JPH02255385A - 光重合体印刷板の洗浄用のテルペンを基にした溶媒 - Google Patents

光重合体印刷板の洗浄用のテルペンを基にした溶媒

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JPH02255385A
JPH02255385A JP1064051A JP6405189A JPH02255385A JP H02255385 A JPH02255385 A JP H02255385A JP 1064051 A JP1064051 A JP 1064051A JP 6405189 A JP6405189 A JP 6405189A JP H02255385 A JPH02255385 A JP H02255385A
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JP
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photopolymer
solvent
uncured
plate
terpene
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JP1064051A
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R Warnes John
ジヨン・アール・ワーンズ
Trevor J Williams
トレバー・ジエイ・ウイリアムズ
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WR Grace and Co
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325Non-aqueous compositions

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■1発明の分野 本発明は、7レキラグラフイック光重合体印刷板(ph
otopolymer printing plate
s)中でのテルペン種の天然生成物および配合溶媒の使
用に関するものである。特に、本発明はレリーフ像を現
像するための印刷板中での非重合物質用の洗浄剤として
の該溶媒の使用に関するものである。該溶媒は低価格、
改良された板品質、低い揮発性、低い毒性および生劣化
性の独特の組み合わせを供することが発見された。
本発明を要約すれば、種々の光重合体印刷板の加工にお
いて使用するのに適しているテルペンを基にしI;溶媒
類を提供することである。テルペンだけ、または有機非
溶媒と混合されているテルペン、または水で乳化されて
いるテルペンであることができる該溶媒は種々の光重合
体印刷板の現像において有効であり、そしてそのような
適用において最近使用されている市販の溶媒を用いて得
られる像より優れた像を生成できる。
2、発明の背景 光重合体レリーフ印刷方法に関する必須段階は、像の生
成後の印刷板の現像である。一般的にこの現像は、重合
した(硬化した[curedl )物質は未変化のまま
残しながら露光された板を非重合物質を除去可能な溶媒
中で洗浄することにより実施される。そのような板は種
々の材料から製造できるため、個々の板が適当な溶媒に
合致することが必要である。
例えば、米国特許番号4,323,636.4゜323
.637.4,423.135および4,369.24
6は、スチレンおよびブタジェン(SBS)またはイソ
プレン(SIS)の塊状共重合体を基にした種々の光重
合体印刷板組放物を開示している。
これらの組成物は、メチルエチルケトン、キシレン、四
塩化炭素、トリクロロエタン、メチルクロロホルムおよ
びテトラクロロエチレンなどの一連の脂肪族および芳香
族溶媒により現像可能な印刷板を製造するために利用で
きる。これらの溶媒はそれ自身でまたは「非溶媒(すな
わち非重合物質を溶解させない物質、例えばトリクロロ
エタンとエタノール)」と混合させて使用できる。いず
れの場合にも、現像段階中に溶媒を例えば注入、浸漬、
噴霧またはローラー適用による如き一般的な方法で適用
できる。組成物の非重合または非架橋結合部分の除去を
助けるハケ塗りも板の処理を促進するために実施できる
同様に、英国特許番号1,358.062はニトリルゴ
ム並びに化学線により活性化可能な付加重合開始剤と組
み合わされているアクリル酸またはメタクリル酸から誘
導される付加光重合可能なトリーもしくはテトラー不飽
和エステルからなる感光性組成物を開示している。これ
らの組成物から製造される板は、例えば酢厳エチルの如
き脂肪族エステル類、例えばアセトン、メチルエチルケ
トンの如き脂肪族ケトン類、または例えば塩化メチレン
、フレオン&の如きハロゲン化された有機溶媒類などの
有機溶媒類並びに該溶媒類の配合物により処理が可能で
ある。組成物の非重合部分の除去を促進させるために、
ハケ塗りまたは撹拌を使用できる。
米国特許4,177.074は、フリーラジカル生成系
と組み合わされているカルボキシル基を含有している高
分子量ブタジェン/アクリロニトリル共重合体、カルボ
キシル基を含有していてもまたはしていなくてもよい低
分子量ブタジェン重合体、およびエチレン系不飽和単量
体を含有している感光性組成物を開示している。この組
成物はフレキソグラフィック印刷板としての用途を有し
ており、そしてメチルエチルケトン ルエン、キシレン、トリクロロエタン、トリクロロエチ
レン、メチルクロロホルム、テトラク口口エチレンなど
の処理用の有機溶媒、または溶媒/非溶媒混合物、例え
ばテトラクロロエチレンおよびn−ブタノール、を必要
とする。該組成物は塩基性水溶液中の水溶性有機溶媒、
例えば水酸化ナトリウム/イソプロピルアルコール/水
;炭酸ナトリウム/イソプロピルアルコール/水;炭酸
ナトリウム/2−ブトキシェタノール/水ニホウ酸ナト
リウム/2−ブトキシェタノール/水;珪酸ナトリウム
/2−ブトキシェタノール/水ニホウ酸ナトリウム/2
−ブトキシェタノール/水;珪酸ナトリウム/2−ブト
キシェタノール/グリセロール/水:および炭酸ナトリ
ウム/2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール/水、
を用いて処理することもできる。
米国特許4,517.279は、エチレン系不飽和単量
体およびフリーラジカル生成系と組み合わされているカ
ルボキシル基を含有している高分子量ブタジェンアクリ
ロニトリル共重合体、カルボキシル基を含有していない
高分子量ブタジェン/アクリロニトリル共重合体を含ん
でいる感光性組成物を開示している。フレキソグラフィ
ック印刷板としての用途を有するこの組成物は、テトラ
クロロエチレンおよび非溶媒の配合物中のテトラクロロ
エチレン溶媒による処理を必要とする。該組成物は、水
酸化ナトリウム/イソプロピルアルコール/水:炭酸ナ
トリウム/2−ブトキシェタノール/水;珪酸ナトリウ
ム/2−ブトキシェタノール/水;珪酸ナトリウム/2
−ブトキシェタノール/グリセロール/水;および炭酸
ナトリウム/2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール
/水の混合物中で処理することもできる。
従って、像の現像用に必要な溶媒は使用する板の組成に
より変わるであろう。このことは、特に異なる光重合体
系を同じ容易さで処理しようとする場合には、非常に不
便である。従って、より高い安全度で使用できる溶媒系
に対しての真の要望が存在している。種々の板において
使用できる溶媒系に対する要望も存在している。
3、発明の要旨 本発明の一目的は、これまでの溶媒系の重合体に固有の
問題を克服する光重合体印刷板と共に使用するための溶
媒系を提供することである。本発明の別の目的は、種々
の光重合体印刷板と共に使用できそして安全性問題を減
少させる溶媒系を提供することである。
本発明は、種々の光重合体物質と共に使用できる光重合
体印刷板の処理で使用するための溶媒を提供するもので
ある。テルペン物質だけからなるかまたは他の有機物質
(非溶媒)の存在下でのテルペン物質からなっている溶
媒は、SBSおよびSIS重合体系並びに種々のニトリ
ルゴムおよび他の共重合体系と共に使用できる。天然生
成物であるテルペン類は安全性の点では低い害しか与え
ない。さらに、テルペン類は水により乳化可能であるた
め、溶媒系は水性乳化液であることができ、水ですすげ
る系を可能とする。
4、発明の詳細な記載 本発明は、光重合体中刷板処理における使用のためのテ
ルペンを基にした溶媒を提供する。単独でまたは例えば
アルコール類の如き非溶媒と配合されて使用できるテル
ペン類は、異なる一連の光重合体印刷板を現像させるた
めに使用できる。アロシメンテルペン類、ジペンテン、
d−リモネン、β−リモネン、アルファピネ、シトロネ
ロールテルペン類、リナロール、ゲラニオール、および
オレンジテルペン類などの種々のテルペン類が本発明の
溶媒中での使用に適しているがそれらに限定されるもの
ではない。他のテルペン類も使用できる。
非溶媒を使用する時に適している試薬には、n−7’タ
ノール、2−エトキシエタノール、ベンジルアルコール
、エタノール、2−ブトキシェタノール、イソプロピル
アルコール、2−(2−7’トキシエトキシ)エタノー
ル、鉱油、ミネラルスピリッツ、リグロイン、デカン、
オクタンおよび他の同様な物質が包含される。板を現像
した後の洗浄溶液から未硬化光重合体を瞬間的に分離さ
せるのをある種の配合物が促進させることも見いだされ
ている。溶媒中に残存している未硬化重合体の量が非常
に低いという理由のために、全く予期されていなかった
この効果によって再生された溶媒は長期間にわたり繰り
返し使用できる。
実際には、別の非溶媒を配合されたテルペン/非溶媒系
に加えることによりこの性質を利用できる。配合物中の
ものと同じであってもまたは異なっていてもよいこの別
の非溶媒は瞬間的な凝集および配合物からの未硬化光重
合体の分離を促進する。
次にテルペンを蒸留(水蒸気または真空)により除去し
、そして凝集した未硬化光重合体の濾過またはふるい分
けにより非溶媒を再生できる。この分離を行うために使
用する非溶媒が配合物中のものと異なっている場合には
、二種の非溶媒の分離は蒸留により実施できる。
これらのテルペンを基にした溶媒は、光重合体印刷板の
処理用に現在使用されている合成炭化水素またはハロゲ
ン化された炭化水素溶媒の代わりに使用できる。例えば
、テルペン種の溶媒はスチレンおよびブタジェン(SB
S)またはスチレンおよびイソプレン(S I S)の
塊状共重合体、ブタジェンおよびアクリロニトリルの共
重合体、ポリアミド類、ブタジェン、アクリロニトリル
およびアクリル酸の三元共重合体、並びに他の同様な光
重合体を基にした光重合体印刷板の処理に対して優れて
いる。該溶媒は、通常はアルコールまたは水だけの中で
処理されるポリアミド型の光重合体板と共に使用するこ
ともできる。溶媒は、噴霧、IAケ塗り、浸漬またはそ
れらの組み合わせなどの一般的な適用手段によっても板
に適用できる。
驚くべきことに、テルペンを基にした溶媒は従来の炭化
水素または塩素化された炭化水素溶媒中で処理されるも
のより少ない硬化重合体像の膨潤性を有する光重合体板
を生成する。膨潤性は生成する像をゆがめる傾向がある
ため、このことによりはるかに短い露呈時間ではつきり
した鋭い像が生成可能になる。
さらに、これらの溶媒はかなり低い揮発性を有しており
、その程度は板の処理中の作業員への露呈が減じられる
ほどである。さらに、テルペン類は天然生成物であるた
め、合成炭化水素または塩素化された炭化水素溶媒より
費用が安い。テルペンを基にした溶媒自身を水蒸気また
は真空蒸留により回収することができ、そのため該溶媒
は従来の溶媒より低い蒸留温度において回収可能となる
水蒸気蒸留方法の方が従来の炭化水素溶媒蒸留より安全
でもある。
テルペンを基にした溶媒の他の特徴は、テルペンが水と
の乳化液を生成できることである。これにより、純粋な
テルペン溶媒の処理上の利点の全てを保有している水性
混合物の生成が可能になる。
そのような水性乳化液は、多くの板で、光重合または架
橋結合された光重合体像の膨潤性を減少させ、そして板
を乾燥炉中で高温において乾燥する前に板から乳化液を
水ですすぐことができる。従来の炭化水素または塩素化
された炭化水素溶媒を使用する時には、すすぎ水が有毒
な合成溶媒で汚染されるため、水によるすすぎは実際的
でなかった。さらに、該溶媒は水中にも不溶性である。
処理後に板上に保持されている溶媒は、炉乾燥中に板の
膨潤性およびひずみを増加させるため、乾燥前に板から
洗浄溶媒を除去することが重要である。本発明で炉乾燥
の前に水すすぎにより乳化された洗浄溶媒を板から除去
すると、従来の洗浄溶媒より少ない膨潤性および改良さ
れた板品質が得られる。
さらに、テルペン、水および非溶媒の三成分混合物を乳
化剤および任意にヒドロトロピー剤を用いて乳化液にす
ることもできる。未硬化光重合体が混合物から瞬間的に
分離し、それを濾過またはふるい分けにより系から容易
に除去できるため、これにより溶媒の再循環が容易にな
る。これにより、未硬化光重合体を除去するための蒸留
を必要とせずに溶媒を繰り返し使用できる。
これらのテルペン種類の溶媒と水との乳化液を生成する
ために使用できる種類の乳化液には、スルホ琥珀酸塩類
、特にジオクチルスルホ琥珀酸ナトリウム(アエロゾル
0T−100);ポリエチレングリコールp−インオク
チルフェニルエーテル類(トリトン X−100);お
よびポリエチレングリコールモノ(ノニルフェニル)エ
ーテル類(トリトン N−57)が包含される。テルペ
ン類および水の均質で安定な乳化液を与える乳化剤なら
いずれも使用できる。洗浄溶液は普通混合物の再乳化を
促進させる処理装置中を循環しているため、本発明の目
的用に安定な乳化液とは少なくとも5分間、そして好適
には30分間、にわたり安定のままである(すなわち分
離したり、逆になったりしない)ものである。乳化液の
生成および安定化を助けるために有用な種類のヒドロト
ロピー剤は、例工ばトルエンスルホン酸カリウムの如き
芳香族スルホン酸塩類のアルカリ金属塩類である。
6、実施例 6.1  d−リモネンの使用 15ガロン容器中で下記のものをエア・ミキサーを用い
て混合することにより、二段階方法でテルペンを基にし
た溶媒水溶液を製造した:1)予備混合物−2,27k
 gのジオクチルスルホ琥珀酸ナトリウム、 1.13リツトルのエチルアルコ ール、 2)       39.3リツトルのd−リモネン(
4−インプロベニル−l−メチ ルシクロヘキセン)、 9.5リツトルの水。
溶媒の合計量は約lOガロン(39リツトル)であった
この混合物は充分混合されると、わずかにかすんでいる
透明乳化液を生成した。乳化液をフレックス−ライト@
30″X40″回転ブラシ、板加工機または同様な装置
に加えた。スチレンおよびイソプレンの塊状共重合体を
基にした12″×15″XO,l12”の光重合体板の
裏にヴオルターク紫外線蛍光型電灯(23マイクロワツ
トの出力/cm2X500)を1.5分間露光した。板
を次にフレックス−ライト[F]四段階試験陰画を通し
て露光した。露光段階は4.6.8および10分間であ
った。板を次に洗浄装置中で上記の組成の溶液を用いて
4分間洗浄した。
洗浄後に、板を新しい溶液ですすぎ、そして次に標準的
な台所用流しの噴霧ホースを使用して水ですすいだ。す
すいだ後に、板を150°Fの強制空気乾燥炉中に1時
間入れた。板の品質を、各露光で得られるであろう最も
微細な線およびハーフトーンから評価した。
これを、75(容量)%のパークロロエチレン−25(
容量)%のn−ブチルアルコールの混合物中での6分間
にわたる洗浄により処理されているが水ですすがれてい
ない同一の板と比較した。
両方の板とも30〜35ミルの像レリーフを有していた
。d−リモネン乳化液、4ミルの直線および満足のいく
3%を用いると、4分間の露光により150線のハーフ
トーンが生成した。同等な板品質を生じるためには、パ
ークロロエチレン−ブタノール混合物では6分間の表面
露光が必要であった。より短い露光時間におけるこの優
れた板品質は、従来の75/25パークロロエチレン/
ブタノール洗浄溶液により生じる膨潤性と比較して少な
いテルペン乳化液により生じる板中の膨潤性の直接的結
果であった。
別の30“X40” Xo、112″の板をテルペン溶
媒中で、洗浄される板の全平方フィートが約25平方フ
ィー!−となるまで、上記の如く処理した。この時点で
、第二の12“X15“Xo、112″の板・を上記の
如く処理した。板品質を再び評価すると、第一の板と同
じであると見いだされた。別の30“X40“XO,l
12”の板をテルペン溶媒中で、洗浄される板の全平方
フィートが50平方フイートとなるまで、上記の如く処
理した。この時点で、第三の12“XI5“×0.11
2“の板も上記の如く処理した。lOガロンの乳化液で
洗浄される大きな板面積のために、洗浄乳化液を板から
すすぐには新しい乳化液ですすぐよりも長い時間を要し
た。しかしながら、板品質を再び評価すると、洗浄され
た第一の12“X15″XO,I l 2″の板と同等
であると見いだされた。
約15〜25平方フイートの板を処理した後には、洗浄
装置の再循環ボンダを運転せずに5分間以上放置した時
には乳化液が二相を生成する傾向があることも見いださ
れた。この相生成傾向は、板を洗浄すればするほど増加
した。しかしながら、50平方フイートにおいてさえ、
再循環ポンプにより乳化液を容易に保持できた。洗浄乳
化液のこの瞬間的な相生酸により、洗浄溶液は廃棄可能
な水相と蒸留による回収用の光重合体およびテルペンの
全てを含有している溶媒相とに容易に分離した。この結
果、蒸留しそして再循環しなければならない物質の量が
減少した。
この工程をパークロロエチレン−ブタノール洗浄溶液を
用いて繰り返した時には、25〜30平方フイートの板
を洗浄した後に板をすすきにくくなることが見いだされ
た。この溶媒混合物を用いると、相生酸は生じなかった
6.2  SIS板の使用 下記の混合物を清浄なフレックス−ライトの30“×4
0“板加工機に加え、そして10分間にわたり再循環さ
せた: 33リツトルの2(2−ブトキシエトキシ)エタノール
、 67リツトルのd−リモネン(4−インプロペニル−1
−メチルシクロヘキセン)。
スチレンおよびイソプレンの塊状共重合体を基にした光
重合体板を、実施例6.1中の如くして、この溶媒およ
び対照用のパークロロエチレン−ブタノール混合物を使
用して処理した。この溶媒により処理した時にも、短い
露光時間における板品質はそれより長い露光時間でパー
クロロエチレン−ブタノールを用いて得られたものと同
等であった。この洗浄溶液の能力もパークロロエチレン
−ブタノールのものより大きかった。この洗浄溶液の相
生酸は観察されなかった。
6.3 溶媒の再循環 下記のものを清浄なフレックス−ライト030“×40
“板加工機に加え、そして10分間にわたり再循環させ
た: 33リツトルの2(2−ブトキシエトキシ)エタノール
、 67リツトルのd−リモネン(4−イソプロペニル−1
−メチルシクロヘキセ、ン)。
スチレンおよびイソプレンの塊状共重合体を基にした光
重合体板を、実施例6.1中の如くして、この溶媒を使
用して処理した。洗浄溶媒が未硬化光重合体で飽和され
た後に、等容量のn−ブタノールを溶液に加えた。非溶
媒(n−ブタノール)の添加で、溶解されていた光重合
体の沈澱または凝集が生じた。沈澱は非常にしつかりし
ておりしかも非粘着性であった。この非粘着性状態のた
めに、沈澱した光重合体を溶媒混合物から除去するのは
容易であった。(n−ブタノールおよびd−リモネン/
2(2−ブトキシエトキシ)エタノール混合物の間に沸
点の大きな差があるため)この溶媒混合物を次に蒸留し
てn−ブタノールを除去すると、その後の光重合体板の
処理での再使用できる清浄なd−リモネン/2(2−ブ
トキシエトキシ)エタノールが残った。この再循環方法
により、典型的なパークロロエチレン/ n −7’タ
ノ一ル混合物よりはるかに少ない量で洗浄溶液を再循環
させることができた。
この工程をパークロロエチレン/n−ブタノール混合物
を用いて繰り返した時には、パークロロエチレンおよび
n−ブタノールが同様な沸点を有しているため温度基準
での蒸留を終わらせることができなかった。
6.4 非溶媒としてのベンジルアルコールの使用 下記のものを清浄なフレックス−ライト030″X40
“板加工機に加え、そして10分間にわたり再循環させ
た: 33リツトルのベンジルアルコール、 67リツトルのd−リモネン(4−インプロペニル−1
−メチルシクロヘキセン)。
スチレンおよびイソプレンの塊状共重合体を基にした光
重合体板を、実施例6.1中の如くして、この溶媒を使
用して処理した。この場合も、板品質はパークロロエチ
レン−ブタノールを用いて得られたものより優れていた
。この溶液の相生酸は観察されなかった。
6.5 重合体の分離 下記のものを清浄なフレックス−ライト030“×40
#板加工機に加え、そしてIO分間にわたり再循環させ
た: 28リツトルの25(重量)%トルエンスルホン酸カリ
ウム水溶液、 33リツトルのベンジルアルコール、 64リツトルのd−リモネン(4−インプロベニJL、
−1−メチルシクロヘキセン)、5kgの0T−100
(ジオクチルスルホ琥珀酸ナトリウム)。
スチレンおよびイソプレンの塊状共重合体を基にした光
重合体板を、実施例6.1中の如くして、この溶媒を使
用して処理した。この場合も、板品質ハパークロロエチ
レンーブタノールを用いて得られたものより優れていた
。この溶液の全処理能力もパークロロエチレン−ブタノ
ールのものより大きかった。
さらに、洗浄された光重合体は予期せぬことにこの溶液
から瞬間的に分離する傾向があった。5.6時間放置し
た後に、重合体を網ふるいを用いて溶液から容易に除去
することができた。瞬間的な重合体の分離は光重合体の
過度の増加を防ぐため、これにより洗浄溶液の使用延長
が可能となり、溶液を使用し続けることができ、約20
0−300平方フイートの板面積を蒸留せずに処理する
ことができた。そのような処理後でさえ、板品質は同じ
[4件下でパークロロエチレン−ブタノール溶液を用い
て得られた品質と同等であった。
6.6 51S板上での純粋なリモネンの使用下記のも
のを清浄なフレックス−ライト■30“×40#板加工
機に加え、そして10分間にわたり再循環させた: 60リツトルのd−リモネン(4−インプロペニル−1
−メチルシクロヘキセン)。
スチレンおよびイソプレンの塊状共重合体を基にした光
重合体板を、実施例6.1中の如くして、この溶媒を使
用して処理した。これらの板に対する洗浄時間は、試験
開始時の板洗浄用の2分間から試験終了時の6分間まで
に変えなければならなかった。100%溶媒の比較的大
きな溶媒和力のために、板の膨潤および板の詳細部の損
失という問題があった。このため、0.004”線およ
び3%、X50線のハーフトーンを保つにはパークロロ
エチレン−ブタノール混合物処理用に必要なものと同等
の露光が必要であった。
6.7 ブタジェン−アクリロニトリル板上での使用 下記のものを清浄な7レツクスーライト■30”X40
“板加工機に加え、そして10分間にわたり再循環させ
た: 33リツトルの2(2−ブトキシエトキシ)エタノール
、 67リツトルのd−リモネン(4−イソプロペニル−1
−メチルシクロヘキセン)。
ブタジェンおよびアクリロニトリルの塊状共重合体を基
にした光重合体板を、実施例6.1中の如くして、この
溶媒を使用して処理した。この型の光重合体用の洗浄時
間は20分間であった。この場合も、板品質はパークロ
ロエチレン−ブタノールまたは100%パークロロエチ
レン溶媒を用いてはるかに長い露光時間で得られたもの
と同等であった。
6.8 非溶媒としてのベンジルアルコールの使用 下記のものを清浄なフレックス−ライト[F]30“×
40#板加工機に加え、そして10分間にわたり再循環
させた: 33リットルのベンジルアルコール、 67リツトルのd−リモネン(4−イソプロペニル−1
−メチルシクロヘキセン)。
ブタジェンおよびアクリロニトリルの塊状共重合体を基
にした光重合体板を、実施例6.1中の如くして、この
溶媒を使用して処理した。この型の光重合体用の洗浄時
間は20分間であった。この場合も、板品質はパークロ
ロエチレンを用いて等しい条件下で得られたものより優
れていた。この溶液の相生酸は観察されなかった。
6.9 重合体の分離 下記のものを清浄なフレックス−ライト030′×40
#板加工機に加え、そして10分間にわたり再循環させ
た: 28リツトルの25(重量)%トルエンスルホン酸カリ
ウム水溶液、 33リツトルのベンジルアルコール、 64リツトルのd−リモネン(4−インプロペニル−1
−メチルシクロヘキセン)、 5kgの0T−100(ジオクチルスルホ琥珀酸ナトリ
ウム)。
ブタジェンおよびアクリロニトリルの塊状共重合体を基
にした光重合体板を、実施例6.1中の如くして、この
溶媒を使用して処理した。この型の光重合体用の洗浄時
間は20分間であった。この場合も、板品質はパークロ
ロエチレンを用いて等しい条件下で得られたものより優
れていた。さらに、洗浄された(未硬化)光重合体はこ
の溶液から分離する傾向があった。5.6時間放置した
後に、重合体は網ふるいを用いて溶液から容易に除去す
ることができた。瞬間的な重合体の分離は光重合体の過
度の増加を防ぐため、これにより洗浄溶液の使用延長が
可能となり、溶液を使用し続けることができ、約200
−300平方フイートの板面積を蒸留せずに処理するこ
とができた。板品質はそれより長い露光時間においてパ
ークロロエチレン−ブタノール溶液を用いて得られた品
質と同等であった。
下記のものを清浄な7レツクスーライト030“X40
“板加工機に加え、そして10分間にわたり再循環させ
た; 60リツトルのd−リモネン(4−インプロペニル−1
−メチルシクロヘキセン)。
ブタジェンおよびアクリロニトリルの塊状共重合体を基
にした光重合体板を、実施例6.1中の如くして、この
溶媒を使用して処理した。この洗浄溶液中のこのをの板
に対する洗浄時間は20分間であった。この洗浄溶媒を
用いて0.004”線および3%、150線のハーフト
ーンを保つには、パークロロエチレン−ブタノール洗浄
板用に必要なものと同等の露光時間が必要であった。
6.11  三元共重合体板上での使用下記のものを清
浄なフレックス−ライト030”X40“板加工機に加
え、そして10分間にわたり再循環させた: 33リツトルの2(2−ブトキシエトキシ)エタノール
、 60リツトルのd−リモネン(4−イソプロペニル−■
−メチルシクロヘキセン)。
ブタジェン、アクリロニトリルおよびアクリル酸の三元
共重合体を基にした光重合体板を、実施例6.1中の如
くして、この溶媒を使用して処理した。この洗浄溶液中
のこの型の板に対する洗浄時間は16分間であった。板
の品質はそれより長い露光時間においてパークロロエチ
レン−ブタノール溶液を用いて得られた品質と同等であ
っt;。
6.12 非溶媒としてのベンジルアルコールの下記の
ものを清浄なフレックス−ライト■30“X40“板加
工機に加え、そして10分間にわたり再循環させた: 33リツトルのベンジルアルコール、 67リツトルのd−リモネン(4−イソプロペニル−1
−メチルシクロヘキセン)。
ブタジェン、アクリロニトリルおよびアクリル酸の三元
共重合体を基にした光重合体板を、実施例6.1中の如
くして、この溶媒を使用して処理した。この型の光重合
体用の洗浄時間は18分間であった。この場合も、板品
質はパークロロエチレンを用いて同じ条件下で得られた
ものより優れていた。この溶液の相生酸は観察されなか
った。
6.13 重合体の分離 下記のものを清浄なフレックス−ライト030″X40
#板加工機に加え、そして1.0分間にわたり再循環さ
せた: 28リツトルの25(重量)%トルエンスルホン酸カリ
ウム水溶液、 33リツトルのベンジルアルコール、 64リツトルのd−リモネン(4−インプロペニル−1
−メチルシクロヘキセン)、 5kgの0T−100(ジオクチルスルホ琥珀酸ナトリ
ウム)。
ブタジェン、アクリロニトリルおよびアクリル酸の三元
共重合体を基にした光重合体板を、実施例6.1中の如
くして、この溶媒を使用して処理した。この型の光重合
体用の洗浄時間は18分間であった。この場合も、板品
質はパークロロエチレンを用いて同じ条件下で得られた
ものより優れていた。さらに、洗浄された(未硬化)光
重合体はこの溶液から分離する傾向があった。5.6時
間放置した後に、重合体は網ふるいを用いて溶液から容
易に除去することができた。瞬間的な重合体の分離は光
重合体の過度の増加を防ぐため、これにより洗浄溶液の
使用延長が可能となり、溶液を使用し続けることができ
、約200−300平方フイートの板面積を蒸留せずに
処理することができた。板の品質はそれより長い露光時
間においてパークロロエチレン−ブタノール溶液ヲ用い
て得られた品質と同等であった。
6.14 三元共重合体板上での純粋なリモネンの使用 下記のものを清浄なフレックス−ライト■30#X40
“板加工機に加え、そして10分間にわたり再循環させ
た: 60リツトルのd−リモネン(4−インプロペニル−1
−メチルシクロヘキセン)。
ブタジェン、アクリロニトリルおよびアクリル酸の三元
共重合体を基にした光重合体板を、実施例6.1中の如
くして、この溶媒を使用して処理した。この洗浄溶液中
のこの型の板に対する洗浄時間は16分間であった。こ
の洗浄溶媒を用いて0.004″線および3%、150
線のバー7トー/ヲff1つにハ、パークロロエチレン
−ブタノール洗浄板用に必要なものと同等の仮置光時間
が必要であった。
本発明の精神および範囲から逸脱しない限り上記の如く
本発明の多くの改変を行えることは明白である。記され
ている個々の態様は単なる例示用であり、本発明は特許
請求の範囲によってのみ限定されるものである。
本発明の主なる特徴および態様は以下のとおりである。
■、硬化した光重合体部分および未硬化光重合体部分を
含んでいる光重合体印刷板を溶媒に露呈している間に鎖
板から実質的に全ての未硬化光重合体を除去するのに充
分な量の少なくともillのテルペン炭化水素を含んで
いる、硬化した光重合体部分および未硬化光重合体部分
を含んでいる光重合体印刷板の現像で使用するための溶
媒。
2、テルペン炭化水素が、アロシメンテルペン類、d−
リモネン、2−リモネン、ジペンテン、アルファピネン
、シトラネロールテルペン、リナロール(linalo
ol) 、ゲラニオール、および他のオレンジテルペン
類からなる群から選択される、上記lに記載の溶媒。
3、テルペン炭化水素と混合されている非溶媒も含んで
いる、上記lに記載の溶媒。
4、非溶媒がアルコールである、上記3に記載の溶媒。
5、アルコールがエタノール、n−フタノール、イング
ロビルアルコール、およびベンジルアルコールからなる
群から選択される、上記4に記載の溶媒。
6、非溶媒が鉱油、ミナラルスピリット、リグロイン、
デカン、オクタン、2−エトキシエタノール、2−プト
キ、ジェタノールおよび2−(2−ブトキシエトキシ)
エタノールからなる群から選択される、上記3に記載の
溶媒。
7、a)少なくとも1種のテルペン炭化水素、b)水、
および C)均質な乳化液を生成するのに有効な量の乳化剤 からなる、光重合体印刷板の現像で使用するための乳化
された溶媒。
8、テルペン炭化水素が、アロシメンテルペン類、d−
リモネン、2−リモネン、ジペンテン、アルファピネン
、シトラネロールテルペン、リナロール、ゲラニオール
、および他のオレンジテルペン類からなる群から選択さ
れる、上記7に記載の乳化液。
9、乳化剤がスルホサクシネート、ポリエチレングリコ
ールp−インオクチルフェニルエーテル類、およヒポリ
エチレングリ7コールモノ(オニルフェニル)エーテル
類からなる群から選択される、上記7に記載の乳化液。
10、乳化剤がジオクチルスルホ琥珀酸ナトリウムであ
る、上記7に記載の乳化液。
11、均質な乳化液の生成を促進させそして均質な乳化
液の安定化を助けるのに有効な量のヒドロトロピー剤(
hydrotrope)も含んでいる、上記7に記載の
乳化液。
12、該ヒドロトロピー剤が芳香族スルホン酸塩のアル
カリ金属塩である、上記11に記載の溶媒。
13、aヒドロトロピー剤がトルエンスルホン酸カリウ
ムである、上記11に記載の溶媒。
14、テルペン炭化水素と混合されている非溶媒も含ん
でいる、上記7に記載の溶媒。
15、非溶媒がアルコールである、上記14に記載の溶
媒。
16、アルコールがエタノール、n−ブタノール、イン
プロピルアルコ−ル ル の溶媒。
17、非溶媒が鉱油、ミナラルスピリット、リグロイン
、デカン、オクタン、2−エトキシエタノール、2−ブ
トキシェタノールおよび2 −(2 −ブトキシエトキ
シ)エタノールからなる群から選択される、上記I4に
記載の溶媒。
18、硬化した光重合体部分および未硬化光重合体部分
を含んでいる光重合体印刷板に有効量の上記1,3、7
、11または14に記載の溶媒を鎖板を溶媒に露呈して
いる間に鎖板から実質的に全ての未硬化光重合体を除去
するのに充分な量で適用することからなる、硬化した光
重合体部分および未硬化光重合体部分を含んでいる光重
合体印刷板の現像方法。
19、光重合体板がポリスチレン−ポリイソプレン−ポ
リスチレン塊状共重合体を含有してなる、上記■8に記
載の方法。
20、光重合体印刷板がポリスチレンーポリブタジエン
ーボリスチレン塊状共重合体を含有してなる、上記18
に記載の方法。
21、光重合体印刷板がブタジェンアクリロニトリル共
重合体を含有してなる、上記18に記載の方法。
22、光重合体印刷板がポリアミドを含有してなる、上
記18に記載の方法。
23、光重合体印刷板がブタジェン、アクリロニトリル
およびアクリル酸の三元共重合体を含有してなる、上記
18に記載の方法。
24、テルペン炭化水素を混合物から再生しく rec
laim) 、そして該溶媒を再循環させることも含ん
でいる、上記18に記載の方法。
25、該溶媒溶液の蒸留により再生を実施する、上記2
4に記載の方法。
26、蒸留が水蒸気蒸留または真空蒸留である、上記2
5に記載の方法。
27、該溶媒を該仮に適用する手段が噴霧、ハケ塗り、
浸漬、およびそれらの組み合わせからなる群から選択さ
れる、上記18に記載の方法。
28、硬化した光重合体部分および未硬化光重合体部分
を含んでいる光重合体印刷板に有効量の上記5に記載の
溶媒を鎖板を溶媒に露呈している間に鎖板から実質的に
全ての未硬化光重合体を除去するのに充分な量で適用し
、未硬化光重合体を凝集させるのに充・分な量の非溶媒
を加えることにより該溶媒を該溶媒溶液から再生し、凝
集した未硬化光重合体を除去し、そしてテルペンを蒸留
により単離することからなる、硬化した光重合体部分お
よび未硬化光重合体部分を含んでいる光重合体印刷板の
現像方法。
29、凝集した未硬化光重合体を濾過またはふるい分け
(screening)により除去する、上記28に記
載の方法。
30、溶媒溶液に加えられる非溶媒がテルペン/非溶媒
混合物中に存在している非溶媒とは異なっている、上記
28に記載の方法。
31、非溶媒混合物を蒸留により分離することも含む、
上記29に記載の方法。
32、蒸留が水蒸気蒸留または真空蒸留である、上記2
8または31に記載の方法。
33、該溶媒を鎖板に適用する手段が噴霧、ハヶ塗り、
浸漬、およびそれらの組み合わせからなる群から選択さ
れる、上記28に記載の方法。
34、硬化した光重合体部分および未硬化光重合体部分
を含んでいる光重合体印刷板に有効量の上記14に記載
の溶媒を鎖板を溶媒に露呈している間に鎖板から実質的
に全ての未硬化光重合体を除去するのに充分な量で適用
し、未硬化光重合体が瞬間的に(5pontaneou
s ly)凝集しそして乳化液から分離するのに充分な
時間にわたり混合物を放置することにより該乳化された
溶媒を再生し、そして凝集した未硬化光重合体を除去す
ることからなる、硬化した光重合体部分および未硬化光
重合体部分を含んでいる光重合体印刷板の現像方法。
35、凝集した未硬化光重合体を濾過またはふるい分け
により除去する、上記34に記載の方法。
36、該溶媒を鎖板に適用する手段が噴霧、ハケ塗り、
浸漬、およびそれらの組み合わせからなる群から選択さ
れる、上記34に記載の方法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、硬化した光重合体部分および未硬化光重合体部分を
    含んでいる光重合体印刷板を溶媒に露呈している間に該
    板から実質的に全ての未硬化光重合体を除去するのに充
    分な量の少なくとも1種のテルペン炭化水素を含んでい
    る、硬化した光重合体部分および未硬化光重合体部分を
    含んでいる光重合体印刷板の現像で使用するための溶媒
    。 2、a)少なくとも1種のテルペン炭化水素、 b)水、および c)均質な乳化液を生成するのに有効な量の乳化剤 を含有してなる、光重合体印刷板の現像で使用するため
    の乳化された溶媒。 3、硬化した光重合体部分および未硬化光重合体部分を
    含んでいる光重合体印刷板に有効量の特許請求の範囲第
    1および2項に記載の溶媒を該板を溶媒に露呈している
    間に該板から実質的に全ての未硬化光重合体を除去する
    のに充分な量で適用することからなる、硬化した光重合
    体部分および未硬化光重合体部分を含んでいる光重合体
    印刷板の現像方法。 4、硬化した光重合体部分および未硬化光重合体部分を
    含んでいる光重合体印刷板に有効量の特許請求の範囲第
    1項に記載の溶媒を該板を溶媒に露呈している間に該板
    から実質的に全ての未硬化光重合体を除去するのに充分
    な量で適用し、未硬化光重合体を凝集させるのに充分な
    量の非溶媒を加えることにより該溶媒を該溶媒溶液から
    再生し、凝集した未硬化光重合体を除去し、そしてテル
    ペンを蒸留により単離することからなる、硬化した光重
    合体部分および未硬化光重合体部分を含んでいる光重合
    体印刷板の現像方法。 5、硬化した光重合体部分および未硬化光重合体部分を
    含んでいる光重合体印刷板に有効量の特許請求の範囲第
    1項に記載の溶媒を該板を溶媒に露呈している間に該板
    から実質的に全ての未硬化光重合体を除去するのに充分
    な量で適用し、未硬化光重合体が瞬間的に凝集しそして
    乳化液から分離するのに充分な時間にわたり混合物を放
    置することにより乳化された溶媒を再生し、そして凝集
    した未硬化光重合体を除去することからなる、硬化した
    光重合体部分および未硬化光重合体部分を含んでいる光
    重合体印刷板の現像方法。
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EP89302185A EP0385015A1 (en) 1987-09-03 1989-03-03 Terpene-based solvents for washout of photopolymer printing plates
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001059022A1 (en) 2000-02-09 2001-08-16 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Infrared sensitive coating liquid

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6040116A (en) * 1989-03-17 2000-03-21 Basf Aktiengesellschaft Photosensitive recording element having a recording layer and a top layer possessing different solubility properties, and its development in one operation
US5204227A (en) * 1990-05-10 1993-04-20 3D Agency, Inc. Method of developing photopolymerizable printing plates and composition therefor
US5252432A (en) * 1990-06-27 1993-10-12 Basf Aktiengesellschaft Production of photopolymeric flexographic relief printing plates
DE4020374A1 (de) * 1990-06-27 1992-01-02 Basf Ag Verfahren zur herstellung photopolymerer flexographischer reliefdruckplatten
DE4022221A1 (de) * 1990-07-12 1992-01-23 Basf Magnetics Gmbh Magnetband mit schleifmittel
US5252107A (en) * 1991-05-08 1993-10-12 Wilkins Jr Joe S Ignition fluid
WO1994024194A1 (en) * 1993-04-20 1994-10-27 Sekitei America Corporation Polystyrene-dissolving agent
US5501713A (en) * 1994-05-04 1996-03-26 Wilkins, Jr.; Joe S. Engine fuels
US5815163A (en) * 1995-01-31 1998-09-29 Compaq Computer Corporation Method and apparatus to draw line slices during calculation
DE19755131C2 (de) 1997-12-11 2002-10-31 Infineon Technologies Ag Lösung von Tetramethylammoniumhydroxid in Wasser und Verfahren zur Herstellung der Lösung
ATE267412T1 (de) * 1998-01-09 2004-06-15 Nupro Technologies Inc Verfahren zum entwickeln von photopolymer- druckplatten
ITMI991378A1 (it) * 1999-06-21 2000-12-21 Chimeko S R L Trade Chimico Ec Solvente di lavaggio per rimuovere da uno strato di fotopolimero esposto alla luce la parte non polimerizzata
US6162593A (en) 1999-10-26 2000-12-19 Wyatt; Marion F. Diisopropylbenzene containing solvent and method of developing flexographic printing plates
EP1208972B1 (en) * 2000-11-21 2006-02-08 Agfa-Gevaert Method of lithographic printing with a reusable substrate.
US6893798B2 (en) 2000-11-21 2005-05-17 Agfa-Gevaert Method of lithographic printing with a reusable substrate
US7413849B2 (en) * 2004-09-10 2008-08-19 Nupro Technologies Substituted benzene developing solvent for photopolymerizable printing plates
US6582886B1 (en) 2001-11-27 2003-06-24 Nupro Technologies, Inc. Developing solvent for photopolymerizable printing plates
US7326353B2 (en) * 2001-11-27 2008-02-05 Nupro Technologies Methods for reclaiming developing solvents
US20060040218A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Wyatt Marion F Terpene ether solvents
CA2611689A1 (en) * 2005-06-09 2006-12-21 Nupro Technologies Methods for reclaiming developing solvents
US20100068651A1 (en) * 2008-09-16 2010-03-18 Bradford David C Developing solution for flexographic printing plates
US8153347B2 (en) 2008-12-04 2012-04-10 Eastman Kodak Company Flexographic element and method of imaging
JP5488241B2 (ja) 2010-06-18 2014-05-14 信越化学工業株式会社 合成石英ガラス基板の処理方法
US8349185B2 (en) 2010-10-20 2013-01-08 E I Du Pont De Nemours And Company Method for rebalancing a multicomponent solvent solution
US8530142B2 (en) 2011-03-15 2013-09-10 Eastman Kodak Company Flexographic printing plate precursor, imaging assembly, and use
US9897921B2 (en) 2014-08-22 2018-02-20 Nsx Operating Co. Llc Compositions comprising mineral spirits and methods related thereto
US11175586B2 (en) 2017-05-26 2021-11-16 Nsx Managemen T Group, Llc Platewash composition

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1574357A (en) * 1922-03-08 1926-02-23 Wadsworth Watch Case Co Photographic media and process
US1751908A (en) * 1926-12-16 1930-03-25 Keystone Watch Case Corp Process of and product for photographic etching
US3019105A (en) * 1957-02-28 1962-01-30 Harris Intertype Corp Treatment of diazo-sensitized lithographic plates
US3660089A (en) * 1966-04-19 1972-05-02 Ball Brothers Co Inc Printing plate processing method
DE1572153B2 (de) * 1966-06-27 1971-07-22 E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US4323636A (en) * 1971-04-01 1982-04-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive block copolymer composition and elements
GB1355972A (en) * 1971-06-15 1974-06-12 Polychrome Corp Developing composition and process
US4518677A (en) * 1978-01-04 1985-05-21 Hercules Incorporated Process for making printing plates
CA1100148A (en) * 1978-01-04 1981-04-28 Rudolph L. Pohl Photopolymer compositions for printing plates
US4414128A (en) * 1981-06-08 1983-11-08 The Procter & Gamble Company Liquid detergent compositions
JPS5865433A (ja) * 1981-10-14 1983-04-19 Hitachi Chem Co Ltd アルカリ型感光性フイルムの現像又ははく離方法および現像又ははく離装置
SU1113774A1 (ru) * 1982-12-30 1984-09-15 МГУ им.М.В.Ломоносова Репрографический светочувствительный материал
US4597887A (en) * 1984-12-21 1986-07-01 Colgate-Palmolive Company Germicidal hard surface cleaning composition
US4576738A (en) * 1984-12-21 1986-03-18 Colgate-Palmolive Company Hard surface cleaning compositions containing pianane
US4980271A (en) * 1985-08-05 1990-12-25 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for lithographic printing plates with benzyl alcohol, potassium toluene sulfonate and sodium (xylene or cumene) sulfonate
DE3600116A1 (de) * 1986-01-04 1987-07-09 Basf Ag Verfahren zur herstellung von durch photopolymerisation vernetzten reliefformen
US4760014A (en) * 1986-08-01 1988-07-26 Great Lakes Chemical Corporation Method for treating mixtures containing photopolymeric resin and compositions therefor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001059022A1 (en) 2000-02-09 2001-08-16 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Infrared sensitive coating liquid

Also Published As

Publication number Publication date
EP0385015A1 (en) 1990-09-05
US4847182A (en) 1989-07-11
CA1335049C (en) 1995-04-04

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