる。
fa−fc及びfb −fdからおおよその圧力測定1
直が得られる。このおおよその圧力測定値−おおよそと
は、若干温度の影響を受けているためであるーは平均化
され、その結果を用いて、式(6)を各々fa、fb、
fc及びfdK各々適用することにより、4つのSAW
装置の温度のおおよその値がめられる。平均温度が決定
され、これは以下の繰り返し手順にとって最良の推定温
度であると考えられる。
SAW装置からの各々の温度の決定は1式α1及びfi
llで与えられて第25図に示された重み付は関数に従
って最良の推定温度の関数として重み付けされ、改善さ
れた最良の推定温度が得られる。この改善された最良の
推定温度を式(4)に使用して、信号fa−fc及びf
b −fdから改善された圧力測定値が得られる。これ
により得られる2つのチャンネルからの改善された圧力
測定値は1式(7)及び(8)により与えられて第25
図に示された重み付は関数に従って最良の推定温度の関
数として重み付けされ、改善された最良の推定圧力が得
られる。
llで与えられて第25図に示された重み付は関数に従
って最良の推定温度の関数として重み付けされ、改善さ
れた最良の推定温度が得られる。この改善された最良の
推定温度を式(4)に使用して、信号fa−fc及びf
b −fdから改善された圧力測定値が得られる。これ
により得られる2つのチャンネルからの改善された圧力
測定値は1式(7)及び(8)により与えられて第25
図に示された重み付は関数に従って最良の推定温度の関
数として重み付けされ、改善された最良の推定圧力が得
られる。
最良の推定温度及び最良の推定圧力についての結果が適
当に収斂した場合に#i、最良の推定値が正しい温度及
び圧力測定値と考えられる。さもなくば、改善された最
良の推定圧力を式(6)に用いて。
当に収斂した場合に#i、最良の推定値が正しい温度及
び圧力測定値と考えられる。さもなくば、改善された最
良の推定圧力を式(6)に用いて。
fa% fbafc及びfd□これらは前記したように
処理される−から各々の温度測定値が得られる。
処理される−から各々の温度測定値が得られる。
最良の推定圧力を決定する曲線4】2及び414は次式
で表わされる。
で表わされる。
町
□(7)
町+W2
但し、量w1及び町は各々式ロー90’+3及びIT−
40613で表わされるものであp、■は0℃≦T≦1
60℃である。最良の推定圧力社次式で与えられる。
40613で表わされるものであp、■は0℃≦T≦1
60℃である。最良の推定圧力社次式で与えられる。
最良の推定温度を決定する曲線414及び412は次式
で表わされる。
で表わされる。
1
Yl +Y2
但し、量y1及びY2は各々式ロー40°13 及びI
T−9Ql で表わされるものであC1Tは0℃≦T≦
160℃である。最良の推定温度は次式で与えられる。
T−9Ql で表わされるものであC1Tは0℃≦T≦
160℃である。最良の推定温度は次式で与えられる。
に)
重み付は技術は、自己温度補償の実施例では最適化技術
として説明したが、補償を行なわない実施例(例えば、
第1図〜第6図及び第4図−第5図の実施例)を含むそ
の他の実施例(例えば第19図−第20図及び第21図
の実施例)Kも適用できる。例えば、第1図−第5図及
び第4図−第5図の実施例に適用した時には、第1図−
第6図及び第4図−第5図の実施例で正確に実行される
ところの校正温度に対する狭い公称温度範囲を広げるこ
とができる。例えば、朗1図−餡3図の実施例に重み付
は技術を用いた場合には、平面2a及び2bが# B
7 N方向を有し、一方これら平面28及び2bと同じ
厚みであるが方向が# S 5711方向であるような
2つの史に別の平面が前記したように設けられる。曲線
404及び408では々くて第24図の曲線4028%
402b、及び406a、406bの温度−周波数特性
を表わすように、重み付は関数を適当に変更することが
できる。
として説明したが、補償を行なわない実施例(例えば、
第1図〜第6図及び第4図−第5図の実施例)を含むそ
の他の実施例(例えば第19図−第20図及び第21図
の実施例)Kも適用できる。例えば、第1図−第5図及
び第4図−第5図の実施例に適用した時には、第1図−
第6図及び第4図−第5図の実施例で正確に実行される
ところの校正温度に対する狭い公称温度範囲を広げるこ
とができる。例えば、朗1図−餡3図の実施例に重み付
は技術を用いた場合には、平面2a及び2bが# B
7 N方向を有し、一方これら平面28及び2bと同じ
厚みであるが方向が# S 5711方向であるような
2つの史に別の平面が前記したように設けられる。曲線
404及び408では々くて第24図の曲線4028%
402b、及び406a、406bの温度−周波数特性
を表わすように、重み付は関数を適当に変更することが
できる。
測定値の補正
第26図ないし第61図は、圧力及び温度を別々に測定
する感圧ダイヤフラムの実施例を示している。本発明に
よる測定値補正式の感圧ダイヤフラムは、少なくとも2
つのSAW装置を備えており、その一方は王として圧力
に応答するものでありそしてその他方は主として温度に
応答するものである。SAW装置は、各々の発振器を形
成するように各々の増巾器及び整合回路網に接続される
。
する感圧ダイヤフラムの実施例を示している。本発明に
よる測定値補正式の感圧ダイヤフラムは、少なくとも2
つのSAW装置を備えており、その一方は王として圧力
に応答するものでありそしてその他方は主として温度に
応答するものである。SAW装置は、各々の発振器を形
成するように各々の増巾器及び整合回路網に接続される
。
発振器の出力は、圧力測定値を温度測定値に従って補償
する適当なプロセッサに供給される。プロセッサの出力
は適当な指示器又は記録装置へ送られる〇 第26図及び第27図に示された内部に荷重のか\る実
施例においては1円筒230に4つの平面232 a
〜232 dが切削される。平面232a及び232c
はその方向がSST方向でありそして平面232.b及
び232dはその方向が37方向でおり、前記したよう
に円筒230上に配置される。円筒230にはycs+
asが設けられ、この穴238の軸は円筒230の軸と
一致する。穴の壁と各平面2328〜232dとの間の
厚みがt。
する適当なプロセッサに供給される。プロセッサの出力
は適当な指示器又は記録装置へ送られる〇 第26図及び第27図に示された内部に荷重のか\る実
施例においては1円筒230に4つの平面232 a
〜232 dが切削される。平面232a及び232c
はその方向がSST方向でありそして平面232.b及
び232dはその方向が37方向でおり、前記したよう
に円筒230上に配置される。円筒230にはycs+
asが設けられ、この穴238の軸は円筒230の軸と
一致する。穴の壁と各平面2328〜232dとの間の
厚みがt。
となるように各々の平面が均一な深さr+ K切削され
るのが好ましいが、必ずしもこうでなくてもよい。各々
の平面には4つのインターデジタル型トランスジューサ
が付着される。例えば、平面232Bの好ましい配置が
第28図に詳細に示されている。インターデジタル型の
送信器234a及び受信器235aは1表面音波エネル
ギがd−d線に沿って伝搬するような遅延線を形成する
。
るのが好ましいが、必ずしもこうでなくてもよい。各々
の平面には4つのインターデジタル型トランスジューサ
が付着される。例えば、平面232Bの好ましい配置が
第28図に詳細に示されている。インターデジタル型の
送信器234a及び受信器235aは1表面音波エネル
ギがd−d線に沿って伝搬するような遅延線を形成する
。
インターデジタル型の送信器236a及び受信器237
aは1表面音波エネルギがc −C線に沿って伝搬する
ような第2の遅延線を形成する。第26図及び第27図
のダイヤフラムの種々の構造上のかつこうは、第1図な
いし第5図について述ぺ九寸法にされる・ 第29図及び第30図に示された外部に荷重のか\る実
施例圧おいては、好ましくは水晶の、長さLo の円筒
240が切断線248に沿って2つの区分241及び2
43に切断されている。切断線248の仁義はX−Y平
面に平行に選択されそして適当なボンディング材料が前
記したように選択されるのが好ましいが、必ずし本この
ようにしなくてもよい。一般的に円筒状の内面249の
1部分は、区分241及び243を組立てた時にこれら
がその内面に閉じた同軸円筒ス4−スを形成するように
区分241及び243に形成される。
aは1表面音波エネルギがc −C線に沿って伝搬する
ような第2の遅延線を形成する。第26図及び第27図
のダイヤフラムの種々の構造上のかつこうは、第1図な
いし第5図について述ぺ九寸法にされる・ 第29図及び第30図に示された外部に荷重のか\る実
施例圧おいては、好ましくは水晶の、長さLo の円筒
240が切断線248に沿って2つの区分241及び2
43に切断されている。切断線248の仁義はX−Y平
面に平行に選択されそして適当なボンディング材料が前
記したように選択されるのが好ましいが、必ずし本この
ようにしなくてもよい。一般的に円筒状の内面249の
1部分は、区分241及び243を組立てた時にこれら
がその内面に閉じた同軸円筒ス4−スを形成するように
区分241及び243に形成される。
円筒状の内面249に4つの平面2428〜242dが
切削される。対向した平面242a及び242Cはその
向きがSST方向にされそして対向した平面242b及
び242dはその向きがST力方向され、前記したよう
に円筒240に配置される。各平面は円筒240の円筒
外面と各々の平面2428〜242dとの閣の厚みが1
. となるように均一な深さ「2、に切削される04個
のインターデジタル型トランスジューサが好ましくは第
28図に示されたように各々の平面に付着される。例え
ば、インターデジタル型送信器244a及び受信器24
5aは、表面音波エネルギがd −d線に沿って伝搬す
るような遅延線を形成する。
切削される。対向した平面242a及び242Cはその
向きがSST方向にされそして対向した平面242b及
び242dはその向きがST力方向され、前記したよう
に円筒240に配置される。各平面は円筒240の円筒
外面と各々の平面2428〜242dとの閣の厚みが1
. となるように均一な深さ「2、に切削される04個
のインターデジタル型トランスジューサが好ましくは第
28図に示されたように各々の平面に付着される。例え
ば、インターデジタル型送信器244a及び受信器24
5aは、表面音波エネルギがd −d線に沿って伝搬す
るような遅延線を形成する。
インターデジタル型送信器246a及び受信器247a
は、表面音波エネルギがC−CMに沿って伝搬するよう
な第2の遅延線を形成する。第29図及び第50図のダ
イヤフラムの種々の構造上のかつこうは、第4図及び第
5図について述べたような寸法にされる。
は、表面音波エネルギがC−CMに沿って伝搬するよう
な第2の遅延線を形成する。第29図及び第50図のダ
イヤフラムの種々の構造上のかつこうは、第4図及び第
5図について述べたような寸法にされる。
第28図に示されたSAW遅延線を設計する際の重要な
考え方は、隣接するインターデジタル型トランスジュー
サ間のクロストークを減少することであり、このクロス
トークは、例えば% SAW遅延線が形成された面に対
向する面を金属化してインターデジタル型トランスジュ
ーサを互いに電気的にシールドするか、或いはインター
デジタル型トランスジューサを互いに電気的にアイソレ
ートするに充分な空間分離を与えることによって。
考え方は、隣接するインターデジタル型トランスジュー
サ間のクロストークを減少することであり、このクロス
トークは、例えば% SAW遅延線が形成された面に対
向する面を金属化してインターデジタル型トランスジュ
ーサを互いに電気的にシールドするか、或いはインター
デジタル型トランスジューサを互いに電気的にアイソレ
ートするに充分な空間分離を与えることによって。
許容できるレベルまで下けることができる。交差する伝
搬路は圧力及び温度の各向きが同じ温度にあるように最
適なものKするが1本発明では互いに交差しない各々の
伝搬路の使用も意図される。
搬路は圧力及び温度の各向きが同じ温度にあるように最
適なものKするが1本発明では互いに交差しない各々の
伝搬路の使用も意図される。
このような構成は、同じ平面上に配置された複数のイン
ターデジタル型トランスジューサに良好な電気的分離を
与える。
ターデジタル型トランスジューサに良好な電気的分離を
与える。
第26図りいし第27図並びに第29図ないし第50図
に示された感圧ダイヤフラムは、上記で詳細に述べたよ
うに適当な耐圧ハウジング内に取り付けられ、そして第
31図に示されたような適当な電子回路に接続される。
に示された感圧ダイヤフラムは、上記で詳細に述べたよ
うに適当な耐圧ハウジング内に取り付けられ、そして第
31図に示されたような適当な電子回路に接続される。
例えば第26図ないし第27図又は第28図かいし第3
0図のダイヤフラムを表わしているダイヤフラム270
Ku、例えば平面232 a 〜232 d又は平面2
42a〜242dを表わしている4つの平面2728〜
272dが設けられている。各平面には圧力の方向及び
温度の方向がある。SST及び37回転は適切な伝搬方
向が選択された場合に温度の方向付は及び圧力の方向付
けを行なうことができると分つている。(yxwl )
O’ /−49、2°というSST方向が選択された
場合には、r==Q6は典型的にΔf/fΔ丁= 19
X 1 o−’/℃で示される温度感知方向を与え、一
方、r=21.5°は典型的にlΔずI / fΔP
= 10 / ps’lそしてΔf/fΔTは小さくて
約90℃であるような感圧方向を与える。(yxwl
) 0°/40°という3T方向が選択された場合には
、r=55°は典型的にΔf/fΔT=20X10 /
lで示される温度感知方向を与え、一方、「〜00は典
型的にlΔfl/fΔP=7X10 /pslそしてΔ
f/fΔTは小さくて約40℃であるような感圧方向を
与える。第26図ないし第27図並びに第29図かいし
第30図の実施例に対して適した温度及び圧力方向を以
下の表に示す・ 場 O+ 寸 CP−寸 ト (イ) つ −4棚 1へ 第31図の回路は4つの独立した測定チャンネル274
a−274dを備えており、チャンネル274aが代表
的に詳細に示されている。整合回路網280.281及
び増巾器282より成る温度感知発振器は出力を発生し
、この出力はカウンタ283でデジタル化されそして信
号’atとしてプロセッサ298へ送られる。整合回路
網284.285及び増巾器286より成る感圧発振器
は出力を発生し、この出力はカウンタ287でデジタル
化されそして信号イ としてプロセッサ298p へ与えられる。同様に、チャンネル274b。
0図のダイヤフラムを表わしているダイヤフラム270
Ku、例えば平面232 a 〜232 d又は平面2
42a〜242dを表わしている4つの平面2728〜
272dが設けられている。各平面には圧力の方向及び
温度の方向がある。SST及び37回転は適切な伝搬方
向が選択された場合に温度の方向付は及び圧力の方向付
けを行なうことができると分つている。(yxwl )
O’ /−49、2°というSST方向が選択された
場合には、r==Q6は典型的にΔf/fΔ丁= 19
X 1 o−’/℃で示される温度感知方向を与え、一
方、r=21.5°は典型的にlΔずI / fΔP
= 10 / ps’lそしてΔf/fΔTは小さくて
約90℃であるような感圧方向を与える。(yxwl
) 0°/40°という3T方向が選択された場合には
、r=55°は典型的にΔf/fΔT=20X10 /
lで示される温度感知方向を与え、一方、「〜00は典
型的にlΔfl/fΔP=7X10 /pslそしてΔ
f/fΔTは小さくて約40℃であるような感圧方向を
与える。第26図ないし第27図並びに第29図かいし
第30図の実施例に対して適した温度及び圧力方向を以
下の表に示す・ 場 O+ 寸 CP−寸 ト (イ) つ −4棚 1へ 第31図の回路は4つの独立した測定チャンネル274
a−274dを備えており、チャンネル274aが代表
的に詳細に示されている。整合回路網280.281及
び増巾器282より成る温度感知発振器は出力を発生し
、この出力はカウンタ283でデジタル化されそして信
号’atとしてプロセッサ298へ送られる。整合回路
網284.285及び増巾器286より成る感圧発振器
は出力を発生し、この出力はカウンタ287でデジタル
化されそして信号イ としてプロセッサ298p へ与えられる。同様に、チャンネル274b。
274C及び274dは各々の信号f、。及びfbp。
’at及びfcp、そしてfdt及びf d pをプロ
セッサ298へ与える。
セッサ298へ与える。
プロセッサ298は1曲線適合ルーチンか、又はルック
アップテーブル・補間ルーチンかのいずれかを実行して
、温度補正された圧力を決定する。
アップテーブル・補間ルーチンかのいずれかを実行して
、温度補正された圧力を決定する。
いずれの場合にも、内部の作動段階として、所要の作動
温度レンジにわたって、選択された圧力における信号f
t及びず、の両方が測定される。次いで、これらの値を
用いて、選択された曲線適合方程式の係数が導出される
か、或いは各々の選択された温度におけるルックアップ
テーブルの個々の入力が決定される。
温度レンジにわたって、選択された圧力における信号f
t及びず、の両方が測定される。次いで、これらの値を
用いて、選択された曲線適合方程式の係数が導出される
か、或いは各々の選択された温度におけるルックアップ
テーブルの個々の入力が決定される。
曲線適合技術を実行する際には、各平面の発振器は、周
波数及び温度の関数としての圧力測定値と1周波数及び
圧力の関数としての温度測定値とを各々与えるように校
正される。温度及び圧力測定値に対する典型的な2次元
校正多項式は式(4)及び(6)の形式をとる。平面2
72aに組合わされた2つの発振器は、平方272b、
272c及び272dに組合わされた発振器対を代表し
ている。
波数及び温度の関数としての圧力測定値と1周波数及び
圧力の関数としての温度測定値とを各々与えるように校
正される。温度及び圧力測定値に対する典型的な2次元
校正多項式は式(4)及び(6)の形式をとる。平面2
72aに組合わされた2つの発振器は、平方272b、
272c及び272dに組合わされた発振器対を代表し
ている。
校正中、各々信号’at及びf a pを発生する平面
2728上の2つの発振器の作動周波数は広範囲の選択
された圧力及び湯度にわたって測定され。
2728上の2つの発振器の作動周波数は広範囲の選択
された圧力及び湯度にわたって測定され。
そしてfatを与える発振器に対する多項式T(4゜P
)の係数及びfapを与える発振器に対する多項式P(
f、T)の係数は、A’ラメータ推定技術、例えば、
Mendel 氏の文献に述べられ九最小平方/’Pラ
メータ推定技術を用いて決定される。測定段階中には、
おおよその温度測定値が、式(6)より導き出された次
の近似式を用いてfatから得られる。
)の係数及びfapを与える発振器に対する多項式P(
f、T)の係数は、A’ラメータ推定技術、例えば、
Mendel 氏の文献に述べられ九最小平方/’Pラ
メータ推定技術を用いて決定される。測定段階中には、
おおよその温度測定値が、式(6)より導き出された次
の近似式を用いてfatから得られる。
■(fl = ATf + 8.f2 + CTf!′
+ DT a3このおおよその温度値をスapと共に
式+41 K用いて、最良の推定圧力を決定する。圧力
及び温度に対する結果が適切に収斂するまで、この最良
の推定圧力をtatと共に式(6)に用いそしてこれに
より生じる最良の推定温度をfapと共に式(4)に用
いることによって、この技術が繰り返し適用さtl、る
。
+ DT a3このおおよその温度値をスapと共に
式+41 K用いて、最良の推定圧力を決定する。圧力
及び温度に対する結果が適切に収斂するまで、この最良
の推定圧力をtatと共に式(6)に用いそしてこれに
より生じる最良の推定温度をfapと共に式(4)に用
いることによって、この技術が繰り返し適用さtl、る
。
ルックアップテーブル技術を実行する場合には、校正段
階中に、当該信号が成るレンジの選択された圧力及び温
度にわたって測定され、これによって得た値が圧力fa
t及びfapの3次元テーブルに記憶される。測定段階
中にFi、ルックアップテーブルを調べそしてもし必要
ならば3つの変数に対する適当な補間技術・・・・・・
参考としてここに取り上げる前記のにunz 氏の文献
に説明されたような・・・・・を用いることKよって、
圧力測定値が決定される。
階中に、当該信号が成るレンジの選択された圧力及び温
度にわたって測定され、これによって得た値が圧力fa
t及びfapの3次元テーブルに記憶される。測定段階
中にFi、ルックアップテーブルを調べそしてもし必要
ならば3つの変数に対する適当な補間技術・・・・・・
参考としてここに取り上げる前記のにunz 氏の文献
に説明されたような・・・・・を用いることKよって、
圧力測定値が決定される。
ここでけ単1平面について測定値補正補償技術を説明し
たが、この技術はダイヤフラムの各平面又は他の領域上
にある発振器が各々温度方向及び圧力方向を有する場合
にも適用できる。例えば。
たが、この技術はダイヤフラムの各平面又は他の領域上
にある発振器が各々温度方向及び圧力方向を有する場合
にも適用できる。例えば。
第1図ないし第3図並びに第4図ないし第5図の実施例
に適用した時には、平面2a及び2bが圧力を感知する
ように「=0°でもって″ST″方向をもち、一方、平
面2a及び2bと同じ厚みであるが温度を感知するよう
にr=0°で# S S7 #方向をもつ2つの更に別
の平面が前記したように設けられる。
に適用した時には、平面2a及び2bが圧力を感知する
ように「=0°でもって″ST″方向をもち、一方、平
面2a及び2bと同じ厚みであるが温度を感知するよう
にr=0°で# S S7 #方向をもつ2つの更に別
の平面が前記したように設けられる。
特定の実施例について本発明を以上に説明したが、これ
らの実施例は解説のだめのものに過ぎず、本発明はこれ
らの実施例のみに限定されるものではない。本発明の精
神及び範囲内で種々の変更が外され得ることが当業者に
明らかであろう。例えば、コンプライアンスのある構造
体内に収容されたダイヤプラム上に形成されたSAW装
瞳に対する温度誘起性の周波数シフトは本質的に結晶学
的な方向によって左右されるが、圧力誘起性の周波数シ
フトはダイヤフラム構造体の詳、mな幾何学形状、工“
ンドキャップの設計、荷重のかけ方、及び選択された方
向といった別の要素によって大きく左右される。従って
、これら及びその他の要素の変化も本発明の範囲内に含
まれる本のとする。
らの実施例は解説のだめのものに過ぎず、本発明はこれ
らの実施例のみに限定されるものではない。本発明の精
神及び範囲内で種々の変更が外され得ることが当業者に
明らかであろう。例えば、コンプライアンスのある構造
体内に収容されたダイヤプラム上に形成されたSAW装
瞳に対する温度誘起性の周波数シフトは本質的に結晶学
的な方向によって左右されるが、圧力誘起性の周波数シ
フトはダイヤフラム構造体の詳、mな幾何学形状、工“
ンドキャップの設計、荷重のかけ方、及び選択された方
向といった別の要素によって大きく左右される。従って
、これら及びその他の要素の変化も本発明の範囲内に含
まれる本のとする。
第1図は内部に荷重がか\る感圧ダイヤフラムの斜視図
。 第2図及び第5図は各々第1図の感圧ダイヤスラムの軸
に沿ってみた断面図及び第1図の感圧ダイヤスラムの軸
に垂直な平面でみた断面図。 第4図及び第5図は外部に荷重のか\る感圧ダイヤフラ
ムの断面図であって、各々、ダイヤフラムの軸に沿って
みた断面図及びダイヤスラムの軸に垂直な平面でみた断
面図。 第6図は第1図ないし第3図そして第4図ないし第5図
に示された感圧ダイヤフラムから圧力測定値を得るのに
適した電気回路の回路図。 第7図は内部に荷重のか\る自己温度補償式の感圧ダイ
ヤフラムの斜視図、 焼8図及び第9図は各々第7図の感圧ダイヤフラムの軸
に沿ってみた断面図及び姐7図の感圧ダイヤプラムの軸
に垂直々平面でみた断面図。 第10図及び第11図はハウジング及びこれに設置され
た第7図の感圧ダイヤスラムの断面図であって、各々該
ダイヤフラムの軸に沿った断面図及び該i゛イヤフラム
軸に垂直な平面でみた断面図。 第12図及び第16図は外部に荷重のか\る自己温度補
償式の感圧ダイヤフラムの断面図であって、各々該ダイ
ヤプラムの軸に沿った断面図及び該ダイヤフラムの軸に
垂直な平面でみた断面図、第14図及び第15図はハウ
ジング及びと九に設置された第12図及び第16図の感
圧ダイヤフラムの断面図であって、各々該ダイヤフラム
の軸に沿った断面図及び該ダイヤフラムの軸に垂直な平
面でみた断面図、 第16図は第7図ないし1A11図そして第12図ない
し車15図に示された感圧ダイヤフラムからの圧力測定
値を得るのに適した電気回路の回路図。 第17図は水晶原石の斜視図であり、所与の方向の水晶
円柱をくり抜くところを示した図。 熾18図は第17図の水晶円柱における選択された結晶
学的方向の平面の位置を示す概略図、第19図及び第2
0図は外部に荷重のか\る自己温度補償式感圧ダイヤフ
ラムの別の実施例の断面図であって、各々、ダイヤスラ
ムの軸に沿った断面図及びダイヤフラムの軸に垂直な平
面でみた断面図。 第21図、第22図及び第25図は内部に荷重のか\る
自己温度補償式感圧ダイヤフラムの更に別の種々の実施
例を示す断面図であって、ダイヤフラムの軸に垂直な平
面に沿ってみた断面図。 第24図は重み付は式の温度補償を説明するために温度
補償されない構成体と自己温度補償された構成体とにお
いて5T−X及びSST方向に対する温度の関数として
ムf/f△■を示したグラフ、第25図は重み付は式の
温度補償に用いる1つの重み付は関数を示すグラフ、 第26図及び@27図は内部に荷重のか\る測定補正型
温度補償の感圧ダイヤフラムを示す断面図であって、各
々Beイヤフラムの軸に沿った断面図及び該lイヤフラ
ムの軸に垂直な平面においてみた断面図、 第28図は第26図ないし第27図そして第29図ない
し第30図の実施例に設けられた平面を代表する平面の
拡大図。 第29図及び第60図は外部に荷重のか\る測定補正型
温度補償の感圧ダイヤフラムの断面図であって、各々l
゛イヤフラム軸に沿った断面図及びj°イヤフラムの軸
に垂直な平面でみた断面図。 填51図は第26図ないし第27図そして第29図ない
し第50図に示された感圧ダイヤフラムから圧力測定値
を得るのに適した電気回路の回路図。 第52図は外部に負荷のか\る球状の感圧ダイヤフラム
の斜視図、そして 第63図は第62図の感圧l゛イヤフラム直径、 方向
に沿ってみた断面図である。 1・・・円筒部材、2a、2b・・・平面、4・・・穴
、fia、6b 、8a 、f3b−−−トラ7スジユ
ーサ。 10・・・円筒部材% 11.12・・・区分、12a
。 12b・・・平面% 14・・・円筒スペース、15・
・・切断線516a*16b・・・送信器、18a、1
8b−・・受信器、200・・・ダイヤフラム* 20
2a+202 b ・S A W装置、203a 、2
03b−発振器、208 a 、 208 b−・−カ
ウンタ、204 a *204 b ・−広帯域増巾器
、206a、206b。 213a 、213b・・・整合回路網、207・・・
プロセッサ、209・・・記録器。 図面の浄書(内容に変更なし) FIG、 2 特開昭GO−138431(gの FIG、 25 F21ト FIG、 26 FIG、 27 手続補正書(方式) 昭和 年 月 日 特許庄長官 若 杉 和 夫 殿 3、補正をする者 事件との関係 出願人 4、代理人 6、補正の対象 全図面 −暗、−一
。 第2図及び第5図は各々第1図の感圧ダイヤスラムの軸
に沿ってみた断面図及び第1図の感圧ダイヤスラムの軸
に垂直な平面でみた断面図。 第4図及び第5図は外部に荷重のか\る感圧ダイヤフラ
ムの断面図であって、各々、ダイヤフラムの軸に沿って
みた断面図及びダイヤスラムの軸に垂直な平面でみた断
面図。 第6図は第1図ないし第3図そして第4図ないし第5図
に示された感圧ダイヤフラムから圧力測定値を得るのに
適した電気回路の回路図。 第7図は内部に荷重のか\る自己温度補償式の感圧ダイ
ヤフラムの斜視図、 焼8図及び第9図は各々第7図の感圧ダイヤフラムの軸
に沿ってみた断面図及び姐7図の感圧ダイヤプラムの軸
に垂直々平面でみた断面図。 第10図及び第11図はハウジング及びこれに設置され
た第7図の感圧ダイヤスラムの断面図であって、各々該
ダイヤフラムの軸に沿った断面図及び該i゛イヤフラム
軸に垂直な平面でみた断面図。 第12図及び第16図は外部に荷重のか\る自己温度補
償式の感圧ダイヤフラムの断面図であって、各々該ダイ
ヤプラムの軸に沿った断面図及び該ダイヤフラムの軸に
垂直な平面でみた断面図、第14図及び第15図はハウ
ジング及びと九に設置された第12図及び第16図の感
圧ダイヤフラムの断面図であって、各々該ダイヤフラム
の軸に沿った断面図及び該ダイヤフラムの軸に垂直な平
面でみた断面図、 第16図は第7図ないし1A11図そして第12図ない
し車15図に示された感圧ダイヤフラムからの圧力測定
値を得るのに適した電気回路の回路図。 第17図は水晶原石の斜視図であり、所与の方向の水晶
円柱をくり抜くところを示した図。 熾18図は第17図の水晶円柱における選択された結晶
学的方向の平面の位置を示す概略図、第19図及び第2
0図は外部に荷重のか\る自己温度補償式感圧ダイヤフ
ラムの別の実施例の断面図であって、各々、ダイヤスラ
ムの軸に沿った断面図及びダイヤフラムの軸に垂直な平
面でみた断面図。 第21図、第22図及び第25図は内部に荷重のか\る
自己温度補償式感圧ダイヤフラムの更に別の種々の実施
例を示す断面図であって、ダイヤフラムの軸に垂直な平
面に沿ってみた断面図。 第24図は重み付は式の温度補償を説明するために温度
補償されない構成体と自己温度補償された構成体とにお
いて5T−X及びSST方向に対する温度の関数として
ムf/f△■を示したグラフ、第25図は重み付は式の
温度補償に用いる1つの重み付は関数を示すグラフ、 第26図及び@27図は内部に荷重のか\る測定補正型
温度補償の感圧ダイヤフラムを示す断面図であって、各
々Beイヤフラムの軸に沿った断面図及び該lイヤフラ
ムの軸に垂直な平面においてみた断面図、 第28図は第26図ないし第27図そして第29図ない
し第30図の実施例に設けられた平面を代表する平面の
拡大図。 第29図及び第60図は外部に荷重のか\る測定補正型
温度補償の感圧ダイヤフラムの断面図であって、各々l
゛イヤフラム軸に沿った断面図及びj°イヤフラムの軸
に垂直な平面でみた断面図。 填51図は第26図ないし第27図そして第29図ない
し第50図に示された感圧ダイヤフラムから圧力測定値
を得るのに適した電気回路の回路図。 第52図は外部に負荷のか\る球状の感圧ダイヤフラム
の斜視図、そして 第63図は第62図の感圧l゛イヤフラム直径、 方向
に沿ってみた断面図である。 1・・・円筒部材、2a、2b・・・平面、4・・・穴
、fia、6b 、8a 、f3b−−−トラ7スジユ
ーサ。 10・・・円筒部材% 11.12・・・区分、12a
。 12b・・・平面% 14・・・円筒スペース、15・
・・切断線516a*16b・・・送信器、18a、1
8b−・・受信器、200・・・ダイヤフラム* 20
2a+202 b ・S A W装置、203a 、2
03b−発振器、208 a 、 208 b−・−カ
ウンタ、204 a *204 b ・−広帯域増巾器
、206a、206b。 213a 、213b・・・整合回路網、207・・・
プロセッサ、209・・・記録器。 図面の浄書(内容に変更なし) FIG、 2 特開昭GO−138431(gの FIG、 25 F21ト FIG、 26 FIG、 27 手続補正書(方式) 昭和 年 月 日 特許庄長官 若 杉 和 夫 殿 3、補正をする者 事件との関係 出願人 4、代理人 6、補正の対象 全図面 −暗、−一
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)結晶質のダイヤフラム区分を備えた表面音波信号
周波数装置において。 円筒状又は球状の外面及び円筒状又は球状の内面を備え
、上記外面及び内面の一方は与えられた圧力を受けるよ
うにされ、そして上記外面及び内面の他方は、成る選択
された方向を有していて表面音波装置の形成に用いられ
る第1領域と、この第1領域の向きと実質的に同じ方向
を有していて表面音波装置の形成に用いられる第2領域
とを含んでおり、 与えられた圧力を受けるようにされる上記面と上記第1
領域との間にある上記lイヤフラム区分の第1部分は第
1の所定厚みを有し、そして 与えられた圧力を受けるようにされる上記面と上記第2
領域との間にある上記ダイヤプラム区分の第2部分は上
記第1の所定厚みとは異なる第2の所定厚みを有するこ
とを特徴とする装置。 (2) 上記ダイヤフラム区分は連続的な結晶格子構造
体を有している特許請求の範囲第(1)項に記載の装置
。 (3) 上記第1及び第2領域の方向はST力方向びS
ST方向より成る群から選択される特許請求の範囲第(
1]項又は第(2)項に記載の装置Xつ(4)上記他方
の面は、更に、上記第1及び第2領域の方向とは興なる
成る選択された方向に向けられていて表面音波装置の形
成に用いられる第3領域と、この第6領域の向きと実質
的に同じ方向にされていて表面音波装置の形成に用いら
れる第4領域とを備えており、与えられた圧力を受ける
ようにされる上記面と上記第3領域とノ間1tCtbる
上記ダイヤフラム区分の第5部分は第3の所定厚みを有
し、そして与えられた圧力を受けるようにされる上記面
と上記第4領域との間にある上記ダイヤスラム区分の第
4部分は上記第3の所定厚みとは異なる第4の所定厚み
を有している特許請求の範囲第(11項、第(2)項又
は第(3)項に記載の装置。 (5) 上記第1及び第5の厚みは等しくそして上記第
2及び第4の厚みは等しい特許請求の範囲第(4)項に
記載の装置。 (6) 上記第1及び第2の厚みは互いに外なりそして
上記第3及び第4の厚みは互いに異なる特許請求の範囲
第(4)項に記載の装置。 (7)上記内面及び外面の基準幾何学素子は互いに一致
する特許請求の範囲第(1)項、第(2)項、第(4)
項又は第(5)項に記載の装置。 (8) 上記内面及び外面の基準幾何学素子は互いにず
らされている特許請求の範囲第(1)項、第(2)項。 第(4)項又は第(6)項に記載の装置。 (9)上記第1及び第2領域の方向はST力方向あり、
そして上記第5及び第4領域の方向はSST方向である
特許請求の範囲第(4)項に記載の装置。 OQ 上記第1領域の上記方向は成る選択された結晶格
子構成を与えるものであり、上記第2領域の上記方向は
上記第1領域と実質的に同じ結晶格子構成を有する特許
請求の範囲の前記各項いずれかに記載の装置〇 +Ill 上記第1領域の上記方向は成る選択された輪
郭を形成するものであると共に、長手方向軸に直角な基
準軸から成る選択された変位を与えるものであり、上記
第2領域の上記方向は上記第1領域の輪郭を形成するも
のであると共に上記第1の変位から180°の変位を形
成するものである特許請求の範囲第(1)項ないし第(
9)項のいずれかに記載の装置。 (2)上記第1及び第2領域の輪郭は平坦であり。 そして上記第1の変位は40’及び−49,2゜の付近
の変位より成る群から選択される特許請求の範囲第α9
項に記載の装置。 111 上記第1領域及びこれに形成された表面音波装
置を含む第1の信号周波数手段を更Klえ、この第1の
信号周波数手段は選択された温度−周波数特性及び圧力
−周波数特性を有しており。 更に、上記第2領域及びこれに形成された表面音波装置
を含む第2の信号周波数手段を備え。 この舘2の信号周波数手段の温度−周波数特性は上記第
1の信号周波数手段の温度−周波数特性と実質的に同じ
であるが、その圧力−周波数特性は上記第1の信号周波
数手段の圧力−周波数特性とは具なるものが選択される
特許請求の範囲の前記各項いずれかに記載の装置。 Q4 上記第1及び第2の信号周波数手段は、上記表面
音波装置の各々圧結合された発振回路と、 上記発振回路の出力に接続されたミクサと、上記ミクサ
の出力に接続された周波数カウンタと、 上記周波数カウンタの出力に接続されていて温度補償さ
れた圧力測定値を決定するプロセッサとを備えている特
許請求の範囲第03項に記載の装置。 σ9 上記第1領域は第1の切換温度を有しそして上記
第2領域はこの第1の切換温度とは異なる第2の切換温
度を有する特許請求の範囲第0項又は第Q4項に記載の
装置。 0e 上記第1領域の方向は公称sT方向付近の方向よ
り成る群から選択され、上記第1領域にかける伝搬方向
は約00であり、そして上記第2領域の方向は公称SS
T方向の伺近の方向より成る群から選択され、上記第2
領域における伝搬方向は約21.5°である%訂請求の
範囲第05項に記載の装置・ 顛 上記他方の面は、更に1表面音波装置の形成に用い
られる第3領域を備え、この繊3領域は。 成る選択された伝搬方向に対し、圧力作用に対する高い
感度と、温度作用に対する低い感度と、第5の切換温度
とをもつよう力選択された方向に向けられており、そし
て上記他方の面は、更に%表面音波装置の形成に用いら
れる第4領域を備え、この第4領域は、成る選択された
伝搬方向に対し、圧力作用に対する高い感度と、温度作
用に対する低い感度と、上記第3の切換温度とは異なる
第4の切換温度とをもつような選択された方向に向けら
れる特許請求の範囲第+151項又は第aω項に記載の
装置。 01 上記第1及び第3領域の方向は公称ST丈方向付
近の方向より成る群から選択され、上記第1及び第3領
域における伝搬方向は約o6であり、そして上記第2及
び舘4領域の方向は公称SST方向の付近の方向より成
る群から選択され、上記第2及び第4領域における伝搬
方向は約21.5°である%#’f請求の範囲第an項
に記載の装置。 ■ 上記第1及び第5の方向は実例的に同一であり、そ
して上記第2及び第4の方向は実質的に同一である特許
請求の範囲第α必項に記載の装置。 翰 上記第1及び第2領域は平らな輪郭を有し、上記第
1領域は長手方向軸に直角な基準軸から約40°ずらさ
れており、そして上記第2領域は長手方向軸に直角な基
準軸から約−49,2゜だけずらされている特許請求の
範囲第(151項又は第an項に記載の装置。 Cl11 上記第1及び第2領域は平らな輪郭を有し、
上記第1領域は長手方向軸に直角な基準軸から約40°
ずらされており、そして上記第2領域は長手方向軸に直
角な基準軸から約−14o。 ずらされている特許請求の範囲1 G51項又は第19
項に記載の装置。 (23上記第1及び第2領域は平らな輪郭を有し。 上記第1領域は長手方向軸−に山角な基準軸から約1!
10.8’ずらされており、そして上記第2領域は長手
方向軸に直角な基準軸から約−49,2°ずらされてい
る特許請求の範囲第a9項又は第19項に記載の装置。 ■ 上記第1、@2%第3及び第4の領域は平らな輪郭
を有し、上記第1及び第6領域t′i長手方向軸に直角
な基準軸から各々約40’及び約220°ずらされてお
り、そして上記第2及び第4領域は長手方向軸に直角な
基準軸から各々約−49,2°及び−229,2°ずら
されている特許請求の範囲第0項に記載の装置。 C141上記プロセッサは、重み付は型の温度補償され
た圧力測定値を決定するように上記周波数カウンタの出
力に接続される特許請求の範囲第0◆項ないし第0項の
いずれかに記載の装置。 (ハ)上記第1V4域は選択された結晶格子構成体を有
しているが、これは、第1の選択された伝搬方向に対し
ては、圧力作用に対する高い感度と温度作用に対する低
い感度とをもち、そして第2の選択された伝搬方向に対
しては、圧力作用に対する低い感度と温度作用に対する
高い感度とをもっている特許請求の範囲第fi1項又は
第(2)項に記載の装置。 四 上記領域の結晶格子構成体、上記第1の伝搬方向、
及び上記第2の伝搬方向は、SST方向0°、21.5
°、そして5丁方向55° Q Oの付吐の値より成る
群からツガ択される特許請求の範囲第(ハ)項に記載の
装置。 an 上記第1の伝搬方向と第2の伝(般方向は交差す
る・特許請求の範囲第a項又は第四項に記載の装置。 (至) 上記第2の領域は成る選択された結晶格子構成
体を有し、これは、第3の選択された伝搬方向に対して
は、圧力作用に対する商い感度と、温度作用に対する低
い感度とをもち、そして第4の選択された伝搬方向に対
しては、圧力作用に対する低い感度と、温度作用に対す
る高い感度とをもっている特許請求の範囲第□□□項、
第(ハ)項又は第C1’/1項に記載の装置。 Ql 上記最初に述べた領域の結晶格子構成体、上記第
1の伝搬方向、及び上記第2の仮置方向は、SST方向
0’、2i、5°そしテS T ij 向65°、0°
の付近の値より成る群から選択され、そして上記第2番
目に述べた領域の結晶格子構成体、上記第3の伝搬方向
、及び上記第4の伝搬方向は、SST方向o0.21.
5°そしてST方向55° Q OO付近の値よシ成る
群から選択される!4!j許請求の範囲第(讃頓に記載
の装置。 1)上fiem1の伝搬方向と第20伝搬方向は交差し
、上して上記第3の伝搬方向と第40伝搬方向は交差す
る特r1″請求の範囲第cg項又は第E項に記載の装置
。 60 円筒状又は球状の外面と、円筒状又は球状の内面
とを有する結晶質ダイヤフラム区分をpmえ、上記外面
は与えられた等方性の力を受けるようにされ、そして上
記内面は成る週択された結晶格子構成体の領域を有して
いて、この領域は表面杼波装置の形成に用いられること
を特徴とする渋面音波信号周波数装置。 0z 上記ダイヤフラム区分は連続的な結晶格子構造体
を有している特許請求の範囲第60項に記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18009883A JPS60138431A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 表面音波センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18009883A JPS60138431A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 表面音波センサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60138431A true JPS60138431A (ja) | 1985-07-23 |
Family
ID=16077391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18009883A Pending JPS60138431A (ja) | 1983-09-28 | 1983-09-28 | 表面音波センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60138431A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62157543A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-13 | シユラムバ−ガ− オ−バ−シ−ズ ソシエダ アノニマ | 圧力センサ |
| WO2012026273A1 (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-01 | 日本電気株式会社 | 振動センサ |
| WO2014112350A1 (ja) * | 2013-01-17 | 2014-07-24 | パナソニック株式会社 | 圧力センサ |
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| JPS5791430A (en) * | 1980-10-06 | 1982-06-07 | Siemens Ag | Apparatus for measuring pressure process in cylindrical hollow body |
-
1983
- 1983-09-28 JP JP18009883A patent/JPS60138431A/ja active Pending
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| CN103080707A (zh) * | 2010-08-24 | 2013-05-01 | 日本电气株式会社 | 振动传感器 |
| JPWO2012026273A1 (ja) * | 2010-08-24 | 2013-10-28 | 日本電気株式会社 | 振動センサ |
| WO2014112350A1 (ja) * | 2013-01-17 | 2014-07-24 | パナソニック株式会社 | 圧力センサ |
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