JPS60152915U - 光導波形変位センサ - Google Patents

光導波形変位センサ

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Publication number
JPS60152915U
JPS60152915U JP4043584U JP4043584U JPS60152915U JP S60152915 U JPS60152915 U JP S60152915U JP 4043584 U JP4043584 U JP 4043584U JP 4043584 U JP4043584 U JP 4043584U JP S60152915 U JPS60152915 U JP S60152915U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
displacement sensor
measurement target
reflective film
optical waveform
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP4043584U
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English (en)
Inventor
司郎 緒方
高木　潤一
直久 井上
俣野　正治
山下　牧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Omron Corp
Original Assignee
Omron Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Omron Corp filed Critical Omron Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の光導波形変位センサの斜視図、第２図は
第１図の変位センサを用いて測定したグラフ図、第３図
は本考案の一実施例の先導波形変位センサの斜視図、第
４図は本考案の変位センサを用いて測定したグラフ図で
ある。 １・・・基板、２乃至５・・・および７乃至１０・・・
導波路、６・・・結合部、１２・・・半導体レーザ、１
３・・・光電検出器、１４・・・基準反射膜、１５・・
・測定対象物、１６・・・基準反射体。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 可干渉性の光源と、基板の一主面に該光源よりの光波を
    分岐して測定対象物および基準反射膜に照射し、該測走
    対象物および基準反射膜より得られる反射光波を合成す
    るように形成した導波路と、該合成された光波を検出す
    る検出器とからなる光導波形変位センサにおいて、前記
    基準反射膜に前記測定対象物の前記基板からの距離とほ
    ぼ同距離に位置し、且つ前記測定対象物とほぼ同じ反射
    率を有する基準反射体を用いてなることを特徴とする光
    導波形変位センサ。
JP4043584U 1984-03-23 1984-03-23 光導波形変位センサ Pending JPS60152915U (ja)

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JP4043584U JPS60152915U (ja) 1984-03-23 1984-03-23 光導波形変位センサ

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JP4043584U JPS60152915U (ja) 1984-03-23 1984-03-23 光導波形変位センサ

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JPS60152915U true JPS60152915U (ja) 1985-10-11

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ID=30549314

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JP4043584U Pending JPS60152915U (ja) 1984-03-23 1984-03-23 光導波形変位センサ

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