JPS6015657B2 - ポリスチレン成形品の処理方法 - Google Patents

ポリスチレン成形品の処理方法

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JPS6015657B2
JPS6015657B2 JP49025832A JP2583274A JPS6015657B2 JP S6015657 B2 JPS6015657 B2 JP S6015657B2 JP 49025832 A JP49025832 A JP 49025832A JP 2583274 A JP2583274 A JP 2583274A JP S6015657 B2 JPS6015657 B2 JP S6015657B2
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JP
Japan
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polystyrene
lower aliphatic
water
treating
molded article
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Application number
JP49025832A
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English (en)
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JPS50119074A (ja
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義保 山名
研治 児玉
克美 高橋
史郎 戸高
俊夫 稲垣
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SHIN DAIKYOWA PETROCHEM
Original Assignee
SHIN DAIKYOWA PETROCHEM
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W30/00Technologies for solid waste management
    • Y02W30/50Reuse, recycling or recovery technologies
    • Y02W30/62Plastics recycling; Rubber recycling

Landscapes

  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Separation, Recovery Or Treatment Of Waste Materials Containing Plastics (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 ポリスチレン成形物を回収して再生利用するに当り、成
形品に印刷されたインキを除去してベースのレジンのみ
を回収する例は、従来殆ど見られず印刷面を含めて粉砕
した後、各種成形法により賦形するのが通例である。
この方法によれば、印刷インキがそのまま再生品中に混
入するため再生品が着色し再生利用の用途が著しく制約
されるのが実状である。本発明は印刷面を含んだポリス
チレン成形物から容易に印刷インキを除去して着色のな
い再生ポリスチレンを得る方法に関するものである。本
発明は、特定の溶媒を用いてポリスチレン成形物を処理
することを特徴とするもので、これによりポリスチレン
成形物に付着しているグラビアインキを容易に且つ殆ん
ど完全に除去することを可能とするものである。
本発明で処理されるポリスチレンとは、スチレンを主成
分とする重合体を言い−匁史用ポリスチレンのほかに、
ハイーィンパクトポリスチレン、AS樹脂、A茂樹脂を
含むものである。又成形品は回収成形品をそのまま処理
してもよいが、これを一旦粉砕してチップ状にしたもの
を処理すれば、処理操作が容易になる効果がある。本発
明の特徴とする処理用溶媒は、一般式CnH2MCOO
日で表わされる低級脂肪族カルポン酸であるが、これに
一般式C比−CO−CmH2冊,(m=1〜4)で表わ
される低級脂肪族ケトンを全溶媒の5切れ.%以下、水
を全溶媒量の4切れ.%以下加えた液を使用すれば一層
効率よく処理を行うことが出来る。
即ち低級族カルボン酸単独でも、インキ除去効果が大で
あることを本発明者等は見し、出したが、実際の除去操
作を行う場合は水の混入が予想され、この場合、インキ
除去効果が或る程度低下するのが避けられない。一方、
ケトン類単独では、ポリスチレンに対し熔解乃至膨潤作
用があり単独ではポリスチレンのインキ除去処理に使用
出釆ないが、ケトン類を低級脂肪族カルボン酸に混入す
ることにより膨潤作用がなく、又、水が混入した場合で
もケトン類の働きにより水の阻害作用を防止出釆る組成
物が得られるものである。
この場合、低級脂肪族ケトン類が全溶媒の5印れ.%を
超えると、ポリスチレンを溶解又は膨潤するため使用し
得ないが、これを所定量の低級脂肪族カルボン酸と混合
すれば、ケトン類の溶解、膨潤作用がなく、しかもイン
キ除去効果の大きい液が得られるものである。この際、
水が全溶媒量の4肌t.%以下存在しても充分有効なイ
ンキ除去効果を維持することが出釆る。低級脂肪族ケト
ンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルィ
ソブチル、ケトン等が挙げられ、これらは、その合計が
本発明の組成範囲に入る限り単独又は混合使用すること
が出来るがメチルエチルケトン単独が特に有効である。
又、低級脂肪族カルボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸が挙げられ、これらも混合使用が可能で
ある。
又、上記濃度範囲内に於てもケトン類と水との混合割合
を或る値以上に維持することが高いインキ除去効果を維
持する上で一層好適であり、ケトン類と水の割合をケト
ン類/水1.0以上(M比)とすることが望ましい。又
全溶媒の好適組成範囲としてはインキ除去効果及び作業
性を考慮して、低級脂肪族カルボン酸単独の場合は水分
5%以下、又混合使用の場合は、低級脂肪族カルボン酸
類10〜93%、特に30〜70%、ケトン類0〜50
%、特に10〜40%、水2〜40%、特に10〜30
%(何れも重量)とすることが適当である。本発明のイ
ンキ除去を更に完全且つ能率的に行うためには縄拝を有
効に行うことが望ましいが、特に粉砕チップにしても蝿
梓を行えば、チップ同士が接触して除去能率を高めるこ
とが出来る。
通常使用され得る好適な処理剤としてカルボン酸単独の
場合は、酢酸95M.%、水5wt.%から成る液を、
又、混合使用の場合は酢酸5肌上.%、メチルエチルケ
トン3切れ.%、水2肌t.%の3成分から成る液を容
器に入れ、液中へ印刷面を含んだポリスチレンチツプ類
を混入させ、粉砕品に付着している印刷インキが完全に
溶解する迄縄拝する。滋拝は、加熱下でもよいが常温で
も充分除去効果がある。乱流を生じさせるように高速回
転させ、又邪魔板を設け、印刷面の摩擦によって、充分
なる除去効果が出来るように13分以上行うことが適当
である。又、混合溶媒を調整するとき、溶剤を充分に混
合しないと、成形品がケトン類の為に膨欄を起こし、印
刷インキの除去が不可能になるため、予め均一に混合さ
せる必要がある。渡洋後、印刷面の溶解したチップ類は
、充分水洗処理して利用に供する。実施例 1〜7 グラビアインキで印刷されたポリスチレン樹脂を下表の
混合溶媒に浸潰し、常温鷹拝下にインキ除去処理を行な
ったところ、例1〜7に記す如き結果が得られ、インキ
除去に極めて有効なことが認められた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 主としてポリスチレンより成る成形品に付着してい
    る印刷インキを除去するに当り、該成形品を一般式C_
    nH_2_n_+_1COOH(n=0〜3)で表わさ
    れる低級脂肪族カルボン酸にて処理することを特徴とす
    るポリスチレン成形品の処理方法。 2 前記の処理液として一般式C_nH_2_n_+_
    1COOH(n=0〜3)で表わされる低級脂肪族カル
    ボン酸に、一般式CH_3COC_mH_2_m_+_
    1(m=1〜4)で表わされる低級脂肪族ケトンを全溶
    媒量の50wt.%以下、水を全溶媒量の40wt.%
    以下加えた溶媒を用いて処理することを特徴とするポリ
    スチレン成形品の処理方法。
JP49025832A 1974-03-06 1974-03-06 ポリスチレン成形品の処理方法 Expired JPS6015657B2 (ja)

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JPS50119074A JPS50119074A (ja) 1975-09-18
JPS6015657B2 true JPS6015657B2 (ja) 1985-04-20

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