JPS60149675A - レジストインキ洗浄溶剤組成物 - Google Patents
レジストインキ洗浄溶剤組成物Info
- Publication number
- JPS60149675A JPS60149675A JP354384A JP354384A JPS60149675A JP S60149675 A JPS60149675 A JP S60149675A JP 354384 A JP354384 A JP 354384A JP 354384 A JP354384 A JP 354384A JP S60149675 A JPS60149675 A JP S60149675A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solvent
- resist ink
- washing
- cleaning
- compsn
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、プリント配線板製造時に用いられるレジスト
インキを洗浄するだめの溶剤組成物に関する。
インキを洗浄するだめの溶剤組成物に関する。
紙基材フェノール樹脂等の絶縁板上に銅箔を接着し、銅
箔の表面にレジストインキで回路を印刷後、エツチング
により不要の銅箔部を溶解除去することによシ、プリン
ト配線板上に所望の回路が形成される。回路の印刷方法
は、量産方式に適していることからスクリーン印刷方法
が多く採用されている。スクリーン上に付着したレジス
トインキや試し刷りに用いた銅箔上のレジストインキは
溶解除去しなければならないが、かかる場合に用いる洗
浄溶剤はかなり溶解力の高いものを心機としている。
箔の表面にレジストインキで回路を印刷後、エツチング
により不要の銅箔部を溶解除去することによシ、プリン
ト配線板上に所望の回路が形成される。回路の印刷方法
は、量産方式に適していることからスクリーン印刷方法
が多く採用されている。スクリーン上に付着したレジス
トインキや試し刷りに用いた銅箔上のレジストインキは
溶解除去しなければならないが、かかる場合に用いる洗
浄溶剤はかなり溶解力の高いものを心機としている。
しかしながら、溶解力の高い洗浄溶剤は毒性が強かった
り、スクリーンのパターンを形成している各種の乳剤を
溶解してしまう傾向にあるため、レジストインキ洗浄溶
剤としては、レジストインキに対する溶解力が高いとと
もに、毒性が少なく乳剤に悪影響を与えないものが留ま
れている。
り、スクリーンのパターンを形成している各種の乳剤を
溶解してしまう傾向にあるため、レジストインキ洗浄溶
剤としては、レジストインキに対する溶解力が高いとと
もに、毒性が少なく乳剤に悪影響を与えないものが留ま
れている。
本発明者等は、各種のレジストインキに対するポ解力に
優れ、毒性が少なく乳剤に悪影響を与えないレージスト
インキ用洗浄溶剤について、鋭意探索した結果、以下の
混合溶剤が有効であることがわかった。すなわち本発明
は、下記ａ）及びｂ）を含有することを特徴とするレジ
ストインキ洗浄溶剤組成物に関するものである。
優れ、毒性が少なく乳剤に悪影響を与えないレージスト
インキ用洗浄溶剤について、鋭意探索した結果、以下の
混合溶剤が有効であることがわかった。すなわち本発明
は、下記ａ）及びｂ）を含有することを特徴とするレジ
ストインキ洗浄溶剤組成物に関するものである。
ａ）塩化メチレン及び１．１．２−）ジクロロ−１，２
，２−）リフルオロエタンの組合せ、及び／又は１．１
．１− ）ジクロロエタンｂ 、）酢酸エチル、メチル
セロンルプ、ｎ−プロパツール又はメタノールから選ば
れる１柚又は２種以上。
，２−）リフルオロエタンの組合せ、及び／又は１．１
．１− ）ジクロロエタンｂ 、）酢酸エチル、メチル
セロンルプ、ｎ−プロパツール又はメタノールから選ば
れる１柚又は２種以上。
本発明の溶剤組成物の組成割合は、前記ａ）を９０〜９
６ｗｔ％、ｂ）を１〜１０ｗｔ％含有することが好まし
い。又、塩化メチレンと１．１．２− ） ！ｊ クロ
ロ−１，２，２−）リフルオロエタン（以下Ｒ−１４３
という）の組成割合は、塩化メチレン１００重量部に対
してＲ−１１３を１１０〜１５ｏｉｉ部とすることが好
ましい。
６ｗｔ％、ｂ）を１〜１０ｗｔ％含有することが好まし
い。又、塩化メチレンと１．１．２− ） ！ｊ クロ
ロ−１，２，２−）リフルオロエタン（以下Ｒ−１４３
という）の組成割合は、塩化メチレン１００重量部に対
してＲ−１１３を１１０〜１５ｏｉｉ部とすることが好
ましい。
溶剤組成物中の各溶剤の割合は、蒸留回収により繰り返
し使用する際、溶剤組成が大幅に変化しないような、共
沸組成あるいは凝似共沸組成を採用することが好ましい
。例えば、１．１．１−トリクロロ上タフ９４ｗｔ％／
酢酸エチル３ ｙｔ％／メチルセロソルブ３ｗｔ％から
なる溶剤、組成物（以下洗浄溶剤Ａという）、又は１．
１．１− ） ＩＪジクロロタン９４ ｗｔ％／酢酸エ
チル３ｗｔ％／ｎ−グロパノール３ｗｔ％からなる浴剤
組成物（以下洗浄溶剤Ｂという）、あるいは塩化メチレ
ン４Ｑｗｔ％／１，１．２−）ジクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタン５５ ｗｔ％／酢酸エテル４ｗｔ％
／メタノールｌ ｗｔ％からなる溶剤組成物（以下洗浄
溶剤Ｃという）等が、凝似共沸組成を形成する。
し使用する際、溶剤組成が大幅に変化しないような、共
沸組成あるいは凝似共沸組成を採用することが好ましい
。例えば、１．１．１−トリクロロ上タフ９４ｗｔ％／
酢酸エチル３ ｙｔ％／メチルセロソルブ３ｗｔ％から
なる溶剤、組成物（以下洗浄溶剤Ａという）、又は１．
１．１− ） ＩＪジクロロタン９４ ｗｔ％／酢酸エ
チル３ｗｔ％／ｎ−グロパノール３ｗｔ％からなる浴剤
組成物（以下洗浄溶剤Ｂという）、あるいは塩化メチレ
ン４Ｑｗｔ％／１，１．２−）ジクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタン５５ ｗｔ％／酢酸エテル４ｗｔ％
／メタノールｌ ｗｔ％からなる溶剤組成物（以下洗浄
溶剤Ｃという）等が、凝似共沸組成を形成する。
本発明の溶剤組成物には、本発明の目的及び効果を阻害
しない限り、その他の溶剤又は塩化メチレン、Ｒ−１１
３，１，１，１−）ジクロロエタンに用いる公知ないし
周知の洗浄溶剤用各種安定剤を含んでいてもよい。
しない限り、その他の溶剤又は塩化メチレン、Ｒ−１１
３，１，１，１−）ジクロロエタンに用いる公知ないし
周知の洗浄溶剤用各種安定剤を含んでいてもよい。
レジストインキの洗浄方法には、シャワー洗浄、浸漬洗
浄又は手ふき洗浄等があるが、特に手ふき洗浄の場合に
は作業者が溶剤を吸引する機会が多く、毒性のより低い
混合溶剤を選択すべきである。本発明の混合溶剤におい
ては、１、１．２−トリクロロ−１，２，２−）リフル
オロエタンを主体とすることにより、特に毒性が低いも
のが得られるが、勿論１□１．１− ）ジクロロエタン
や塩化メチレンを主体としても、局所排気装置を設ける
等の通常の使用条件においては伺ら問題はない。又、本
発明の洗浄溶剤は、前述の混合割合においては、引火点
は存在せず、火災の心配も少ない。本発明の洗浄溶剤は
、各種のレジストインキに対する洗浄力に優れていると
ともに、スクリーンのパターンを形成している各種乳剤
やプリント配線板材質に対して悪影響がない。前述の洗
浄浴剤Ａは、通常のレジストインキに対して幅広く使用
できる特徴を有し、洗浄溶剤Ｂは特に溶解しにくいレジ
ストインキに対し、又洗浄溶剤Ｃはマーキングインキに
対して有効である。
浄又は手ふき洗浄等があるが、特に手ふき洗浄の場合に
は作業者が溶剤を吸引する機会が多く、毒性のより低い
混合溶剤を選択すべきである。本発明の混合溶剤におい
ては、１、１．２−トリクロロ−１，２，２−）リフル
オロエタンを主体とすることにより、特に毒性が低いも
のが得られるが、勿論１□１．１− ）ジクロロエタン
や塩化メチレンを主体としても、局所排気装置を設ける
等の通常の使用条件においては伺ら問題はない。又、本
発明の洗浄溶剤は、前述の混合割合においては、引火点
は存在せず、火災の心配も少ない。本発明の洗浄溶剤は
、各種のレジストインキに対する洗浄力に優れていると
ともに、スクリーンのパターンを形成している各種乳剤
やプリント配線板材質に対して悪影響がない。前述の洗
浄浴剤Ａは、通常のレジストインキに対して幅広く使用
できる特徴を有し、洗浄溶剤Ｂは特に溶解しにくいレジ
ストインキに対し、又洗浄溶剤Ｃはマーキングインキに
対して有効である。
以下に本発明の実施例についてさらに具体的に説明する
。
。
実施例
評価した。又、許容濃度及び引火点についても測定した
。
。
「洗浄力の評価」
銅板（２５ｗ Ｘ ４０ ｔｅｎ ）にレジストインキ
約１ｇを均一に塗布し、３０℃×１時間乾燥した。
約１ｇを均一に塗布し、３０℃×１時間乾燥した。
この試験片を１００罰硝子瓶に入れた洗浄溶剤２０ｒＬ
ｅ中に浸漬し、３０秒振とり後インキの除去状態を観察
した。結果を第１表に示す。
ｅ中に浸漬し、３０秒振とり後インキの除去状態を観察
した。結果を第１表に示す。
「スクリーン版に対する影響」
スクリーン版の表側（乳剤面）に５に×５甑のティッシ
ュを置き、洗浄液を１０分間滴下し、乳剤表面状態を実
体顕微鏡で観察した。結果を第２表に示す。
ュを置き、洗浄液を１０分間滴下し、乳剤表面状態を実
体顕微鏡で観察した。結果を第２表に示す。
第 ２ 表
スクリーン版の表面状態
◎全く変化なし ○若干色があせる
△パターンが少しくわれる
× パターンがかなりくわれる
１基板材質に対する影響」
各基板（２０ｃｙ＊、ｘ ２０ｃｎＬ）を洗浄溶剤中に
室温で２４時間没潰し、取り出し直後に基板の重量変化
率及び寸法変化率を測定した。結果を第３表に示す。
室温で２４時間没潰し、取り出し直後に基板の重量変化
率及び寸法変化率を測定した。結果を第３表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 下記ａ）及びｂ）を含有することを特徴とするレ
ジストインキ洗浄溶剤組成物。 ａ）塩化メチレ／及び１．１．２− ）リフ鴛ロー１、
２．２．− ）リフルオロエタンの組合せ及び／又ｉ
１゜１．１−） ＩＪ クロロエタン。 ））酢酸エチル、メチルセロソルブ、ｎ−グロパノール
、又はメタノールから選ばれる１種又は２種以上。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP354384A JPS60149675A (ja) | 1984-01-13 | 1984-01-13 | レジストインキ洗浄溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP354384A JPS60149675A (ja) | 1984-01-13 | 1984-01-13 | レジストインキ洗浄溶剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60149675A true JPS60149675A (ja) | 1985-08-07 |
| JPH0248029B2 JPH0248029B2 (ja) | 1990-10-23 |
Family
ID=11560327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP354384A Granted JPS60149675A (ja) | 1984-01-13 | 1984-01-13 | レジストインキ洗浄溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60149675A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59232154A (ja) * | 1983-06-15 | 1984-12-26 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | レジストインク洗浄用組成物 |
-
1984
- 1984-01-13 JP JP354384A patent/JPS60149675A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59232154A (ja) * | 1983-06-15 | 1984-12-26 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | レジストインク洗浄用組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0248029B2 (ja) | 1990-10-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2817758B2 (ja) | ホトレジストのパターン化方法 | |
| US5308527A (en) | Aprotic polar solvent/ether paint stripping compositions | |
| EP0219789A2 (de) | Lösemittel zum Entfernen von Photoresists | |
| US5304252A (en) | Method of removing a permanent photoimagable film from a printed circuit board | |
| JPH0340518B2 (ja) | ||
| JPS5911355B2 (ja) | ポリイミドをベ−スとした重合体のフイルムの腐食法 | |
| TW461915B (en) | Permanganate desmear process for printed wiring boards | |
| JPH04213397A (ja) | 新規の共沸型溶剤混合物およびこれを使用した電子部品の洗浄方法 | |
| US4087370A (en) | Photoresist stripper systems | |
| CN109810559A (zh) | 高分散性的哑光阻焊油墨 | |
| JPS60149675A (ja) | レジストインキ洗浄溶剤組成物 | |
| JPS59157639A (ja) | フオトレジスト剥離液組成物およびその使用法 | |
| US4483917A (en) | Photoresist stripper composition and method of use | |
| JPS5896632A (ja) | ポリイミド系樹脂のエツチング方法 | |
| KR20190120996A (ko) | 드라이필름 레지스트 박리액 조성물 | |
| JPH11513415A (ja) | コーティング組成物 | |
| US4453984A (en) | Method for removing electrically conductive paste from a screening mask | |
| JPS603113B2 (ja) | 印刷・コ−テイングインキ用エポキシ樹脂ワニス | |
| JPH04239070A (ja) | プリント配線板用熱硬化性インキ組成物 | |
| JPH03235395A (ja) | 銅スルーホールプリント配線板の製造方法 | |
| JP2000282246A (ja) | プリエッチング剤 | |
| JPH0693293A (ja) | インキ洗浄用組成物 | |
| JPS6120946A (ja) | フォトレジスト剥離用組成物 | |
| JP3328858B2 (ja) | プリント配線板の製造法および現像液 | |
| JPH0531916B2 (ja) |